稀溶液制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种稀溶液制造装置，向超纯水等第一液体中微量添加含导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质的第二液体，能够稳定制造规定浓度的稀溶液。稀溶液制造装置通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的至少一方的第二液体来制造该第二液体的稀溶液，其中，具备：第一配管(1)，流过所述第一液体；泵(6)，经由第二配管(5)向所述第一配管(1)内添加所述第二液体；脱气配管(8)，从该泵(6)脱气；水质传感器(11)，由导电率计、电阻率计或氧化还原电位计构成；以及控制装置(12)，在该水质传感器(11)的水质检测值变动规定值以上时打开脱气阀(9)。定值以上时打开脱气阀(9)。定值以上时打开脱气阀(9)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】稀溶液制造装置


[0001]本专利技术涉及一种向超纯水等第一液体中少量添加含导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质等的第二液体，以制造该物质的稀溶液的稀溶液制造装置。

技术介绍

[0002]作为电子产业领域的晶片处理中使用的洗涤溶液，使用向超纯水中添加导电性赋予物质、氧化还原电位调整物质的溶液。
[0003]此时，用泵向超纯水中添加导电性赋予物质、氧化还原电位调整物质(专利文献1、2)。
[0004]在导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质是易汽化的物质的情况下，物质的气泡易积存于泵内。尤其是，极低流量的泵容易因气泡而堵塞，当气泡积存时，不能够由泵定量排出。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2018
‑
171610号公报；
[0008]专利文献2：日本特开2018
‑
206998号公报。

