一种清洗导流装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种清洗导流装置，活动嵌置于胶囊仓，胶囊仓上方设置向清洗导流装置注水的压合密封盖。清洗导流装置包括：杯体，杯体与压合密封盖围合形成遮蔽腔体，杯体内设置将遮蔽腔体隔离形成呈上下布置的清洗空腔与排污空腔的导流板，清洗空腔接收自压合密封盖输送的水，以在清洗空腔中形成冲刷压合密封盖的清洗状态。导流板开设有供水自清洗空腔流入排污空腔的溢流孔，单位时间内穿过溢流孔进入排污空腔的水量小于单位时间内自压合密封盖注入清洗空腔内的水量，杯体设置导流件。通过本实用新型专利技术，实现了对硅胶垫均匀且充分的冲刷，并且保证了清洗导流装置对于硅胶垫的清洗效果。效果。效果。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗导流装置


[0001]本技术涉及饮品设备领域，更具体涉及清洗导流装置。

技术介绍

[0002]随着人们对饮品口感日益增高的需求，采用萃取或冲泡形成制备即食饮品的饮品机在市场上越来越普及。以胶囊饮品机为例，胶囊饮品机配置用于萃取或冲泡密封有饮品粉料的单杯胶囊的胶囊仓，单杯胶囊由封口膜密封以避免装置于单杯胶囊内的饮品粉料接触空气后被污染，胶囊仓的上方设置有压合密封盖，压合密封盖设置有用于刺破封口膜并向单杯胶囊内注水的刺针。
[0003]由于封口膜含有张力，在刺针刺破封口膜时，封口膜上形成的孔洞的孔径大于刺针外径。随着水流不断注入单杯胶囊内，胶囊内原有的空气被压缩，当压合密封盖翻开时，单杯胶囊用于收容饮品粉料的腔体与外界连通，单杯胶囊内残留的液体在压缩空气的挤压下，会有部分液体喷溅到设置于压合密封盖下表面的硅胶垫上。硅胶垫位于多功能咖啡机内，因此很难清洗。长期使用后，硅胶垫上会形成污渍并滋生细菌，因此需要定期对硅胶垫进行清洗。
[0004]有鉴于此，有必要对现有技术中的清洗导流装置予以改进，以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于公开一种清洗导流装置，以解决现有技术中难以对设置于压合密封盖下表面的硅胶垫充分清洗的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了一种清洗导流装置，活动嵌置于胶囊仓，所述胶囊仓上方设置向所述清洗导流装置注水的压合密封盖，清洗导流装置包括：
[0007]具有敞口的杯体，所述杯体与压合密封盖围合形成遮蔽腔体，所述杯体内设置呈横向布置的导流板，所述导流板将所述遮蔽腔体隔离形成呈上下布置的清洗空腔与排污空腔，所述清洗空腔接收自压合密封盖输送的水，以在所述清洗空腔中形成冲刷压合密封盖的清洗状态；
[0008]其中，所述导流板开设有供水自所述清洗空腔流入所述排污空腔的溢流孔，单位时间内穿过所述溢流孔进入所述排污空腔的水量小于单位时间内自压合密封盖注入所述清洗空腔内的水量；
[0009]所述杯体设置导流件，所述导流件围合形成供所述排污空腔内的水穿过并排出所述杯体的出水通道。
[0010]作为本技术的进一步，所述溢流孔偏离于压合密封盖向所述清洗空腔注水的位置设置。
[0011]作为本技术的进一步，所述导流板与压合密封盖的距离自边缘向圆心呈先增大再减小设置，所述溢流孔开设与所述导流板的圆心处。
[0012]作为本技术的进一步，所述溢流孔到压合密封盖的距离大于0。
[0013]作为本技术的进一步，所述导流板的上表面形成若干条呈环形间隔分布的导流凸肋，相邻所述导流凸肋间隔形成螺旋通道，所述螺旋通道用于促进穿过所述螺旋通道的水流形成涡流。
[0014]作为本技术的进一步，所述排污空腔内设置若干呈竖直布置且相互交叉的肋板，所述肋板将所述排污空腔间隔形成若干条与所述出水通道连通的排污通道。
[0015]作为本技术的进一步，所述肋板的下端设置延伸至所述出水通道内的分流件，所述分流件用于将自所述出水通道流出所述杯体的水进行分流。
[0016]作为本技术的进一步，所述杯体的敞口边缘处远离杯体凸设托持部，所述托持部搁置于胶囊仓。
[0017]与现有技术相比，本技术的有益效果是：杯体与压合密封盖围合形成遮蔽腔体，杯体内设置的导流板将遮蔽腔体隔离形成呈上下布置的清洗空腔与排污空腔，清洗空腔用于接收自压合密封盖输送的水。当水蓄满清洗空腔后，水面与压合密封盖的下表面接触，从而实现了对设置于压合密封盖下表面的硅胶垫的冲洗；通过将导流板的竖直方向上的截面形状设置为向上延伸的弧线，并在导流板的上表面设置若干环形间隔分布的导流凸肋，使得水流形成向压合密封盖下表面冲击的涡流，从而实现了对硅胶垫均匀且充分的冲刷，提升了清洗导流装置对于硅胶垫的清洗效果。
