本发明专利技术属于电镀工艺技术领域，涉及一种在稀土永磁材料表面电镀碱铜的方法，尤其涉及一种在烧结钕铁硼永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法。本发明专利技术所述基于稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，通过将永磁体材料在强络合条件下进行常温预镀铜的方式，在保证镀层结合力的同时，有效降低了底层镍的磁屏蔽效应；进一步通过在预镀铜的基础上进行电镀碱铜处理，利用高主盐浓度的碱铜电镀液在电流密度低区形成平整致密的铜层，大幅降低镀层表面粗糙度Ra，提高了永磁材料镀层产品的性能，扩大了产品的应用范围。扩大了产品的应用范围。
【技术实现步骤摘要】
一种在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法
[0001]本专利技术属于电镀工艺
，涉及一种在稀土永磁材料表面电镀碱铜的方法，尤其涉及一种在烧结钕铁硼永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法。
技术介绍
[0002]钕铁硼作为高性能的磁体，已广泛应用于国防军事、航空航天、智能通讯及消费电子等高科技领域。但是，由于钕铁硼基体本身的一些特性，如基体容易氧化、基材多孔疏松等，一直以来对钕铁硼基体表面进行处理都是一个难点。尤其是随着消费电子产品的轻便化智能化的不断发展，以及智能化的组装线投入使用，对薄镀厚(铜镀厚小于4.5微米)、低粗糙度(Ra<0.20)的钕铁硼磁体的需求量在急剧增加，且镀层要求也越来越高。
[0003]然而，传统的直接基于钕铁硼材料表面进行镀铜的工艺产品中，铜层的镀层厚度多在5
‑
8微米左右，粗糙度Ra值高于0.40，并不能满足市场的需求，而目前市场上低粗糙度Ra值碱铜镀层的钕铁硼磁体材料产品的开发并不理想。有鉴于此，开发一种基于稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法及产品，对于钕铁硼磁体材料产品的推广具有积极的意义。
技术实现思路
[0004]为此，本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种基于稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜镀层的方法，进而获得表面粗糙度Ra值低的碱铜镀层产品；
[0005]本专利技术所要解决的第二个技术问题在于提供一种具有低粗糙度Ra值碱铜镀层的稀土永磁材料产品。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术所述的一种在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，包括如下步骤：
[0007](1)前处理：将待处理的永磁材料进行除油、酸洗及活化处理，备用；
[0008](2)预镀铜电镀处理：将处理后的所述永磁材料置于含碱式碳酸铜的预镀铜溶液中进行预镀铜电镀处理；
[0009](3)碱铜电镀处理：将上述预镀铜处理后的永磁材料置于碱铜溶液中进行碱铜电镀处理，即得。
[0010]具体的，所述步骤(2)中，所述预镀铜溶液包括：碱式碳酸铜5
‑
10g/L、HEDP 50
‑
60g/L，pH值9.0
‑
10.0；
[0011]具体的，所述步骤(2)中，所述预镀铜电镀处理步骤中，控制电流密度为0.1
‑
0.15A/dm2，采用滚筒转速为15
‑
17r/min，温度20
‑
30℃，电镀时间25
‑
35min。
[0012]具体的，所述步骤(2)中，所述预镀铜电镀处理步骤中，控制镀层厚度为0.3
‑
0.9μm。
[0013]具体的，所述步骤(3)中，所述碱铜溶液包括：碱式碳酸铜60
‑
80g/L，柠檬酸钾350
‑
400g/L，开缸剂60
‑
80ml/L，光亮剂0.8
‑
1.2ml/L，pH值为10.0
‑
11.0。
[0014]具体的，所述步骤(3)中，所述碱铜电镀处理步骤中，控制电流密度为0.1
‑
0.15A/dm2，采用滚筒转速为18
‑
20r/min，温度55
‑
65℃，电镀时间100
‑
200min。
[0015]具体的，所述步骤(3)中，所述碱铜电镀处理步骤中，控制镀层厚度为3
‑
4μm。
[0016]具体的，所述步骤(1)中：
[0017]所述除油步骤包括将所述永磁材料置于质量浓度为1.0
‑
1.5％的除油剂溶液中进行浸泡的步骤；优选的，所述除油步骤温度为55
‑
65℃，并在除油后水洗去除所述除油剂；
[0018]所述酸洗步骤包括将所述永磁材料置于质量浓度为1
