本发明专利技术提供了一种模型的高光渲染方法、装置及电子设备，通过预设的光照模型计算目标模型的初始高光参数；获取目标模型的形状梯度参数；其中，形状梯度参数表征目标模型的各个顶点之间的相对位置；基于形状梯度参数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数；基于高光参数对目标模型进行高光渲染。该方式在保障高光的渲染效果大致符合各向异性规律的同时，使得渲染效果具有一定的绘画风格，满足了非真实渲染场景的效果需求，同时也提高了高光的渲染效率。光的渲染效率。光的渲染效率。
【技术实现步骤摘要】
模型的高光渲染方法、装置及电子设备
[0001]本专利技术涉及模型渲染
，具体而言，涉及一种模型的高光渲染方法、装置及电子设备。
技术介绍
[0002]在非真实感渲染的虚拟场景中，在模型表现高光效果的同时，还需要模拟绘画的艺术表现效果。相关技术中，在进行非真实感渲染时，可以基于各向异性高光模型等光照模型，或采用手绘高光来渲染模型的高光。然而采用光照模型渲染高光的过程中，通常基于待渲染模型的切线数据与法线数据计算高光的辐照度，其计算结果遵循各向异性规律，再根据计算得到的辐照度进行模型的高光渲染。该方式渲染得到的模型的立体效果比较符合真实场景下的物理高光效果，但绘画效果较差。如果采用手绘高光进行渲染的方式，则渲染效率较低。
技术实现思路
[0003]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种模型的高光渲染方法、装置及电子设备，在保障高光的渲染效果大致符合各向异性规律的同时，使得渲染效果具有一定的绘画风格，提高高光的渲染效率。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供了一种模型的高光渲染方法，该方法包括：通过预设的光照模型计算目标模型的初始高光参数；获取目标模型的形状梯度参数；其中，形状梯度参数表征目标模型的各个顶点之间的相对位置；基于形状梯度参数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数；基于高光参数对目标模型进行高光渲染。
[0005]上述基于形状梯度参数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数的步骤，包括：通过目标函数将形状梯度参数映射至指定的数据范围内，得到目标模型的高光系数；基于高光系数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数。
[0006]上述基于高光系数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数的步骤，包括：将高光系数与初始高光参数乘积确定为目标模型的高光参数。
[0007]上述基于形状梯度参数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数的步骤，包括：通过目标函数对形状梯度参数与初始高光参数的乘积进行映射，得到目标模型的高光参数。
[0008]上述获取目标模型的形状梯度参数的步骤，包括：基于目标模型对应的纹理贴图，生成纹理贴图对应的有向距离场图像；纹理贴图包括目标模型的各个顶点的纹理贴图坐标；基于顶点的纹理贴图坐标对有向距离场图像的像素点进行采样处理，得到目标模型的形状梯度参数；形状梯度参数包括各个顶点在有向距离场图像对应的像素值。
[0009]上述基于目标模型对应的纹理贴图，生成纹理贴图对应的有向距离场图像的步骤，包括：生成包括目标模型对应的纹理贴图对应的蒙版图像；蒙版图像中，纹理贴图对应的像素点的像素值为第一像素值，除纹理贴图之外的图像对应的像素点的像素值为第二像
素值；计算蒙版图像中，各个像素点与设定区域的有向距离；设定区域包括第一像素值组成的图像区域，或第二像素值组成的图像区域；基于蒙版图像的分辨率，将各个像素点的有向距离映射为像素点对应的距离场像素值；基于各个像素点在蒙版图像的位置及对应的距离场像素值，生成蒙版图像对应的有向距离场图像。
[0010]上述基于顶点的纹理贴图坐标对有向距离场图像的像素点进行采样处理，得到目标模型的形状梯度参数的步骤之后，方法还包括：针对每个顶点，通过目标阈值对顶点在有向距离场图像对应的像素值进行归一化处理；将归一化处理后的各个顶点的像素值确定为目标模型的形状梯度参数。
[0011]第二方面，本专利技术实施例提供了一种模型的高光渲染装置，该装置包括：初始参数获取模块，用于通过预设的光照模型计算目标模型的初始高光参数；形状梯度参数获取模块，用于获取目标模型的形状梯度参数；其中，形状梯度参数表征目标模型的各个顶点之间的相对位置；参数调整模块，用于基于形状梯度参数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数；高光渲染模块，用于基于高光参数对目标模型进行高光渲染。