附图说明
[0018]图1为本技术所揭示的一种清洗导流装置的一种实施方式的剖视图；
[0019]图2为图1所揭示的一种清洗导流装置的一种视角的立体图；
[0020]图3为图1所揭示的一种清洗导流装置的另一种视角的立体图；
[0021]图4为图3中A部分的放大图；
[0022]图5为本技术所揭示的一种清洗导流装置的另一种实施方式的剖视图；
[0023]图6为图5所揭示的一种清洗导流装置的半剖图。
具体实施方式
[0024]下面结合附图所示的各实施方式对本技术进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本技术的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本技术的保护范围之内。
[0025]需要理解的是，在本申请中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术方案和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术方案的限制。
[0026]实施例一
[0027]参图1至图4所示出的本技术所揭示的一种清洗导流装置的一种具体实施方式。
[0028]结合图1至图4所示，本实施例中，清洗导流装置包括：具有敞口的杯体10，杯体10包括侧壁11以及底部13，其中，杯体10的上端的端口处向远离杯体10的方向凸设托持部12，
杯体10的底部13的圆心处向下凸设导流件14，导流件14围合形成与杯体10连通的出水通道141。杯体10的敞口处向上抵持于压合密封盖(未示出)，即图1中所示的托持部12的上表面121与压合密封盖紧密接触，杯体10与压合密封盖围合形成遮蔽腔体100。杯体100内设置呈横向布置的导流板20，导流板20将遮蔽腔体100隔离形成呈上下布置的清洗空腔102与排污空腔101。清洗空腔102用于接收自压合密封盖向清洗导流装置输入的水，当自压合密封盖注入的水蓄满清洗空腔102时，水面与压合密封盖的下表面(即与清洗空腔102的接触面)接触，水继续注入清洗空腔102内，从而实现对设置于压合密封盖的下表面的硅胶垫的不间断冲洗。导流板20开设有溢流孔21，溢流孔21用于供冲洗硅胶垫后形成的污水穿过导流板20进入排污空腔101中。进一步地，单位时间内穿过溢流孔21进入排污空腔101的水量要少于单位时间内自压合密封盖注入清洗空腔102内的水量，使得清洗空腔102内的水能蓄满从而与压合密封盖的下表面接触，从而实现对设置于压合密封盖下表面的硅胶垫不间断冲洗。
[0029]具体的，如图1所示，溢流孔21偏离于压合密封盖的注水位置设置，即溢流孔21不与设置于压合密封盖上用于注水的刺针呈竖直上下对应设置，以避免自压合密封盖输送至清洗空腔102中的水直接自溢流孔21穿过导流板20进入排污空腔101中，从而无法实现在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗导流装置，活动嵌置于胶囊仓，所述胶囊仓上方设置向所述清洗导流装置注水的压合密封盖，其特征在于，包括：具有敞口的杯体，所述杯体与压合密封盖围合形成遮蔽腔体，所述杯体内设置呈横向布置的导流板，所述导流板将所述遮蔽腔体隔离形成呈上下布置的清洗空腔与排污空腔，所述清洗空腔接收自压合密封盖输送的水，以在所述清洗空腔中形成冲刷压合密封盖的清洗状态；其中，所述导流板开设有供水自所述清洗空腔流入所述排污空腔的溢流孔，单位时间内穿过所述溢流孔进入所述排污空腔的水量小于单位时间内自压合密封盖注入所述清洗空腔内的水量；所述杯体设置导流件，所述导流件围合形成供所述排污空腔内的水穿过并排出所述杯体的出水通道。2.根据权利要求1所述的清洗导流装置，其特征在于，所述溢流孔偏离于压合密封盖向所述清洗空腔注水的位置设置。3.根据权利要求2所述的清洗导流装置，其特征在于，所述导流板与压合密封盖的距离自...

【专利技术属性】
技术研发人员：严佳浩，唐鸣，丁阳，
申请(专利权)人：无锡鼎加弘思饮品科技有限公司，
类型：新型
国别省市：