采用腔镜镀高选择性介质膜产生1320nm激光的方法技术

一种采用腔镜镀高选择性介质膜产生１３２０ｎｍ激光的方法，在Ｎｄ∶ＹＡＧ激光装置上进行，实现１３２０ｎｍ激光的振荡输出，即全反镜与输出镜均镀对１０６４ｎｍ激光高透射率膜，以使１０６４ｎｍ波长的激光损耗增加而不能形成振荡，而对１３２０ｎｍ激光，全反镜镀对１３２０ｎｍ激光高反射率膜，输出镜镀对１３２０ｎｍ激光部分反射膜。高选择性介质膜的反射率：１３２０ｎｍ腔镜一端为全反镜，另一端为≥９０％，１０６４ｎｍ两端的反射镜均为≤３０％；透过率：１３２０ｎｍ腔镜为１０～１５％，１０６４ｎｍ两端的反射镜为３０～６０％。本发明专利技术的优点是：采用腔镜镀膜方法实现１３２０ｎｍ激光输出，方法简单易行且光路调整精度高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种激光装置，特别是一种采用腔镜镀高选择性介质 膜产生1320nm激光的方法。(二)
技术介绍
Nd:YAG激光装置的应用非常广泛，但是要实现Nd:YAG1320nm激 光振荡输出，则必须采取一定的措施使1064nm的起振阈值低1064nm， 让1320nm在谐振腔中最先振荡，然后通过粒子数竞争，抑制1064nm 振荡形成。目前采取的措施主要有以下三种1)在谐振腔光路中放 置特定设计的色散棱镜，利用色散效应将1064nm波偏折出腔外，使其 根本不能振荡，而腔内只有1320nm波驻留并建立振荡后输出；2)在 谐振腔内插入标准具，通过改变激光振荡的光程差，使标准具的透过 率随波长而变化，从而获得1320nm激光；3)利用一个特殊设计的谐 振反射器作输出镜，增加腔内1064nm的损耗，使其不能起振。这三种方法都相对复杂腔内插入色散棱镜的方法，增加了腔内 光学元件，不适合于高功率运转条件，且增加了插入损耗，调整难度 较大；插入标准具的方法，则要求标准具的插入损耗小、光学质量 好、加工精度高和调整精度要求高，这些不仅增加了成本，还使系统 复杂、调整难度大、系统的可靠性下降；特殊谐振反射器的设计复杂、 制作难度大，实用价值低。(三)
技术实现思路
本专利技术的目的是针对上述技术中的缺点，提供一种简单方便的采 用腔镜镀高选择性介质膜产生1320nm激光的方法。 本专利技术的技术方案一种，在 Nd:YAG激光装置上进行，其特征在于采用腔镜镀高选择性介质膜 的方法实现1320mxi激光的振荡输出，即全反镜与输出镜均镀对 1064nm激光高透射率膜，以使1064nm波长的激光损耗增加而不能形 成振荡，而对1320nm激光，全反镜镀对1320nm激光高反射率膜，输 出镜镀对1320mn激光部分反射膜。一种上述采用腔镜镀高选择性介质膜产生1320nra激光的方法，其 特征在于高选择性介质膜的反射率1320nm腔镜一端为全反镜，另一端为》90%; 1064nm两端的反射镜均为《309L一种上述，其 特征在于高选择性介质膜的透过率1320nm腔镜为10 15y。； 1064nm 两端的反射镜为30 60%。本专利技术的优点是采用腔镜镀高选择性介质膜方法实现1320nm 激光输出，方法简单易行、成本较低且光路调整精度高。(四) 附图说明釆用腔镜镀高选择性介质膜实现1320nm波长输出原理示意图。 图中l.输出镜 2-I.镀膜 2-II.镀膜3.Nd:YAG棒 4.全反镜具体实施方式 实施例一种，在 Nd:YAG激光装置上进行，系采用腔镜镀高选择性介质膜的方法实现 1320nm激光的振荡输出，即全反镜与输出镜均镀对1064nm激光高透 射率膜，以使1064nm波长的激光损耗增加而不能形成振荡，而对 1320nm激光，全反镜镀对1320nm激光高反射率膜，输出镜镀对1320nm 激光部分反射膜。