‑
2％的硝酸溶液中进行浸泡的步骤；优选的，所述酸洗步骤时间80
‑
120s，并在酸洗后经超声水洗处理50
‑
70s；
[0019]所述活化步骤包括将所述永磁材料置于质量浓度为20
‑
40g/L的柠檬酸溶液中进行浸泡的步骤；优选的，所述活化步骤的时间为15
‑
25s，并进行充分水洗20
‑
30s。
[0020]本专利技术还公开了所述方法制备得到的表面电镀低粗糙度Ra值碱铜镀层的稀土永磁材料。
[0021]本专利技术所述基于稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，通过将永磁体材料在强络合条件下进行常温预镀铜的方式，在保证镀层结合力的同时，有效降低了底层镍的磁屏蔽效应；进一步通过在预镀铜的基础上进行电镀碱铜处理，利用高主盐浓度的碱铜电镀液在电流密度低区形成平整致密的铜层，大幅降低镀层表面粗糙度Ra，提高了永磁材料镀层产品的性能，扩大了产品的应用范围。
具体实施方式
[0022]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地说明。
[0023]实施例1
[0024]本实施例所述基于钕铁硼永磁材料表面进行电镀低粗糙度Ra值碱铜镀层的方法，选取材料为牌号52SH的永磁体，规格为8
×3×
0.4mm，研磨倒角为R0.1
‑
0.2；所述方法包括如下步骤：
[0025](1)前处理
[0026]除油：将所述永磁体置于质量浓度为1.2wt％的761金属除油剂溶液中，于温度60℃下进行浸渍除油处理120s，随后用60℃热水进行充分清洗60s；
[0027]酸洗：将上述除油处理后的永磁体置于质量浓度1.5wt％的硝酸溶液中，于室温下进行浸泡120s，随后以流动水进行水洗20s，并进行超声水洗60s；
[0028]活化：将上述酸洗后的所述永磁体置于浓度30g/L的柠檬酸溶液中，于室温下进行浸泡40s，随后经超声清洗60s，备用；
[0029](2)预镀铜
[0030]将上述前处理后的所述永磁体置于预镀铜槽内，加入预镀铜溶液(碱式碳酸铜6g/L、HEDP 50g/L，pH＝9.0)，于25℃温度下，控制电镀电流密度0.10A/dm2，电镀滚筒转速16r/min，进行预镀铜处理30min，得到预镀铜层厚度为0.54μm；
[0031](3)碱式碳酸铜盐镀铜
[0032]将上述预镀铜处理后的永磁体置于碱铜电镀溶液(碱式碳酸铜65g/L、柠檬酸钾360g/L、CS开缸剂70ml/L、CS
‑
1光亮剂1.0ml/L、pH＝10.0)中，于60℃温度下，控制电镀电流
密度0.10A/dm2，滚筒转速20r/min，进行碱铜电镀处理200min，电镀所得铜层厚度为3.8μm；即得表面电镀低粗糙度Ra值碱铜镀层的钕铁硼永磁材料。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)前处理：将待处理的永磁材料进行除油、酸洗及活化处理，备用；(2)预镀铜电镀处理：将处理后的所述永磁材料置于含碱式碳酸铜的预镀铜溶液中进行预镀铜电镀处理；(3)碱铜电镀处理：将上述预镀铜处理后的永磁材料置于碱铜溶液中进行碱铜电镀处理，即得。2.根据权利要求1所述在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述预镀铜溶液包括：碱式碳酸铜5
‑
10g/L、HEDP 50
‑
60g/L，pH值9.0
‑
10.0。3.根据权利要求2所述在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述预镀铜电镀处理步骤中，控制电流密度为0.1
‑
0.15A/dm2，采用滚筒转速为15
‑
17r/min，温度20
‑
30℃，电镀时间25
‑
35min。4.根据权利要求3所述在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述预镀铜电镀处理步骤中，控制镀层厚度为0.3
‑
0.9μm。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述在稀土永磁材料表面电镀低粗糙度Ra值碱铜的方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述碱铜溶液包括：碱式碳酸铜60
‑
...
【专利技术属性】
技术研发人员：许卫，张昕，刘晓旭，周义，孔令凯，晋良号，
申请(专利权)人：安泰科技股份有限公司北京空港新材分公司，
类型：发明
国别省市：
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