一种在线式半导体真空等离子处理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种在线式半导体真空等离子处理设备，包括第一滑块、底板、万向脚轮、活动门板和报警三色灯底座，所述第一滑块顶部连接有第一推料杆，所述多层料盒底部设置有升降台，所述传送带输送轨道上方设有扫码装置，所述传送带输送轨道底部滑动连接有第三滑轨，所述底板下方设置有升降底板，所述底板底部滑动连接有第四滑轨，所述升降底板底部滑动连接有第五滑轨，所述顶升机构上方安装有清洗腔体。本发明专利技术通过设计的第一推料杆、升降台、多层料盒、第二推料杆、底板、升降底板、顶升机构和清洗腔体，构成了一套自动化的设备，既可对产品进行自动上料和下料，还可让产品在真空等离子系统进行全方位的清洗，提高清洗的效果。提高清洗的效果。提高清洗的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种在线式半导体真空等离子处理设备


[0001]本专利技术涉及等离子处理设备
，具体涉及一种在线式半导体真空等离子处理设备。

技术介绍

[0002]目前的半导体等离子清洗机，基本都是人工将料盒放入等离子的腔体中进行清洗，这种清洗的方式效果不好，料盒的中间部分清洗的不干净，会有较多的残留，导致半导体等离子清洗机的效率大大降低。
[0003]现有的，例如公开号CN1842241于2006年10月4日，公开了半导体等离子处理设备及方法，仅仅是通过设置的远程和电感耦合等离子源，产生大量的足以进行蚀刻过程的基团和离子，让蚀刻反应活泼地进行，从而提高蚀刻效率，消除了电感耦合等离子源经常产生的侧边基团浓度较高的现象，从而提高了其中的蚀刻均匀性。
[0004]因此，专利技术一种在线式半导体真空等离子处理设备来解决上述问题很有必要。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种在线式半导体真空等离子处理设备，以解决技术中半导体等离子清洗机基本都是靠人工将料盒放入等离子的腔体中进行清洗导致料盒的中间部分清洗效果不好，效率低下的问题以及无法实现产品的自动化在线真空等离子清洗的问题。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种在线式半导体真空等离子处理设备，包括第一滑轨、第一滑块、第二滑轨、第二滑块、支撑柱、传送带输送轨道、底板、顶升机构安装口、散热风扇安装口、散热孔、连接架、万向脚轮、活动门板和报警三色灯底座，所述第一滑轨内侧设置有升降台，所述第一滑块顶部连接有第一推料杆，所述第二滑轨和第二滑块两者互相匹配，所述第一推料杆外侧设置有多个多层料盒，所述多层料盒底部设置有升降台，所述支撑柱顶部连接有第三滑轨，所述传送带输送轨道上方设有扫码装置，所述传送带输送轨道底部滑动连接有第三滑轨，所述扫码装置下方设有输送部件，所述底板下方设置有升降底板，所述底板底部滑动连接有第四滑轨，所述升降底板底部滑动连接有第五滑轨，所述升降底板下方安装有隔板，所述顶升机构安装口内部设有顶升机构，所述顶升机构上方安装有清洗腔体，所述顶升机构两侧均设置有第四滑轨和第五滑轨，所述散热风扇安装口内部安装有散热风扇，所述散热孔有若干个开设于工作台外壳表面，所述万向脚轮的数量设置为多个，所述工作台外壳底部固定连接有下底座外壳，所述活动门板表面设置有透明视窗，所述报警三色灯底座顶端固定连接有报警三色灯。
[0007]优选的：所述下底座外壳顶部设置有隔板，所述下底座外壳侧面开设有散热风扇安装口，所述下底座外壳下方安装有万向脚轮，使得散热风扇可以安装在散热风扇安装口的内部，便于对整个设备进行散热作业。
[0008]优选的：所述隔板上表面设置有第一滑轨，所述支撑腿上方安装有第二滑块，所述
第一滑轨设置于隔板表面，所述第一滑轨和第一滑块两者互相匹配，使得第一滑块可以在第一滑轨上面进行移动，带动第一推料杆向前移动，进而使得料片单片被向前推出。
[0009]优选的：所述第一伺服电机下方设置有支撑腿，所述多层料盒外侧设置有第二推料杆，所述第二推料杆上方安装有传送带输送轨道，使得第二推料杆可以将料片单片进行向前输送。
[0010]优选的：所述输送部件两侧设置有支撑柱，所述支撑柱上方安装有传送带驱动装置，所述传送带输送轨道的轨道内部设置有传送带，所述传送带驱动装置下方安装有隔板，便于传送带带动扫码装置进行移动，对料片单片进行扫码作业。
[0011]优选的：所述第三滑轨下方安装有底板，所述支撑架底部固定连接有隔板，所述支撑架顶部设置有第三滑轨，使得传送带可以在第三滑轨上移动。
[0012]优选的：所述第四滑轨斜下方设有第五滑轨，所述第二伺服电机外侧安装有第四滑轨，所述第二伺服电机下方设置有隔板，所述顶升机构安装口开设于隔板表面，便于顶升机构将升降底板进行抬升。
[0013]优选的：所述固定板侧面固定连接有清洗腔体，所述清洗腔体设置于工作台外壳内部，所述散热风扇安装口有若干个开设于工作台外壳侧面，便于对料片单片进行全方位的清洗作业。
[0014]优选的：所述连接架顶端固定连接有下底座外壳，所述工作台外壳顶部设置有报警三色灯底座，所述活动门板设置于工作台外壳正面，所述活动门板的数量设置为若干个，便于工作人员对工作台外壳内部进行维修和保养。
