掩模框架、掩模板以及掩模结构制造技术

本发明专利技术涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于主框体并至少部分位于蒸镀区域内；其中，遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，支撑面和限位面在第一方向上间隔设置，连接面连接于支撑面和限位面之间，支撑面、限位面以及连接面共同界定形成限位槽，限位槽用于限制掩模板移动。上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下，掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动导致蒸镀形成的显示面板发生混色不良现象，进而提高了显示面板的良品率。而提高了显示面板的良品率。而提高了显示面板的良品率。

【技术实现步骤摘要】
掩模框架、掩模板以及掩模结构


[0001]本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构。

技术介绍

[0002]在显示器件制造技术中，真空蒸镀用的掩模板是至关重要的部件，掩模板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩模板主要包括通用金属掩模板(Common Metal Mask，CMM)及精密金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)，其中精密金属掩模板用于使有机发光材料被蒸镀至基板的指定位置。
[0003]专利技术人在研究中发现，在蒸镀过程中，精密金属掩模板容易因为受到挤压产生流动而造成镂空部相对基板发生偏移，进而造成显示面板在显示时发生混色不良，从而降低了显示面板的生产良品率。

技术实现思路

[0004]基于此，本专利技术提供了一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，以解决遮挡条与掩模板容易产生相对移动的问题，避免了显示面板出现混色不良现象。
[0005]根据本申请的一个方面，提供一种掩模框架，用于在垂直于蒸镀面的第一方向上支撑掩模板，所述掩模框架包括：
[0006]主框体，围合形成蒸镀区域；及
[0007]遮挡条，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内；
[0008]其中，所述遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，所述支撑面和所述限位面在所述第一方向上间隔设置，所述连接面连接于所述支撑面和所述限位面之间，所述支撑面、所述限位面以及所述连接面共同界定形成限位槽，所述限位槽用于限制所述掩模板移动。
[0009]在其中一个实施例中，所述遮挡条包括：
[0010]第一遮挡部；
[0011]第二遮挡部，在所述第一方向上间隔设置于所述第一遮挡部的一侧；以及
[0012]支撑部，连接于所述第一遮挡部和所述第二遮挡部之间；
[0013]其中，所述第一遮挡部朝向所述第二遮挡部的一侧形成所述支撑面，所述支撑面用于在所述第一方向上支撑所述掩模板，所述第二遮挡部朝向所述第一遮挡部的一侧形成所述限位面，所述支撑部的侧面形成所述连接面。在其中一个实施例中，多条所述遮挡条沿垂直于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述支撑部位于所述遮挡条在所述第二方向上的中间位置，所述支撑部在所述第二方向上的相对两侧分别形成一个所述连接面。
[0014]在其中一个实施例中，所述支撑面和所述限位面分别垂直于所述第一方向。
[0015]在其中一个实施例中，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。
[0016]在其中一个实施例中，所述支撑面垂直于所述第一方向，所述限位面相对所述支撑面的距离自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大；或
[0017]所述支撑面自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧朝远离所述限位面的方向倾斜延伸，所述限位面自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧朝远离所述支撑面的方向倾斜延伸。
[0018]在其中一个实施例中，所述遮挡条还包括形成于所述支撑面上的限制部，所述限制部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限制槽。
[0019]根据本申请的一个方面，提供一种掩模板，所述掩模板可支撑于上述的掩模框架上，所述掩模板与所述遮挡条相邻设置且两者的延伸方向相同；
[0020]所述掩模板靠近所述遮挡条的端部限位于所述限位槽内并支撑于所述支撑面上，所述掩模板被所述限位槽限制移动。
[0021]在其中一个实施例中，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大；
[0022]所述掩模板伸入所述限位槽的端部在所述第一方向上的厚度自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。
[0023]在其中一个实施例中，所述遮挡条包括形成于所述支撑面上的限制部，所述限制部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限制槽；
[0024]所述掩模板包括与所述限制部互补的配合部，所述配合部为自所述掩模板接触所述支撑面的一侧表面向内凹陷的配合槽或向外凸出的配合凸起。
[0025]根据本申请的一个方面，提供一种掩模结构，包括上述的掩模框架及掩模板，所述掩模板的端部限位于所述限位槽内，且所述掩模板被所述限位槽限制移动。
[0026]上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下，掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动导致蒸镀形成的显示器件发生混色不良现象，进而提高了显示器件的良品率。
附图说明
[0027]图1为本专利技术一实施例的掩模结构的俯视图；
[0028]图2为图1所示掩模结构的遮挡条的A
‑
A向剖视图；
[0029]图3为本专利技术的第一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；
[0030]图4为本专利技术的第二实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；
[0031]图5为本专利技术的第三实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；
[0032]图6为本专利技术的一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；
[0033]图7为本专利技术的另一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；
[0034]图8为本专利技术的又一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；
[0035]附图标号说明：
[0036]100、掩模结构；20、掩模框架；21、主框体；23、遮挡条；231、限位槽；232、第一遮挡部；2321、支撑面；234、第二遮挡部；2341、限位面；236、支撑部；2361、连接面；238、限制部；40、掩模板；41、蒸镀面；43、玻璃面；45、蒸镀区；47、遮挡区；49、配合部。
具体实施方式
[0037]为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。
[0038]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0039]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0040]在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模框架，用于在垂直于蒸镀面的第一方向上支撑掩模板，其特征在于，所述掩模框架包括：主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内；其中，所述遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，所述支撑面和所述限位面在所述第一方向上间隔设置，所述连接面连接于所述支撑面和所述限位面之间，所述支撑面、所述限位面以及所述连接面共同界定形成限位槽，所述限位槽用于限制所述掩模板移动。2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述遮挡条包括：第一遮挡部；第二遮挡部，在所述第一方向上间隔设置于所述第一遮挡部的一侧；以及支撑部，连接于所述第一遮挡部和所述第二遮挡部之间；其中，所述第一遮挡部朝向所述第二遮挡部的一侧形成所述支撑面，所述支撑面用于在所述第一方向上支撑所述掩模板，所述第二遮挡部朝向所述第一遮挡部的一侧形成所述限位面，所述支撑部的侧面形成所述连接面。3.根据权利要求2所述的掩模框架，其特征在于，多条所述遮挡条沿垂直于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述支撑部位于所述遮挡条在所述第二方向上的中间位置，所述支撑部在所述第二方向上的相对两侧分别形成一个所述连接面。4.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑面和所述限位面分别垂直于所述第一方向。5.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。6.根据权利要求5所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑面垂直于所述第一方向，所述限位面相对所述支撑面的距离自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建强，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：