基于晶体加工用晶体提拉炉制造技术

本实用新型专利技术公开了基于晶体加工用晶体提拉炉，属于晶体提拉炉技术领域，以往的熔融炉因溶液表面温度散热不够均匀，导致晶体结构不够均匀，且保温热场无法根据熔融炉内的实际温度进行调整，包括底座，底座上表面固定设有多个支撑柱，支撑柱上端固定连接有防护罩层，保温层内设置有石墨碳毡，绝热层材质为透明玻璃纤维，使防护罩层密封隔离保护熔融炉，且通过锥形散热套使熔融炉内熔液表面热能散发减缓，使熔液表面的温度均匀，第二电机通过第二丝杆带动坩埚沿炉壳内上升，从而改变保温热场；第一电机通过第一丝杆带动凸形板沿导杆上下移动，并通过齿轮组带动籽晶杆转动，凸形板使籽晶杆上下移动，从而获取单晶体。从而获取单晶体。从而获取单晶体。

【技术实现步骤摘要】
基于晶体加工用晶体提拉炉


[0001]本技术涉及晶体提拉炉
，具体为基于晶体加工用晶体提拉炉。

技术介绍

[0002]晶体提拉法是将构成晶体的原料放在坩埚中加热熔化，在熔体表面接籽晶提拉熔体，在受控条件下，使籽晶和熔体在交界面上不断进行原子或分子的重新排列，随降温逐渐凝固而生长出单晶体，以往的熔融炉在晶体生长过程中，因溶液表面温度散热不够均匀，导致晶体结构不够均匀，且以往的坩埚均是固定式安装，导致保温热场固定，难以根据熔融炉内的实际温度进行调整，为此我们提出基于晶体加工用晶体提拉炉用于解决上述问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供基于晶体加工用晶体提拉炉，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：基于晶体加工用晶体提拉炉，包括底座，所述底座上表面固定设有多个支撑柱，所述支撑柱上端固定连接有防护罩层，所述防护罩层底端外表面固定连接有安装架，所述安装架上表面固定安装有旋转提拉组件，所述旋转提拉组件固定连接有熔晶组件，所述防护罩层内安装有熔融炉，所述熔晶组件底端贯穿熔融炉内，所述底座上表面固定设有升降组件，所述升降组件螺纹贯穿防护罩层与熔融炉。
[0005]作为本技术的一种优选技术方案，所述安装架包括有底板，所述底板侧面固定连接防护罩层底端外表面，所述底板上表面固定设有两个导杆，所述导杆上端固定连接有顶板，所述顶板上表面固定连接旋转提拉组件。
[0006]作为本技术的一种优选技术方案，所述旋转提拉组件包括有第一电机，所述第一电机固定安装于顶板上表面，所述第一电机输出端活动贯穿顶板，并固定连接有第一丝杆，所述第一丝杆底端螺纹贯穿有L形固定板，所述第一丝杆底端固定连接有连接轴，所述连接轴底端外滑动套接有滑套，所述连接轴外表面开设有花键槽，所述滑套内壁固定设有多个滑条，所述滑条滑动设于花键槽内，所述滑套底端固定连接有第一锥形齿轮轴，所述第一锥形齿轮轴底端转动连接有凸形板，所述凸形板上表面固定连接L形固定板底面，所述凸形板内滑动安装于导杆外表面，所述第一锥形齿轮轴啮合连接有第二锥形齿轮轴，所述第二锥形齿轮轴上转动连接有支撑块，所述支撑块底端固定设于凸形板上表面，所述第二锥形齿轮轴另一端固定连接熔晶组件。
[0007]作为本技术的一种优选技术方案，所述防护罩层包括有上法兰盘、下法兰盘，所述下法兰盘底面固定连接支撑柱上端，所述下法兰盘外表面固定连接底板侧面，所述上法兰盘与下法兰盘之间密封安装有保温层、绝热层。
[0008]作为本技术的一种优选技术方案，所述熔融炉包括有上封盖，所述上封盖内安装有冷却水进水管、冷却水出水管，所述上封盖底端密封连接有炉壳，所述上封盖底面固
定安装有锥形散热套，所述锥形散热套底端设有坩埚，所述炉壳外表面缠绕有加热线圈，所述炉壳底端安装有真空管，所述坩埚底面固定连接升降组件。
[0009]作为本技术的一种优选技术方案，所述升降组件包括有第二电机，所述第二电机底端固定设于底座上表面，所述第二电机输出端固定连接有第二丝杆，所述第二丝杆螺纹贯穿下法兰盘与炉壳，并固定连接有托盘，所述托盘上表面固定连接坩埚底面。
[0010]作为本技术的一种优选技术方案，所述熔晶组件包括有主动锥形齿轮，所述主动锥形齿轮固定连接第二锥形齿轮轴另一端，所述主动锥形齿轮啮合连接有从动锥形齿轮，所述从动锥形齿轮固定连接有籽晶杆，所述籽晶杆底端活动贯穿上封盖。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：
[0012]1.保温层内设置有石墨碳毡，绝热层材质为透明玻璃纤维，使防护罩层密封隔离保护熔融炉，且通过锥形散热套使熔融炉内熔液表面热能散发减缓，使熔液表面的温度均匀，第二电机通过第二丝杆带动坩埚沿炉壳内上升，从而改变保温热场；
[0013]2.第一电机通过第一丝杆带动凸形板沿导杆上下移动，并通过齿轮组带动籽晶杆转动，凸形板使籽晶杆上下移动，从而获取单晶体。
附图说明
