载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法。提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。一种载置台装置，具备：第1载置台，能够移动；第2载置台，能够在所述第1载置台之上移动；以及控制部，将所述第2载置台相对于所述第1载置台的倾斜量控制成目标倾斜量，在所述载置台装置中，所述控制部根据所述第1载置台的移动区间来设定所述目标倾斜量而控制所述倾斜量。标倾斜量而控制所述倾斜量。标倾斜量而控制所述倾斜量。

【技术实现步骤摘要】
载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法


[0001]本专利技术涉及载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法。

技术介绍

[0002]在用于制造半导体设备等的光刻装置中，有时当在基板上形成图案时使该基板倾斜。例如，在专利文献1中，作为使曝光装置中的焦点深度扩大的手法，提出了使原版(掩模)的图案成像于光轴方向的不同的位置的FLEX(Focus Latitude Enhancement Exposure，扩大调焦范围曝光)法。当在扫描曝光装置中实施基于该FLEX法的曝光的情况下，在相对于投影光学系统的像面而使基板倾斜的状态下对该基板进行扫描驱动。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2020
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071274号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]在光刻装置中，例如，有时使用具备粗动载置台(第1载置台)和能够保持基板而在该粗动载置台之上移动的微动载置台(第2载置台)的基板载置台。在这样的基板载置台中，能够通过控制微动载置台相对于粗动载置台的倾斜量来控制基板的倾斜(姿势)。
[0008]然而，当使第2载置台相对于第1载置台倾斜时，与其倾斜量相应地，可能产生第1载置台与第2载置台的间隙变小的部位。因此，取决于该倾斜量的控制偏差，有可能第1载置台与第2载置台产生干扰(接触)。例如，在使第1载置台加速或减速的加减速区间，与使第1载置台匀速移动的匀速区间相比，倾斜量的控制偏差大，产生该干扰的可能性变高。
[0009]因此，本专利技术的目的在于提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。
[0010]解决课题的手段
[0011]为了达到上述目的，作为本专利技术的一个方面的载置台装置的特征在于，具备：第1载置台，能够移动；第2载置台，能够在所述第1载置台之上移动；以及控制部，将所述第2载置台相对于所述第1载置台的倾斜量控制成目标倾斜量，所述控制部根据所述第1载置台的移动区间来设定所述目标倾斜量而控制所述倾斜量。
[0012]本专利技术的进一步的目的或者其他方面将通过以下参照附图说明的优选的实施方式而变得清楚。
[0013]专利技术的效果
[0014]根据本专利技术，例如，能够提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。
附图说明
[0015]图1是示出曝光装置的结构的概略图。
[0016]图2是示出基板载置台的结构例的图。
[0017]图3是用于说明粗动载置台以及微动载置台的结构的图。
[0018]图4是用于说明微动载置台相对于粗动载置台的倾斜量的图。
[0019]图5是示出以往的控制例中的粗动载置台的移动速度、微动载置台的目标倾斜量以及间隙的大小的图。
[0020]图6是示出第1实施方式的控制例中的粗动载置台的移动速度、微动载置台的目标倾斜量以及间隙的大小的图。
[0021]图7是第1实施方式的载置台装置的控制框图。
[0022]符号说明
[0023]60：曝光装置；62：原版载置台；64：基板载置台；65：控制部；STG1：粗动载置台(第1载置台)；STG2：微动载置台(第2载置台)。
具体实施方式
[0024]以下，参照附图详细地说明实施方式。此外，与权利要求书相关的专利技术不限于以下的实施方式。在实施方式中记载有多个特征，但这多个特征并非全部都是专利技术所必需的，另外，多个特征也可以任意地组合。而且，在附图中，对相同或同样的结构附加相同的附图标记，省略重复的说明。