附图给出采用腔镜镀高选择性介质膜实现1320nm 波长输出原理示意图，图中Nd:YAG棒3为工作介质，输出镜l和全反 镜4分别镀高选择性介质膜2-I和2-II;其中高选择性介质膜的反射 率1320皿腔镜一端为全反镜，另一端为90%， 1064nm两端的反射镜 均为15%，其原理为采用腔镜镀高选择性介质膜，膜层对1320nm 高反，对1064nm低反，尽可能增大谐振腔内1064nm的损耗，降低 1320nm的损耗，当膜层设计满足1320nm阈值低于1064nm时， Nd:YAG激光器将输出1320nm激光；高选择性介质膜的透过率 1320nm腔镜为10 %; 1064nm两端的反射镜为30 %，其原理为激光 器输出功率随T的改变而变化，在一定泵浦功率下，输出耦合镜的 透过率若太低，则腔内的光无法输出；若太强，则增加了损耗，使 得腔内的反馈很小，从而输出功率也很小，因此输出耦合镜存在一 个最佳透过率，这一最佳透过率随着泵浦功率的增加而增加。经试 验验证，本方法能够实现Nd:YAG1320nm激光振荡输出，且方法简单 易行、光路调整精度高。权利要求1.一种，在Nd:YAG激光装置上进行，其特征在于采用腔镜镀高选择性介质膜的方法实现1320nm激光的振荡输出，即全反镜与输出镜均镀对1064nm激光高透射率膜，以使1064nm波长的激光损耗增加而不能形成振荡，而对1320nm激光，全反镜镀对1320nm激光高反射率膜，输出镜镀对1320nm激光部分反射膜。2. 根据权利要求l所述的采用腔镜镀高选择性介质膜产生1320nm 激光的方法，其特征在于高选择性介质膜的反射率1320mn腔镜一 端为全反镜，另一端为》90%; 1064mn两端的反射镜均为《309L3. 根据权利要求l所述的采用腔镜镀高选择性介质膜产生1320nm 激光的方法，其特征在于高选择性介质膜的透过率1320nm腔镜为 10 15%; 1064腿两端的反射镜为30 60%。全文摘要一种，在Nd:YAG激光装置上进行，实现1320nm激光的振荡输出，即全反镜与输出镜均镀对1064nm激光高透射率膜，以使1064nm波长的激光损耗增加而不能形成振荡，而对1320nm激光，全反镜镀对1320nm激光高反射率膜，输出镜镀对1320nm激光部分反射膜。高选择性介质膜的反射率1320nm腔镜一端为全反镜，另一端为≥90％，1064nm两端的反射镜均为≤30％；透过率1320nm腔镜为10～15％，1064nm两端的反射镜为30～60％。本专利技术的优点是采用腔镜镀膜方法实现1320nm激光输出，方法简单易行且光路调整精度高。文档编号H01S3/08GK101150241SQ20061001571公开日2008年3月26日 申请日期2006年9月21日 优先权日2006年9月21日专利技术者徐封义, 郑惠明 申请人:天津市天坤光电技术有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用腔镜镀高选择性介质膜产生１３２０ｎｍ激光的方法，在Ｎｄ：ＹＡＧ激光装置上进行，其特征在于：采用腔镜镀高选择性介质膜的方法实现１３２０ｎｍ激光的振荡输出，即全反镜与输出镜均镀对１０６４ｎｍ激光高透射率膜，以使１０６４ｎｍ波长的激光损耗增加而不能形成振荡，而对１３２０ｎｍ激光，全反镜镀对１３２０ｎｍ激光高反射率膜，输出镜镀对１３２０ｎｍ激光部分反射膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐封义，郑惠明，
申请(专利权)人：天津市天坤光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]