哒嗪化合物和除草剂制造技术

本发明专利技术涉及一种式(I)表示的化合物或其盐、以及含有选自它们中的至少一种作为有效成分的除草剂。式(I)中，R1表示取代或无取代C1～6烷基等，R2表示H、取代或无取代C1～6烷基等，R3表示H、取代或无取代C1～6烷基等，R4表示卤素基团、取代或无取代C1～6烷基等，R5表示氢原子或卤素基团，R6表示H或卤素基团，A表示取代或无取代C1～4亚烷基、取代或无取代C2～3亚烯基或取代或无取代C1～2亚烷氧基C1～2亚烷基，X1表示O或磺酰基，X2表示氧原子、硫基等，m表示0或1，n表示0或1，且m+n＝1或2，且A为取代或无取代亚甲基时，m+n＝2。m+n＝2。m+n＝2。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】哒嗪化合物和除草剂


[0001]本专利技术涉及哒嗪化合物和含有该哒嗪化合物作为有效成分的除草剂。
[0002]本申请基于2019年9月25日在日本申请的日本特愿2019－174532号主张优先权，并将其内容援引于此。

技术介绍

[0003]在农业园艺作物的栽培中，为了防除杂草，有时使用除草剂。作为除草剂的有效成分，迄今为止提出了各种化合物。
[0004]例如，专利文献1公开了式(A)表示的哒嗪化合物等。
[0005][0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：WO2013/050421