[0025]在本说明书及附图中，在将与用于对基板进行曝光的曝光光的光轴垂直的方向作为XY平面的XYZ坐标系中表示方向。将与XYZ坐标系中的X轴、Y轴、Z轴分别平行的方向设为X轴方向、Y轴方向、Z轴方向，将绕X轴的旋转、绕Y轴的旋转、绕Z轴的旋转分别设为θX、θY、θZ。与X轴、Y轴、Z轴有关的控制或者驱动分别意味着与X轴方向、Y轴方向、Z轴方向有关的控制或者驱动。另外，与θX轴、θY轴、θZ轴有关的控制或者驱动分别意味着与绕X轴的旋转方向、绕Y轴的旋转方向、绕Z轴的旋转方向有关的控制或者驱动。另外，位置是能够根据X轴、Y轴、Z轴的坐标而确定的信息，倾斜(姿势)是能够利用θX轴、θY轴、θZ轴的值确定的信息。定位意味着控制位置以及/或者倾斜(姿势)。此外，在以下的说明中，在记载为“X轴方向”的情况下，其能够定义为包括+X方向以及－X方向。关于“Y轴方向”以及“X轴方向”也是相同的。
[0026]在以下的实施方式中，说明将本专利技术所涉及的载置台装置应用于将作为原版的掩模的图案转印到基板上(对基板进行曝光)的曝光装置的例子，但并不限于此。例如，在使用作为原版的模对基板上的组成物进行成形的成形装置(压印装置、平坦化装置)、使用带电粒子线在基板上形成图案的描绘装置等光刻装置中，也能够应用本专利技术所涉及的载置台装置。
[0027]<第1实施方式>
[0028]说明本专利技术的第1实施方式。图1是示出本实施方式中的曝光装置60的结构的概略图。曝光装置60例如设为用于半导体设备的制造工序、通过步进扫描(step and scan)方式对基板W进行曝光、将原版R的图案转印到基板W上的扫描曝光装置。本实施方式的曝光装置60例如具备照明系统61、保持原版R的原版载置台62、投影光学系统63、保持基板W的基板载置台64以及控制部65。此外，以下，将与从投影光学系统63射出而照射到基板W的光(曝光
光)的光轴平行的方向设为Z轴方向，将在与该光轴垂直的面内相互正交的方向设为X轴方向以及Y轴方向。另外，将基板W的扫描曝光时的基板W的扫描方向设为Y轴方向(+Y方向或者－Y方向)。
[0029]照明系统61调整从未图示的光源照射的光，对原版R进行照明。原版R上形成有应转印到基板W上的图案(例如电路图案)。原版R例如是石英玻璃制，也被称为掩模或者中间掩模(reticle)。原版载置台62是用于在多个轴方向(例如，X轴、Y轴、Z轴、θX轴、θY轴、θZ轴这6个轴方向)中的每个轴方向上驱动原版R的驱动机构，被构成为能够保持原版R而移动。投影光学系统63以预定的投影倍率将利用来自照明系统61的光照明的原版R上的图案的像投影到基板W上。基板W是在表面上涂敷有抗蚀剂(感光剂)的、例如由单晶硅构成的基板。基板载置台64具有保持基板W的卡盘(chuck)，是用于在多个轴方向(例如，X轴、Y轴、Z轴、θX轴、θY轴、θZ轴这6个轴方向)中的每个轴方向上驱动基板W的驱动机构，能够被构成为能够保持基板W而移动。
[0030]控制部65例如由具有CPU、存储器等的计算机构成，经由线路连接到曝光装置60的各构成元素，能够依照程序来执行各构成元素的控制。控制部65既可以与曝光装置60的其他部分一体地(在共同的壳体内)构成，也可以与曝光装置60的其他部分分开地(在不同的壳体内)构成。
[0031]在上述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种载置台装置，其特征在于，具备：第1载置台，能够移动；第2载置台，能够在所述第1载置台之上移动；以及控制部，将所述第2载置台相对于所述第1载置台的倾斜量控制成目标倾斜量，所述控制部根据所述第1载置台的移动区间来设定所述目标倾斜量而控制所述倾斜量。2.根据权利要求1所述的载置台装置，其特征在于，所述控制部在使所述第1载置台匀速移动的匀速区间，根据第1目标倾斜量来控制所述倾斜量，在使所述第1载置台加速或减速的加减速区间，根据比所述第1目标倾斜量小的第2目标倾斜量来控制所述倾斜量。3.根据权利要求2所述的载置台装置，其特征在于，所述第1载置台及所述第2载置台被构成为与所述倾斜量的变化相应地使所述第1载置台与所述第2载置台的间隙的大小发生变化。4.根据权利要求3所述的载置台装置，其特征在于，所述第2目标倾斜量被设定为使得避免由于所述倾斜量的控制偏差而导致所述间隙的大小处于容许范围外。5.根据权利要求3所述的载置台装置，其特征在于，所述控制部以避免在所述加减速区间中的所述第1载置台的移动时所述间隙的大小处于容许范围外的方式设定所述第2目标倾斜量。6.根据权利要求5所述的载置台装置，其特征在于，所述载置台装置还具备检测部，该检测部检测所述间隙的大小，所述控制部根据在使所述第1载置台事先地移动时得到的所述检测部的检测结果，设定所述第2目标倾斜量。7.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：大豆生田吉广，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：