[0015]优选的：所述透明视窗外侧设置有门板把手，所述门板把手安装于活动门板表面，所述人机界面安装于工作台外壳正面，便于工作人员通过透明视窗，观察到内部设备的运行状况。
[0016]在上述技术方案中，本专利技术提供的技术效果和优点：
[0017]通过设计的第一推料杆、升降台、多层料盒、第二推料杆、底板、升降底板、顶升机构和清洗腔体，构成了一套自动化的设备，可以自动的将要进行清洗的产品进行上料和下料作业，极大的节省了人力，还可以让要进行清洗的产品在真空等离子系统进行全方位的清洗，提高清洗的效果，提高了生产效率；
[0018]通过设计的底板、升降底板、第四滑轨、第五滑轨和顶升机构，使得底板和升降底板会相互交错处理产品，以便更高效的生产，提升产能，通过设计的多个散热风扇和散热孔，可以为运行的设备进行散热作业，使得设备可以长时间、高效率的进行作业，通过设计的万向脚轮，便于对整个设备进行移动，增强了设备的实用性。
附图说明
[0019]图1为本专利技术的整体结构示意图；
[0020]图2为本专利技术第一推料杆的立体结构示意图；
[0021]图3为本专利技术输送部件的立体结构示意图；
[0022]图4为本专利技术多层料盒的立体结构示意图；
[0023]图5为本专利技术扫码装置的结构示意图；
[0024]图6为本专利技术图3中A处放大的结构示意图；
[0025]图7为本专利技术清洗腔体的立体结构示意图；
[0026]图8为本专利技术散热风扇的立体结构示意图。
[0027]附图标记说明：
[0028]1、下底座外壳；2、隔板；3、支撑腿；4、第一滑轨；5、第一滑块；6、第二滑轨；7、第二滑块；8、第一伺服电机；9、第一推料杆；10、升降台；11、多层料盒；12、第二推料杆；13、输送部件；14、支撑柱；15、传送带输送轨道；16、传送带驱动装置；17、传送带；18、扫码装置；19、底板；20、升降底板；21、第三滑轨；22、支撑架；23、第四滑轨；24、第二伺服电机；25、第五滑轨；26、顶升机构安装口；27、顶升机构；28、固定板；29、清洗腔体；30、散热风扇安装口；31、散热风扇；32、散热孔；33、连接架；34、万向脚轮；35、工作台外壳；36、活动门板；37、透明视窗；38、门板把手；39、人机界面；40、报警三色灯底座；41、报警三色灯。
具体实施方式
[0029]为了使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面将结合附图对本专利技术作进一步的详细介绍。
[0030]本专利技术提供了如图1
‑
8所示的一种在线式半导体真空等离子处理设备，包括第一滑轨4、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种在线式半导体真空等离子处理设备，包括第一滑轨(4)、第一滑块(5)、第二滑轨(6)、第二滑块(7)、支撑柱(14)、传送带输送轨道(15)、底板(19)、顶升机构安装口(26)、散热风扇安装口(30)、散热孔(32)、连接架(33)、万向脚轮(34)、活动门板(36)和报警三色灯底座(40)，其特征在于：所述第一滑轨(4)内侧设置有升降台(10)，所述第一滑块(5)顶部连接有第一推料杆(9)，所述第二滑轨(6)和第二滑块(7)两者互相匹配，所述第一推料杆(9)外侧设置有多个多层料盒(11)，所述多层料盒(11)底部设置有升降台(10)，所述支撑柱(14)顶部连接有第三滑轨(21)，所述传送带输送轨道(15)上方设有扫码装置(18)，所述传送带输送轨道(15)底部滑动连接有第三滑轨(21)，所述扫码装置(18)下方设有输送部件(13)，所述底板(19)下方设置有升降底板(20)，所述底板(19)底部滑动连接有第四滑轨(23)，所述升降底板(20)底部滑动连接有第五滑轨(25)，所述升降底板(20)下方安装有隔板(2)，所述顶升机构安装口(26)内部设有顶升机构(27)，所述顶升机构(27)上方安装有清洗腔体(29)，所述顶升机构(27)两侧均设置有第四滑轨(23)和第五滑轨(25)，所述散热风扇安装口(30)内部安装有散热风扇(31)，所述散热孔(32)有若干个开设于工作台外壳(35)表面，所述万向脚轮(34)的数量设置为多个，所述工作台外壳(35)底部固定连接有下底座外壳(1)，所述活动门板(36)表面设置有透明视窗(37)，所述报警三色灯底座(40)顶端固定连接有报警三色灯(41)。2.根据权利要求1所述的一种在线式半导体真空等离子处理设备，其特征在于：所述下底座外壳(1)顶部设置有隔板(2)，所述下底座外壳(1)侧面开设有散热风扇安装口(30)，所述下底座外壳(1)下方安装有万向脚轮(34)。3.根据权利要求2所述的一种在线式半导体真空等离子处理设备，其特征在于：所述隔板(2)上表面设置有第一滑轨(4)，所述支撑腿(3)上方安装有第二滑块(7)，所述第一滑轨...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱志山，
申请(专利权)人：苏州爱特维电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：