一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置及其使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置及其使用方法，涉及石英晶体片除尘清洗装置技术领域；为了提高除尘的速率；该表面除尘清洗装置包括处理箱主体、放置组件、清洗机构和除尘机构；所述除尘机构包括支架、液压缸、护板、凸形杆、弹簧一、拉动环、滑轮、拉绳、横移板一、限位板、连接杆、横移板二和旋转刷辊；所述支架固定于处理箱主体一侧内壁，凸形杆活动连接于支架内壁，弹簧一卡接于支架和凸形杆之间；该表面除尘清洗装置的使用方法，包括以下步骤：将石英晶片放置在容置架内。本发明专利技术通过液压缸驱动拉动环沿着横向对移动凸杆进行水平拉动，使得横移板一和横移板二在滑轮的调向作用下沿着相反的方向进行移动。滑轮的调向作用下沿着相反的方向进行移动。滑轮的调向作用下沿着相反的方向进行移动。

【技术实现步骤摘要】
一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置及其使用方法


[0001]本专利技术涉及石英晶体片除尘清洗装置
，尤其涉及一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置及其使用方法。

技术介绍

[0002]石英晶片表面灰尘覆盖对其使用性能影响十分巨大，不仅增加产品本身的成本而且降低了石英晶片的使用寿命，从而每个地区气候的不同和每个月的尘埃的覆盖量的随机性，所以自动化的对石英晶片表面进行除尘和清洗是非常有必要的。
[0003]经检索，中国专利申请号为CN202022592218.4的专利，公开了一种石英片加工用清洗除尘装置。所述石英片加工用清洗除尘装置，包括：箱体，所述箱体内壁的底部固定连接有底板，所述底板的顶部滑动连接有齿条，所述齿条的一侧固定连接有电动伸缩。
[0004]上述专利中的一种石英片加工用清洗除尘装置存在以下不足：在对石英晶片进行清洗时，需要将石英晶片平反后进行固定，使得在清洗过程中只能对石英晶片一侧外壁进行清洗除尘，降低了清理的效果。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置及其使用方法。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
[0007]一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置，包括处理箱主体、放置组件、清洗机构和除尘机构；
[0008]所述除尘机构包括支架、液压缸、护板、凸形杆、弹簧一、拉动环、滑轮、拉绳、横移板一、限位板、连接杆、横移板二和旋转刷辊；r/>[0009]所述支架固定于处理箱主体一侧内壁，凸形杆活动连接于支架内壁，弹簧一卡接于支架和凸形杆之间，横移板一固定于凸形杆一侧外壁；
[0010]液压缸固定于处理箱主体一侧外壁，连接杆固定于液压缸输出端，拉动环固定于连接杆一侧外壁；
[0011]移动凸杆活动连接于拉动环圆周内壁，横移板二固定于移动凸杆一侧外壁；
[0012]护板固定于处理箱主体一侧内壁，滑轮活动连接于护板底部外壁，拉绳利用滑轮活动连接于横移板一和横移板二之间；
[0013]限位板固定于处理箱主体一侧内壁，两个以上旋转刷辊分别活动连接于横移板一顶部外壁和横移板二顶部外壁。
[0014]优选的：所述清洗机构包括清洗液清洗组件和清水清洗组件；
[0015]所述清洗液清洗组件包括液体箱、隔板、加注管和清洗液导出孔；
[0016]所述液体箱固定于处理箱主体顶部，隔板固定于液体箱内壁，加注管固定于液体箱一侧外壁，清洗液导出孔开设于液体箱底部。
[0017]优选的：所述放置组件包括推动柱、顶板、弯管、漏孔、垫板、容置架和弹簧二；
[0018]所述弯管活动连接于处理箱主体一侧内壁，顶板固定于弯管一侧外壁，弹簧二卡接于处理箱主体和顶板之间，垫板固定于弯管顶部外壁，容置架固定于垫板顶部外壁，所述漏孔开设于垫板表面，所述推动柱固定于拉动环一侧外壁。
[0019]作为本专利技术优选的：所述清水清洗组件包括高压喷管和增压泵；
[0020]所述增压泵固定于液体箱外壁，两个高压喷管分别通过法兰固定于增压泵输出端和输入端。
[0021]作为本专利技术一种优选的：所述横移板一和横移板二顶部外壁均固定有十字形拨动柱。
[0022]作为本专利技术一种优选的：其中一个所述十字形拨动柱顶部外壁固定有密封板。
[0023]进一步的：所述处理箱主体底部外壁通过法兰固定有排液管。
[0024]作为本专利技术进一步的方案：所述处理箱主体内壁固定有过滤网，所述拉动环底部外壁固定有刮动架。
[0025]一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的使用方法，包括以下步骤：
[0026]S1：将石英晶片放置在容置架内；
[0027]S2：利用旋转刷辊对石英晶片表面进行摩擦除尘，清洗液通过清洗液导出孔落入到石英晶片表面；
[0028]S3：除尘后将垫板从旋转刷辊内推出；
