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一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置制造方法及图纸

技术编号:33203506 阅读:17 留言:0更新日期:2022-04-24 00:44
本发明专利技术涉及一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置。把三维扫描激光放在真空靶外,简化了移动靶台和移动激光器所需的复杂设计,减少了装置经济成本。把待清洗的样品及收集装置放在真空靶室中进行,阻止了清洗目标逃逸到环境中污染环境,同时真空腔室起到防辐射作用,特别适用于剧毒样品和辐射类样品的清洗和收集,并且很好地保护了已清洗样品表面的洁净。样品安装台与等离子体吸收靶筒连上抑制电势,有效地阻止等离子体的逃逸,增加等离子的收集效率。独特的光路结构,光学机构做移动扫描运动时,总光程可实验自动补偿,激光聚焦光斑可自锁到样品靶面上。斑可自锁到样品靶面上。斑可自锁到样品靶面上。

【技术实现步骤摘要】
一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置


[0001]本专利技术涉及激光表面清洗和收集装置,尤其是涉及一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置。

技术介绍

[0002]激光表面清洗作为一项成熟技术已经广泛应用于工业领域,具有无研磨、非接触、无热效应和适用于各种材质物体的清洗等特点,激光清洗可以解决采用传统清洗方式无法解决的问题。其工作原理是激光束聚焦于固体表面,由于表面吸收高功率密度激光的能量后形成等离子体,等离子体冲击波进一步冲击周围杂质颗粒,使其剥离。应用过程中一般采用短脉冲激光,可以有效避免固体内表面受热损伤。
[0003]激光表面清洗需要完成激光束斑在样品表面的位置扫描,常见的激光表面清洗装置通常把移动机构设置样品靶台和移动激光器上。当是对有毒物质和辐射物质的表面清洗和收集时会导致环境污染和设备污染。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的就是为了提供一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置。
[0005]本专利技术的目的可以通过以下技术方案来实现:
[0006]一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置,包括直流电源,以及沿光路依次设置的第一方向移动聚焦透镜组件、固定反射镜、第二方向移动反射镜组件和第一方向移动反射镜组件和真空靶室,所述固定反射镜的入射光线和反射光线,以及第二方向移动反射镜组件的反射光线在同一平面中且与第一方向移动反射镜组件的反射光线第二方向;
[0007]所述真空靶室内设有等离子体屏蔽室,等离子体吸收室,等离子体吸收靶筒和样品安装台,且所述真空靶室、等离子体屏蔽室和等离子体吸收室上设有用于经由第一方向移动反射镜组件反射的光线射入至样品安装台上的入口,所述等离子体吸收室置于等离子体屏蔽室内,所述等离子体吸收靶筒和样品安装台均置于等离子体吸收室内,所述等离子体吸收靶筒位于样品安装台被光线照射的一侧;
[0008]所述等离子体屏蔽室连接至所述直流电源的正极,所述等离子体吸收室连接至直流电源的负极。
[0009]所述第一方向移动聚焦透镜组件包括聚焦透镜、透镜安装座和第一电动平移台组成,所述聚焦透镜通过透镜安装座安装于第一电动平移台上,所述第一电动平移台为一维电动平移台;
[0010]所述第二方向移动反射镜组件包括第一反射镜、第一反射镜安装座和第二电动平移台组成,所述第一反射镜通过第一反射镜安装座安装于第二电动平移台上,所述第二电动平移台为一维电动平移台;
[0011]所述第一方向移动反射镜组件包括第二反射镜、第二反射镜安装座和第三电动平移台组成,所述第二反射镜通过第二反射镜安装座安装于第三电动平移台上,所述第三电
动平移台为一维电动平移台;
[0012]所述第二反射镜的法线入射至第二反射镜的光线的夹角为45度。
[0013]所述第二反射镜的轴面和样品安装台平面呈90度设置。
[0014]所述等离子体屏蔽室和等离子体吸收室的主体均为金属空心圆柱筒。
[0015]所述金属空心圆柱筒的两端分别设有下滤网底板和上滤网盖板。
[0016]所述等离子体吸收靶筒为金属圆筒,通过螺栓固定安装于等离子体吸收室内壁。
[0017]所述金属圆筒的内壁经过磨砂处理。
[0018]所述样品安装台上的样品由绝缘安装件固定。
[0019]所述第一方向为水平方向,第二方向为竖直方向。
[0020]与现有技术相比,本专利技术具有以下有益效果:
[0021]1、本专利技术装置中把三维扫描激光放在真空靶外,通过控制三个电动平移台实现激光聚焦光斑在样品表面的三维扫描清洗。该设计不用移动样品靶台,也不用移动激光器,通过移动电动平移台上的安装镜座来实现三维扫描清洗。该设计简化了移动靶台或者激光器所需的复杂设计,减少了装置经济成本。