[0014]图1为本技术结构示意图，
[0015]图2为本技术结构熔晶组件示意图，
[0016]图3为本技术结构图2中A处放大示意图，
[0017]图4为本技术结构滑套与连接轴示意图，
[0018]图5为本技术结构防护罩层示意图，
[0019]图6为本技术结构熔融炉示意图。
[0020]图中：1、底座；11、支撑柱；2、防护罩层；21、上法兰盘；22、下法兰盘；23、保温层；24、绝热层；3、安装架；31、底板；32、导杆；33、顶板；4、旋转提拉组件；41、第一电机；42、第一丝杆；43、L形固定板；44、凸形板；45、第一锥形齿轮轴；46、第二锥形齿轮轴；47、支撑块；48、滑套；481、滑条；49、连接轴；491、花键槽；5、熔融炉；51、上封盖；511、冷却水进水管；512、冷却水出水管；52、锥形散热套；53、炉壳；54、坩埚；55、加热线圈；56、真空管；6、升降组件；61、第二电机；62、第二丝杆；63、托盘；7、熔晶组件；71、主动锥形齿轮；72、从动锥形齿轮；73、籽晶杆。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]实施例：如图1
‑
6所示，本技术提供了基于晶体加工用晶体提拉炉，包括底座1，所述底座1上表面固定设有多个支撑柱11，所述支撑柱11上端固定连接有防护罩层2，防护罩层2用于使内部的环境与外界隔离，防止污染，所述防护罩层2底端外表面固定连接有安装架3，所述安装架3上表面固定安装有旋转提拉组件4，所述旋转提拉组件4固定连接有
熔晶组件7，通过旋转提拉组件4带动熔晶组件7转动，并实现上下移动，所述防护罩层2内安装有熔融炉5，所述熔晶组件7底端贯穿熔融炉5内，从而能提拉生长成的单晶体，所述底座1上表面固定设有升降组件6，所述升降组件6螺纹贯穿防护罩层2与熔融炉5，通过升降组件6使熔融炉5的保温热场进行调整。
[0023]进一步的，所述安装架3包括有底板31，所述底板31侧面固定连接防护罩层2底端外表面，所述底板31上表面固定设有两个导杆32，所述导杆32上端固定连接有顶板33，所述顶板33上表面固定连接旋转提拉组件4，从而旋转提拉组件4能被固定安装。
[0024]进一步的，所述旋转提拉组件4包括有第一电机41，所述第一电机41固定安装于顶板33上表面，所述第一电机41输出端活动贯穿顶板33，并固定连接有第一丝杆42，所述第一丝杆42底端螺纹贯穿有L形固定板43，所述第一丝杆42底端固定连接有连接轴49，所述连接轴49底端外滑动套接有滑套48，所述连接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于晶体加工用晶体提拉炉，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）上表面固定设有多个支撑柱（11），所述支撑柱（11）上端固定连接有防护罩层（2），所述防护罩层（2）底端外表面固定连接有安装架（3），所述安装架（3）上表面固定安装有旋转提拉组件（4），所述旋转提拉组件（4）固定连接有熔晶组件（7），所述防护罩层（2）内安装有熔融炉（5），所述熔晶组件（7）底端贯穿熔融炉（5）内，所述底座（1）上表面固定设有升降组件（6），所述升降组件（6）螺纹贯穿防护罩层（2）与熔融炉（5）。2.根据权利要求1所述的基于晶体加工用晶体提拉炉，其特征在于：所述安装架（3）包括有底板（31），所述底板（31）侧面固定连接防护罩层（2）底端外表面，所述底板（31）上表面固定设有两个导杆（32），所述导杆（32）上端固定连接有顶板（33），所述顶板（33）上表面固定连接旋转提拉组件（4）。3.根据权利要求2所述的基于晶体加工用晶体提拉炉，其特征在于：所述旋转提拉组件（4）包括有第一电机（41），所述第一电机（41）固定安装于顶板（33）上表面，所述第一电机（41）输出端活动贯穿顶板（33），并固定连接有第一丝杆（42），所述第一丝杆（42）底端螺纹贯穿有L形固定板（43），所述第一丝杆（42）底端固定连接有连接轴（49），所述连接轴（49）底端外滑动套接有滑套（48），所述连接轴（49）外表面开设有花键槽（491），所述滑套（48）内壁固定设有多个滑条（481），所述滑条（481）滑动设于花键槽（491）内，所述滑套（48）底端固定连接有第一锥形齿轮轴（45），所述第一锥形齿轮轴（45）底端转动连接有凸形板（44），所述凸形板（44）上表面固定连接L形固定板（43）底面，所述凸形板（44）内滑动安装于导杆（32）外表面，所述第一锥形齿轮轴（45）啮合连接有第二锥形齿轮轴（46），所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈浩，
申请(专利权)人：河南创合实验室设备有限公司，
类型：新型
国别省市：