光刻胶涂布设备及涂胶显影系统技术方案

本发明专利技术公开了一种光刻胶涂布设备及涂胶显影系统，其中，光刻胶涂布设备包括载台、驱动装置、供胶装置和第一柔性热电模块，其中，载台用于放置待涂布的晶圆；驱动装置与载台连接以带动载台旋转；供胶装置包括用于输送光刻胶的光刻胶管路；第一柔性热电模块用于调节温度，第一柔性热电模块与光刻胶管路连接。本发明专利技术提出的光刻胶涂布设备利用第一柔性热电模块对供胶装置的温度进行调节，避免了利用恒温水调温导致的安装不便以及泄露隐患，第一柔性热电模块不仅节省安装空间，而且提高了调温效果。而且提高了调温效果。而且提高了调温效果。

【技术实现步骤摘要】
光刻胶涂布设备及涂胶显影系统


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种光刻胶涂布设备及涂胶显影系统。

技术介绍

[0002]本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。
[0003]光刻胶涂布工艺是半导体硅片制造过程中的重要工艺，光刻胶涂布时，喷嘴将光刻胶胶液滴在晶圆上表面的中心位置，然后使晶圆转动匀胶，使光刻胶胶液均匀流动至覆盖整个晶圆的上表面，并使胶液在高速转动的离心力作用下迅速流动成膜，胶液中的稀释剂挥发后，在晶圆上形成了一定厚度的胶层。
[0004]在光刻胶涂布的过程中，需要保证晶圆以及光刻胶的温度处于设定的范围内，以免影响关键尺寸均匀度。例如，由于带动晶圆旋转的载台通常由电机等驱动装置进行驱动，而电机在工作过程中会产生大量的热，热量经过载台传递给晶圆，会影响晶圆涂布时的温度，故需要对其进行降温处理。
[0005]现有技术通常在光刻胶涂布设备中设置水管，利用水管中恒温水循环的方式来维持光刻胶涂布时所需要的温度，但恒温水管及水循环装置会占用较大的空间，而且恒温水管损坏会导致水泄露，影响半导体产品良率。