[0022]2、本专利技术装置中把待清洗的样品及收集装置放在真空靶室中进行,真空腔室很好地阻止了清洗目标逃逸到环境中污染环境。同时真空腔室还起到防辐射作用。本专利技术装置特别适用于剧毒样品和辐射类样品的清洗和收集。
[0023]3、本专利技术装置中把待清洗的样品及收集装置放在真空靶室中进行,杜绝了激光作用到样品表面时与背景气体的二次高温灼烧反应,很好地保护了已清洗样表面的洁净。
[0024]4、本专利技术装置中把等离子体屏蔽室与样品安装台的电位相连,为正电势区。把等离子体吸收室与等离子体吸收靶筒的电位相连,为负电势区。当激光轰击样品靶面产生等离子体时,等离子体中目标离子都是带正电荷,靶台的正电势把目标离子推向负电势区的离子体吸收靶筒。有效地防止等离子体的逃逸,增加等离子的收集效率。
[0025]5、本专利技术装置中独特的光路结构,把水平移动聚焦透镜组放在光路前,移动透镜时不会影响后方光路的准直性。把水平移动反射镜组上的反射镜面和样品靶台平面成90度安装,当水平移动该反射镜时,透镜中心到靶点的总光程自动补偿,激光聚焦光斑可自锁到样品靶面上。
附图说明
[0026]图1为本专利技术的原理示意图;
[0027]图2为本专利技术的结构示意图;
[0028]其中:1、水平移动聚焦透镜组件,2、固定反光镜,3、垂直移动反射镜组件,4、水平移动反射镜组件,5、真空靶室,6、样品,31、第一反射镜安装架,32、第一反射镜,41、第二反射镜安装架,42、第二反射镜,43、第三电动平移台,51、等离子体屏蔽室,52、等离子体吸收室,53、样品安装台,54、等离子体吸收靶筒,101、脉冲激光,102、激光等离子体。
具体实施方式
[0029]下面结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细说明。本实施例以本专利技术技术方案为前提进行实施,给出了详细的实施方式和具体的操作过程,但本专利技术的保护范围不限于
下述的实施例。
[0030]一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置,如图1和图2所示,包括直流电源,以及沿光路依次设置的水平方向移动聚焦透镜组件、固定反射镜、竖直方向移动反射镜组件和水平方向移动反射镜组件和真空靶室5,固定反射镜的入射光线和反射光线,以及竖直方向移动反射镜组件的反射光线在同一平面中且与水平方向移动反射镜组件的反射光线竖直方向;
[0031]真空靶室5内设有等离子体屏蔽室51,等离子体吸收室52,等离子体吸收靶筒54和样品6安装台,且真空靶室5、等离子体屏蔽室51和等离子体吸收室52上设有用于经由水平方向移动反射镜组件反射的光线射入至样品6安装台上的入口,等离子体吸收室52置于等离子体屏蔽室51内,等离子体吸收靶筒54和样品6安装台均置于等离子体吸收室52内,等离子体吸收靶筒54位于样品6安装台被光线照射的一侧。
[0032]等离子体屏蔽室51连接至直流电源的正极,等离子体吸收室52连接至直流电源的负极。
[0033]水平移动聚焦透镜组件1,用于通过水平移动透镜位置来调整入射到样品靶片上的激光聚焦光斑的深度位置。水平方向移动聚焦透镜组件包括聚焦透镜、透镜安装座和第一电动平移台组成,聚焦透镜通过透镜安装座安装于第一电动平移台上,第本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置,其特征在于,包括直流电源,以及沿光路依次设置的第一方向移动聚焦透镜组件、固定反射镜、第二方向移动反射镜组件和第一方向移动反射镜组件和真空靶室,所述固定反射镜的入射光线和反射光线,以及第二方向移动反射镜组件的反射光线在同一平面中且与第一方向移动反射镜组件的反射光线第二方向;所述真空靶室内设有等离子体屏蔽室,等离子体吸收室,等离子体吸收靶筒和样品安装台,且所述真空靶室、等离子体屏蔽室和等离子体吸收室上设有用于经由第一方向移动反射镜组件反射的光线射入至样品安装台上的入口,所述等离子体吸收室置于等离子体屏蔽室内,所述等离子体吸收靶筒和样品安装台均置于等离子体吸收室内,所述等离子体吸收靶筒位于样品安装台被光线照射的一侧;所述等离子体屏蔽室连接至所述直流电源的正极,所述等离子体吸收室连接至直流电源的负极。2.根据权利要求1所述的一种真空型三维扫描激光表面清洗和收集装置,其特征在于,所述第一方向移动聚焦透镜组件包括聚焦透镜、透镜安装座和第一电动平移台组成,所述聚焦透镜通过透镜安装座安装于第一电动平移台上,所述第一电动平移台为一维电动平移台;所述第二方向移动反射镜组件包括第一反射镜、第一反射镜安装座和第二电动平移台组成,所述第一反射镜通过第一反射镜安装座安装于第二电动平移台上,所述第二电动平移台为一维电动平移台;所述第一方向移动反射镜组件包括第...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄良玉魏宝仁傅云清姚科
申请(专利权)人:复旦大学
类型:发明
国别省市:

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