技术实现思路

[0009]对于除草剂，不仅要求杂草的防除效果优异，而且要求对作物的药害少，不易残留于环境且不污染环境等。
[0010]本专利技术的课题在于提供一种即便以低药量也起到可靠的杂草防除效果、对作物的药害少且对环境的安全性高、作为除草剂的有效成分有用的新型哒嗪化合物和除草剂。
[0011]为了实现上述课题而进行了研究，结果，完成了包含以下方式的本专利技术。
[0012][1]一种式(I)表示的化合物或其盐。
[0013][0014]式(I)中，
[0015]R1表示取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的
C2～6炔基、或者取代或无取代的C3～6环烷基，
[0016]R2表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的C2～6炔基、R
a
－CO－表示的基团、R
a
O－CO－表示的基团、R
a
NH－CO－表示的基团、R
a2
N－CO－表示的基团、R
a
－SO2－表示的基团、R
a
－CO－O－CR
b2
－表示的基团或R
a
O－CO－O－CR
b2
－表示的基团，
[0017]R
a
各自独立地表示取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的C2～6炔基、取代或无取代的C3～6环烷基、取代或无取代的苯基、取代或无取代的萘基、或者取代或无取代的5～6元杂环基，
[0018]R
b
各自独立地表示氢原子、或者取代或无取代的C1～6烷基，
[0019]R3表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的C2～6炔基、或者取代或无取代的C3～6环烷基，
[0020]R4表示卤素基团、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C1～6烷氧基、取代或无取代的苯基、取代或无取代的萘基、取代或无取代的5～6元杂芳基、或者氰基，
[0021]R5表示氢原子或卤素基团，
[0022]R6表示氢原子或卤素基团，
[0023]A表示取代或无取代的C1～4亚烷基、取代或无取代的C2～3亚烯基、或者取代或无取代的C1～2亚烷氧基C1～C2亚烷基，
[0024]X1表示氧原子或磺酰基，
[0025]X2表示氧原子、硫基(Sulfenyl)、亚磺酰基、磺酰基、－S(＝NR
c
)－表示的基团或－S(＝O)(＝NR
c
)－表示的基团，
[0026]R
c
各自独立地表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的苯基、取代或无取代的萘基、或者氰基，
[0027]m表示0或1，n表示0或1，并且
[0028]m与n的和为1或2，且A为取代或无取代的亚甲基时，m与n的和为2。
[0029]〔2〕一种除草剂，含有选自上述〔1〕所述的化合物和其盐中的至少一者作为有效成分。
[0030]〔3〕一种方法，是防除有用植物中的单子叶类和/或双子叶类的杂草的方法，包括对上述杂草和/或上述植物和/或其场所施用上述〔1〕所述的化合物或其盐、或者含有上述化合物的除草剂。
[0031]本专利技术的哒嗪化合物即便以低药量也起到可靠的杂草防除效果，对作物的药害少，且对环境的安全性高，因此作为除草剂的有效成分是有用的。本专利技术的除草剂可以在农业园艺作物的栽培中放心地用于防除杂草。
具体实施方式
[0032]本专利技术的哒嗪化合物(以下，为了简化有时称为“本专利技术化合物”)为式(I)表示的化合物(有时称为化合物(I)。)或化合物(I)的盐。化合物(I)也包含水合物、各种溶剂化物、结晶多晶型物等。化合物(I)可以存在基于不对称碳、双键等的立体异构体、互变异构体。这样的异构体和它们的混合物全部包含在本专利技术的技术范围中。
[0033]本说明书中使用的术语“无取代(unsubstituted)”是指仅为作为母核的基团。没
有“取代”的记载而仅用作为母核的基团的名称进行记载时，只要没有特别说明，就是指“无取代”。
[0034]另一方面，术语“取代(substituted)”是指作为母核的基团的任一氢原子被与母核相同或不同的结构的基团(取代基)取代。因此，“取代基”为键合于作为母核的基团的其它基团。取代基可以为1个，也可以为2个以上。2个以上的取代基可以相同，也可以不同。
[0035]“C1～6”等术语表示作为母核的基团的碳原子数为1～6个等。该碳原子数不包含取代基中存在的碳原子的个数。例如，具有乙氧基作为取代基的丁基分类为C2烷氧基C4烷基。
[0036]“取代基”只要化学上允许且具有本专利技术的效果，就没有特别限制。以下例示可成为“取代基”的基团。
[0037]甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基等C1～6烷基；
[0038]乙烯基、1－丙烯基、2－丙烯基(烯丙基)、1－丁烯基、2－丁烯基、3－丁烯基、1－甲基－2－丙烯基、2－甲基－2－丙烯基等C2～6烯基；
[0039]乙炔基、1－丙炔基、2－丙炔基、1－丁炔基、2－丁炔基、3－丁炔基、1－甲基－2－丙炔基等C2～6炔基；
[0040]环丙基、环丁基、环戊基、环己基等C3～6环烷基；
[0041]苯基、萘基；
[0042]苄基、苯乙基等苯基C1～6烷基；
[0043]3～6元杂环基；
[0044]3～6元杂环基C1～6烷基；
[0045]羟基；
[0046]甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基等C1～6烷氧基；
[0047]乙烯氧基、烯丙氧基、丙烯氧基、丁烯氧基等C2～6烯氧基；
[0048]乙炔氧基、丙炔氧基等C2～6炔氧基；
[0049]苯氧基、萘氧基；
[0050]苄氧基、苯乙基氧基等苯基C1～6烷氧基；
[0051]噻唑氧基、吡啶氧基等5～6元杂芳氧基；
[0052]噻唑基甲基氧基、吡啶基甲基氧基等5～6元杂芳基C1～6烷氧基；<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种式(I)表示的化合物或其盐，式(I)中，R1表示取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的C2～6炔基、或者取代或无取代的C3～6环烷基，R2表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的C2～6炔基、R
a
－CO－表示的基团、R
a
O－CO－表示的基团、R
a
NH－CO－表示的基团、R
a2
N－CO－表示的基团、R
a
－SO2－表示的基团、R
a
－CO－O－CR
b2
－表示的基团或R
a
O－CO－O－CR
b2
－表示的基团，R
a
各自独立地表示取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C2～6烯基、取代或无取代的C2～6炔基、取代或无取代的C3～6环烷基、取代或无取代的苯基、取代或无取代的萘基、或者取代或无取代的5～6元杂环基，R
b
各自独立地表示氢原子、或者取代或无取代的C1～6烷基，R3表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基...

【专利技术属性】
技术研发人员：三原健，池田庸二，泷友纪奈，加登一成，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：