技术实现思路

[0006]本专利技术的第一方面提出了一种光刻胶涂布设备，所述光刻胶涂布设备包括：
[0007]载台，所述载台用于放置待涂布的晶圆；
[0008]驱动装置，所述驱动装置与所述载台连接以带动所述载台旋转；
[0009]供胶装置，所述供胶装置包括用于输送光刻胶的光刻胶管路；
[0010]第一柔性热电模块，所述第一柔性热电模块用于调节温度，所述第一柔性热电模块与所述光刻胶管路连接。
[0011]本专利技术的第二方面提出了一种涂胶显影系统，所述涂胶显影系统包括如上所述的光刻胶涂布设备。
附图说明
[0012]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的附图标记表示相同的部件。在附图中：
[0013]图1示意性地示出了根据本专利技术实施方式的光刻胶涂布设备的结构示意图；
[0014]图2示意性地示出了图1中法兰盘与一个柔性热电模块连接的仰视图；
[0015]图3示意性地示出了图1中法兰盘与多个柔性热电模块连接的仰视图。
[0016]附图标记如下：
[0017]100、光刻胶涂布设备；
[0018]10、载台；
[0019]20、驱动装置；21、法兰盘；
[0020]30、晶圆；
[0021]40、光刻胶管路；
[0022]51、第一柔性热电模块；52、第二柔性热电模块；
[0023]60、光刻胶喷嘴；
[0024]70、机械臂；
[0025]81、第一散热鳍片；82、第二散热鳍片。
具体实施方式
[0026]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解的是，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反的，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0027]应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”、“含有”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、步骤、操作、元件、部件、和/或它们的组合。文中描述的方法步骤、过程、以及操作不解释为必须要求它们以所描述或说明的特定顺序执行，除非明确指出执行顺序。还应当理解，可以使用另外或者替代的步骤。
[0028]尽管可以在文中使用术语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部段，但是，这些元件、部件、区域、层和/或部段不应被这些术语所限制。这些术语可以仅用来将一个元件、部件、区域、层或部段与另一区域、层或部段区分开。除非上下文明确地指出，否则诸如“第一”、“第二”之类的术语以及其它数字术语在文中使用时并不暗示顺序或者次序。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部段在不脱离示例实施方式的教导的情况下可以被称作第二元件、部件、区域、层或部段。
[0029]为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“内部”、“外部”、“内侧”、“外侧”、“下面”、“下方”、“上面”、“上方”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中装置的不同方位。例如，如果在图中的装置翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在
……
下方”可以包括在上和在下的方位。装置可以另外定向(旋转90度或者在其它方向)并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。
[0030]如图1至图3所示，根据本专利技术的实施方式，本专利技术提出了一种光刻胶涂布设备100，该光刻胶涂布设备100包括载台10、驱动装置20、供胶装置和第一柔性热电模块51，其中，载台10用于放置待涂布的晶圆30；驱动装置20与载台10连接以带动载台10旋转；供胶装
置包括用于输送光刻胶的光刻胶管路40；第一柔性热电模块51用于调节温度，第一柔性热电模块51与光刻胶管路40连接。
[0031]在上述实施方式的基础上，本专利技术实施例在光刻胶涂布设备100中设置了第一柔性热电模块51，利用第一柔性热电模块51与供胶装置的光刻胶管路40连接，从而起到调节光刻胶管路40内光刻胶温度的作用。需要说明的是，本实施例中所说的调节温度可以包括降温和升温，第一柔性热电模块51通过降温或者升温保证与其连接的装置处于设定的温度范围内，从而防止因温度不合适导致的产品缺陷；第一柔性热电模块51的温度范围可以设置为5℃-80℃。
[0032]需要说明的是，第一柔性热电模块51在本实施例中用于温度控制，第一柔性热电模块51能够将温差转换为电功率，在一些可能的实施方式中，第一柔性热电模块51通常包括电连接的多个N型热电元件和P型热电元件，从而将温差转换为电功率。本实施例中，供胶装置的光刻胶管路40也可以与一个或多个第一柔性热电模块51连接，第一柔性热电模块51的具体数量可以根据实际情况进行选择。此外，供胶装置中除光刻胶管路40外的其他需要调节温度的部位，也可以与第一柔性热电模块51连接。
[0033]如图1所示，光刻胶涂布设备100包括供胶装置，供胶装置包括用于输送光刻胶的光刻胶管路40，由于光刻胶涂布设备100在工作状态下需要维持在设定的温度范围内，因本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶涂布设备，其特征在于，包括：载台，所述载台用于放置待涂布的晶圆；驱动装置，所述驱动装置与所述载台连接以带动所述载台旋转；供胶装置，所述供胶装置包括用于输送光刻胶的光刻胶管路；第一柔性热电模块，所述第一柔性热电模块用于调节温度，所述第一柔性热电模块与所述光刻胶管路连接。2.根据权利要求1所述的光刻胶涂布设备，其特征在于，所述第一柔性热电模块包括柔性基板和多个热电元件，多个所述热电元件安装在所述柔性基板上。3.根据权利要求1所述的光刻胶涂布设备，其特征在于，所述第一柔性热电模块包裹在所述光刻胶管路上。4.根据权利要求1所述的光刻胶涂布设备，其特征在于，所述光刻胶涂布设备还包括第一散热鳍片，所述第一散热鳍片设置在所述第一柔性热电模块的外围。5.根据权利要求1所述的光刻胶涂布设备，其特征在于，所述驱动装置包括电机，所述光刻胶涂布设备还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：金在植，张成根，林锺吉，贺晓彬，李亭亭，刘金彪，杨涛，
申请(专利权)人：真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：