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的课题
[0010]本专利技术的目的是提供一种稀溶液制造装置，向超纯水等第一液体中微量添加含导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质的第二液体，能够稳定制造规定浓度的稀溶液。
[0011]解决课题的技术方案
[0012]第一专利技术的稀溶液制造装置，是通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的至少一方的第二液体来制造该第二液体的稀溶液的稀溶液的制造装置，其特征在于，在具备流过所述第一液体的第一配管、经由第二配管向所述第一配管内添加所述第二液体的泵以及对该泵进行脱气的脱气机构的稀溶液制造装置中，具备：设置在所述第一配管中比所述第二配管的连接部更位于下游侧的位置且由导电率计、电阻率计或氧化还原电位计构成的水质检测计；以及在该水质检测计的水质检测值变动规定值以上时使所述脱气机构动作的脱气机构控制机构。
[0013]第二专利技术的稀溶液制造装置，是通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的至少一方的第二液体以制造该第二液体的稀溶液的稀溶液的制造装置，其特征在于，在具备流过所述第一液体的第一配管、经由第二配管向所述第一配管内添加所述第二液体的泵以及对该泵进行脱气的脱气机构的稀溶液制造装置中，具备：设置在所述第二配管中比所述泵更位于下游侧的位置的流量计；以及在该流量计的检测值变动规定值以上时使所述脱气机构动作的脱气机构控制机构。
[0014]在本专利技术的一方案中，具备贮留所述第二液体的罐，所述第二配管与该罐连接，所
述脱气机构具备脱气配管和设置于该脱气配管的阀，该脱气配管用于将混入有气体的第二液体从所述泵导向该罐，所述控制机构控制该阀的开闭。
[0015]在本专利技术中，作为导电性赋予物质、氧化还原电位调整物质，列举出氨、二氧化碳、过氧化氢、臭氧等，但不限定于这些。
[0016]专利技术效果
[0017]根据本专利技术的稀溶液制造装置，在用于向超纯水等第一液体中添加第二液体的泵积存有气体而使得泵的排出量降低，或由此，稀溶液的导电率、电阻率或氧化还原电位从持续的稳定值到变动规定值以上的情况下，脱气机构工作，对泵进行脱气，从而恢复泵排出量。由此，能稳定供给规定浓度的稀溶液。
附图说明
[0018]图1是实施方式的稀溶液制造装置的构成图。
[0019]图2是另一实施方式的稀溶液制造装置的构成图。
[0020]图3是比较例的稀溶液制造装置的构成图。
具体实施方式
[0021]以下，参照附图说明实施方式。
[0022]图1示出第一专利技术的实施方式。
[0023]作为第一液体的超纯水经由具有流量计2和阀3的第一配管1向使用点送水，在途中，罐4内的第二液体经由第二配管5、泵6和流量调整阀7被添加其中。设置脱气配管8，以使包含在泵6中产生的气体的第二液体返回罐4。脱气配管8上设置有脱气阀9。脱气阀9可以设置于脱气配管8的中途，也可以设置于上游端或下游端。
[0024]罐4内贮留有前述导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质的溶液。
[0025]在第一配管1中，在比第二配管5的连接部(汇合部)更位于下游侧的位置设置作为由导电率计、电阻率计或氧化还原电位计(ORP计)构成的水质检测计的水质传感器11。该水质传感器11的检测信号被输入到控制装置(在该实施方式中为PLC(可编程控制器))12中。由控制装置12控制泵6、流量调整阀7和脱气阀9。
[0026]在这样构成的稀溶液制造装置中，在稳定时，超纯水以一定流量在第一配管1内流动，第二液体以一定流量在第二配管5内流动，添加有规定浓度的第二液体的稀溶液被送到使用点。
[0027]当泵6中积存有氨、碳酸气体、过氧化氢、臭氧等从第二液体分离的气体、空气等气体时，泵6的排出量减少，传感器11的检测值从持续的稳定值(与目标值同样的值)变动规定以上(例如5％以上)。在检测到这样的水质变动的情况下，控制装置12将脱气阀9打开规定时间，使混有气体的第二液体从泵6返回到罐4，经过该规定时间后，使脱气阀9恢复关闭。由此，泵6的排出量恢复为稳定量，含有规定浓度的第二液体的超纯水被送到使用点。
[0028]在上述说明中，作为例子举出传感器检测值变动5％以上的情况，但不限定于此。传感器检测值的变动值通常可以采用从1～10％、尤其是3～7％的范围选择的值。
[0029]在下面说明的第二专利技术的实施方式的流量计13中也相同。
[0030]图2示出第二专利技术的实施方式。在该实施方式中，在第二配管5中，在比所述泵6更
位于下游侧(在该实施方式中为流量调节阀7的下游侧)的位置设置流量计13。流量计13的检测信号被输入到控制装置12中。
[0031]控制装置12在该流量计13的检测流量从持续的稳定值变动5％以上的情况下，将脱气阀9打开规定时间，以进行脱气。其他构成和作用与图1相同，相同符号表示相同部分。
[0032]在该实施方式中，含规定浓度的第二液体的超纯水被稳定地送到使用点。
[0033]实施例
[0034]以下，说明实施例和比较例。
[0035][实施例1][0036]使用图1所示的稀溶液制造装置，利用泵6从罐4送出29％NH3溶液，添加到以60L/min流通的配管1内的超纯水中，以制作导电率3μS/cm的溶液。使用的传感器11为导电率计。在导电率从设定值下降5％的时刻打开5秒钟脱气阀9以脱气，此后关闭脱气阀9以恢复至通常状态。持续30天本试验，由导电率计11检测的导电率没有从设定值降低10％以上。
[0037][实施例2][0038]除了以导电率为1500μS/cm的方式添加29％NH3溶液以外，与实施例1相同地运行。持续30天本试验，由导电率计11检测的导电率没有从设定值降低10％以上。
[0039][实施例3][0040]除了使超纯水的通水量为3L/min以外，与实施例1相同地运行。持续30天本试验，由导电率计11检测的导电率没有从设定值降低10％以上。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种稀溶液制造装置，用于通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的至少一方的第二液体来制造该第二液体的稀溶液，其特征在于，在具备流过所述第一液体的第一配管、经由第二配管向所述第一配管内添加所述第二液体的泵以及对该泵进行脱气的脱气机构的稀溶液制造装置中，具备：水质检测计，设置在所述第一配管中比所述第二配管的连接部更位于下游侧的位置，且由导电率计、电阻率计或氧化还原电位计构成；以及脱气机构控制机构，在该水质检测计的水质检测值变动规定值以上时使所述脱气机构动作。2.一种稀溶液制造装置，用于通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：小川祐一，
申请(专利权)人：栗田工业株式会社，
类型：发明
国别省市：