[0029]S4：利用高压喷管和增压泵对石英晶片表面进行高压清水冲洗；
[0030]S5：将清洗完毕后的石英晶片取出。
[0031]本专利技术的有益效果为：
[0032]1.通过将横移板一和横移板二上的旋转刷辊沿着相反的方向对放置组件内的石英晶片表面进行清扫除尘，利用石英晶片和旋转刷辊之间的摩擦力可以使得旋转刷辊沿着石英晶片表面进行旋转，从而使得旋转刷辊表面不同位置的刷毛均可以对石英晶片进行刷洗，提高刷洗的效率。
[0033]2.利用隔板可以将液体箱分隔成上下两个腔室，利用加注管可以向下腔室内注入清洗液，通过清洗液导出孔可以将清洗液导出。
[0034]3.利用容置架可以对石英晶片进行竖向放置，使得石英晶片两侧均可以利用旋转刷辊进行摩擦除尘，同时在清洗时可以减少保证石英晶片表面各个位置均可以和清洗液之间进行接触。
[0035]4.液体箱内的上腔室可以对清水进行存储，利用增压泵可以对清水进行加压后，将其通过高压喷管对石英晶片表面进行高压清洗。
[0036]5.通过设置有十字形拨动柱可以使得旋转刷辊在旋转的过程中，使其表面的刷毛和十字形拨动柱之间进行摩擦，从而可以加快附着在旋转刷辊刷毛上的杂质的抖落速率，减少杂质对旋转刷辊上刷毛的附着。
附图说明
[0037]图1是本专利技术提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的整体结构示意图；
[0038]图2是本专利技术提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的内部结构示意图；
[0039]图3是本专利技术提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的液体箱组件结构示意图；
[0040]图4是本专利技术提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的除尘组件整体结构示意图；
[0041]图5是本专利技术提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的除尘组件爆炸结构示意图；
[0042]图6是本专利技术提出的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置的石英晶片放置组件结构示意图。
[0043]图中：1
‑
处理箱主体、2
‑
排液管、3
‑
过滤网、4
‑
支架、5
‑
液体箱、6
‑
隔板、7
‑
加注管、8
‑
液压缸、9
‑
护板、10
‑
高压喷管、11
‑
增压泵、12
‑
清洗液导出孔、13
‑
凸形杆、14
‑
弹簧一、15
‑
刮动架、16
‑
拉动环、17
‑
密封板、18
‑
滑轮、19
‑
拉绳、20
‑
横移板一、21
‑
十字形拨动柱、22
‑
限位板、23
‑
连接杆、24
‑
推动柱、25
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置，包括处理箱主体(1)、放置组件、清洗机构和除尘机构，其特征是；所述除尘机构包括支架(4)、液压缸(8)、护板(9)、凸形杆(13)、弹簧一(14)、拉动环(16)、滑轮(18)、拉绳(19)、横移板一(20)、限位板(22)、连接杆(23)、横移板二(26)和旋转刷辊(27)；所述支架(4)固定于处理箱主体(1)一侧内壁，凸形杆(13)活动连接于支架(4)内壁，弹簧一(14)卡接于支架(4)和凸形杆(13)之间，横移板一(20)固定于凸形杆(13)一侧外壁；液压缸(8)固定于处理箱主体(1)一侧外壁，连接杆(23)固定于液压缸(8)输出端，拉动环(16)固定于连接杆(23)一侧外壁；移动凸杆(25)活动连接于拉动环(16)圆周内壁，横移板二(26)固定于移动凸杆(25)一侧外壁；护板(9)固定于处理箱主体(1)一侧内壁，滑轮(18)活动连接于护板(9)底部外壁，拉绳(19)利用滑轮(18)活动连接于横移板一(20)和横移板二(26)之间；限位板(22)固定于处理箱主体(1)一侧内壁，两个以上旋转刷辊(27)分别活动连接于横移板一(20)顶部外壁和横移板二(26)顶部外壁。2.根据权利要求1所述的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置，其特征是，所述清洗机构包括清洗液清洗组件和清水清洗组件；所述清洗液清洗组件包括液体箱(5)、隔板(6)、加注管(7)和清洗液导出孔(12)；所述液体箱(5)固定于处理箱主体(1)顶部，隔板(6)固定于液体箱(5)内壁，加注管(7)固定于液体箱(5)一侧外壁，清洗液导出孔(12)开设于液体箱(5)底部。3.根据权利要求2所述的一种石英晶体片加工用的表面除尘清洗装置，其特征是，所述放置组件包括推动柱(24)、顶板(28)、弯管(29)、漏孔(30)、垫板(31)、容置架(32)和弹簧二(33)；所述弯...

【专利技术属性】
技术研发人员：张斌，郑宝春，郑宝生，
申请(专利权)人：浙江蓝晶芯微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：