[0012]第三方面，本专利技术实施例提供了一种电子设备，包括处理器和存储器，存储器存储有能够被处理器执行的机器可执行指令，处理器执行机器可执行指令以实现上述的模型的高光渲染方法。
[0013]第四方面，本专利技术实施例提供了一种机器可读存储介质，该机器可读存储介质存储有机器可执行指令，机器可执行指令在被处理器调用和执行时，机器可执行指令促使处理器实现上述的模型的高光渲染方法。
[0014]本专利技术实施例带来了以下有益效果：
[0015]上述提供了一种模型的高光渲染方法、装置及电子设备，通过预设的光照模型计算目标模型的初始高光参数；获取目标模型的形状梯度参数；其中，形状梯度参数表征目标模型的各个顶点之间的相对位置；基于形状梯度参数对初始高光参数进行调整，得到目标模型的高光参数；基于高光参数对目标模型进行高光渲染。该方式在保障高光的渲染效果大致符合各向异性规律的同时，使得渲染效果具有一定的绘画风格，满足了非真实渲染场景的效果需求，同时也提高了高光的渲染效率。
[0016]本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
[0017]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本专利技术实施例提供的一种模型的高光渲染方法的流程图；
[0020]图2为本专利技术实施例提供的一种多个发片的UV壳的蒙版图像的示意图；
[0021]图3为本专利技术实施例提供的一种有向距离场图像的示意图；
[0022]图4为本专利技术实施例提供的一种采用Cook
‑
Torrance BRDF算法计算得到的高光进行渲染的高光效果图；
[0023]图5为本专利技术实施例提供的预处理后的距离场的示意图；
[0024]图6为本专利技术实施例提供的一种采用调整后的高光参数进行渲染的高光效果图；
[0025]图7为本专利技术实施例提供的另一种采用调整后的高光参数进行渲染的高光效果图；
[0026]图8为本专利技术实施例提供的一种模型的高光渲染装置的结构示意图；
[0027]图9为本专利技术实施例提供的一种电子设备的结构示意图。
具体实施方式
[0028]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0029]在实时的非真实感渲染(Non
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种模型的高光渲染方法，其特征在于，所述方法包括：通过预设的光照模型计算目标模型的初始高光参数；获取所述目标模型的形状梯度参数；其中，所述形状梯度参数表征所述目标模型的各个顶点之间的相对位置；基于所述形状梯度参数对所述初始高光参数进行调整，得到所述目标模型的高光参数；基于所述高光参数对所述目标模型进行高光渲染。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述形状梯度参数对所述初始高光参数进行调整，得到所述目标模型的高光参数的步骤，包括：通过目标函数将所述形状梯度参数映射至指定的数据范围内，得到所述目标模型的高光系数；基于所述高光系数对所述初始高光参数进行调整，得到所述目标模型的高光参数。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，基于所述高光系数对所述初始高光参数进行调整，得到所述目标模型的高光参数的步骤，包括：将所述高光系数与所述初始高光参数乘积确定为所述目标模型的高光参数。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述形状梯度参数对所述初始高光参数进行调整，得到所述目标模型的高光参数的步骤，包括：通过目标函数对所述形状梯度参数与所述初始高光参数的乘积进行映射，得到所述目标模型的高光参数。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，获取所述目标模型的形状梯度参数的步骤，包括：基于所述目标模型对应的纹理贴图，生成所述纹理贴图对应的有向距离场图像；所述纹理贴图包括所述目标模型的各个顶点的纹理贴图坐标；基于所述顶点的纹理贴图坐标对所述有向距离场图像的像素点进行采样处理，得到所述目标模型的形状梯度参数；所述形状梯度参数包括各个顶点在所述有向距离场图像对应的像素值。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，基于所述目标模型对应的纹理贴图，生成所述纹理贴图对应的有向距离场图像的步骤，包括：生成包括所述目标模型对应的纹理贴图的蒙版图像；所述蒙版图像中，所述纹理贴图对应...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘秉东，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：
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