一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法，该蒸发源装置包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料，所述坩埚设有用于输出所述蒸镀材料的多个喷口，多个所述喷口至少排列为一排；风扇部件，可转动地设置于所述坩埚的喷口处，以使所述蒸镀材料通过所述风扇部件向外喷射；加热部件，用于对所述坩埚内的蒸镀材料进行加热气化；以及多个驱动装置，分别用于驱动所述风扇部件旋转。本发明专利技术的蒸发源装置通过对风扇部件的转速控制，可对坩埚内压进行调控，从而调控蒸镀材料喷出的范围，随着风扇部件的旋转速度增加，喷射蒸镀材料的区域越集中，该区域内的材料沉积的越多，从而调整该区域的膜层厚度。从而调整该区域的膜层厚度。从而调整该区域的膜层厚度。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法


[0001]本专利技术涉及OLED显示
更具体地，涉及一种用于OLED蒸镀工艺的蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法。

技术介绍

[0002]有机电致发光器件(OrganicLight
‑
EmittingDiode，以下简称：OLED)的典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的发光材料——也就是人们通常所说OLED屏幕像素自发光材料，发光层上方有一层金属电极，电极加电压，发光层产生光辐射，目前常采用蒸镀工艺在ITO玻璃上形成发光层。
[0003]蒸镀就是真空中通过电流加热，电子束轰击加热或激光加热等方法，使有机发光材料蒸发成原子或分子，它们随即以较大的自由程作直线运动，碰撞基片表面而凝结，形成发光层薄膜。其中蒸发源是加热有机发光材料使其蒸发的装置，现有的蒸发源结构，导致材料喷射的角度范围比较大，使得真正沉积在玻璃基板上的材料较少，材料耗量较大。较大的喷射范围，也会导致材料喷射角的增大，导致较大阴影区，影响高分辨率产品的实现。同时，固定的喷射角度导致每次蒸镀的时候均匀性是不变的，不可调整的，大大降低了系统的灵活性。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种蒸发源装置和蒸镀设备，该蒸发源装置的材料喷射角度范围较小，且喷射角度可调节，提高了材料的利用率，并且可动态调整蒸镀膜层均匀性。
[0005]根据本专利技术的一个方面，提供了一种蒸发源装置，包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料，所述坩埚设有用于输出所述蒸镀材料的多个喷口，多个所述喷口至少排列为一排；
[0006]风扇部件，可转动地设置于所述坩埚的喷口处，以使所述蒸镀材料通过所述风扇部件向外喷射；
[0007]加热部件，用于对所述坩埚内的蒸镀材料进行加热气化；以及
[0008]多个驱动装置，分别用于驱动所述风扇部件旋转。
[0009]优选地，所述风扇部件包括与所述喷口可转动连接的环状部、设置在所述环状部外周面的从动齿，以及设置在所述环状部内的多个扇叶。
[0010]优选地，所述环状部的内径与所述喷口的内径相等。
[0011]优选地，所述环状部的顶面设有沿喷射方向延伸的喷筒部，所述喷筒部设置为圆柱型。
[0012]优选地，所述环状部设有轴承固定部，所述环状部通过轴承与所述喷口转动连接。
[0013]优选地，所述驱动装置包括驱动电机和设置在所述驱动电机输出轴上的主动轮。
[0014]优选地，所述主动轮与所述环状部上的从动齿啮合，以驱动所述环状部旋转。
[0015]优选地，所述主动轮通过链条、皮带或同步带与所述环状部上的从动齿连接，以驱动所述环状部旋转。
[0016]根据本专利技术的另一个方面，提供了一种蒸镀设备，包括上述的蒸发源装置，以及用于调节所述风扇部件转速的控制装置。
[0017]根据本专利技术的又一个方面，提供了一种蒸镀方法，应用于上述的蒸镀设备，包括：
[0018]加热坩埚，以使所述坩埚内的蒸镀材料受热气化，并沉积在基板表面；
[0019]利用膜厚检测装置获得所述基板表面的膜层厚度数值；
[0020]提高对应膜层厚度数值小于预设值位置的喷口的风扇部件的转速，以增加所述位置的蒸镀材料沉积量，或者降低对应膜层厚度数值大于预设值位置的喷口的风扇部件的转速，以减少所述位置的蒸镀材料沉积量。
[0021]本专利技术的有益效果如下：
[0022]本专利技术的蒸发源装置通过对风扇部件的转速控制，可对坩埚内压进行调控，从而调控蒸镀材料喷出的范围，随着风扇部件的旋转速度增加，喷射蒸镀材料的区域越集中，该区域内的材料沉积的越多，从而调整该区域的膜层厚度。通过调整风扇部件的转速，可将喷射区域集中到待蒸镀基板上，大幅度减少蒸镀材料喷射到基板外侧的比例，从而提高材料的利用率。
附图说明
[0023]下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明。
[0024]图1示出本专利技术蒸发源的结构示意图。
[0025]图2示出本专利技术蒸发源的材料喷射范围示意图。
[0026]图3示出本专利技术风扇部件的结构示意图。
[0027]图4示出现有技术喷口喷出材料的动量示意图。
[0028]图5示出本专利技术蒸发源的喷口喷出材料的动量示意图。
[0029]图6本专利技术风扇部件的剖视图。
[0030]图7本专利技术另一实施例的蒸发源的结构示意图。
[0031]图8本专利技术蒸镀方法的流程图。
[0032]图9本专利技术蒸镀方法的调整风扇部件转速的示意图。
具体实施方式
[0033]为了更清楚地说明本专利技术，下面结合优选实施例和附图对本专利技术做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本专利技术的保护范围。
[0034]在图1所示本专利技术蒸发源装置的一种实施方式中，该蒸发源装置包括坩埚10、驱动装置20和风扇部件30，坩埚10内形成有用于收容蒸镀材料的容纳腔，坩埚10的顶面设有用于输出蒸镀材料的多个喷口11，喷口11内形成有贯通通道，所述容纳腔内的蒸镀材料受热气化后，可通过该贯通通道向上方喷射。每个喷口11上均设有风扇部件30，并且覆盖所述贯通通道，风扇部件30与喷口11可转动连接，驱动装置20也设置为多个，分别与风扇部件30对应设置，用于驱动风扇部件30旋转。
[0035]本专利技术蒸发源装置还包括加热部件40，本实施方式中加热部件40设置在坩埚10的两侧对坩埚内的蒸镀材料进行加热，蒸镀材料受热气化进入喷口11的贯通通道内，然后通
过风扇部件30向上方喷射，并最终落在基板上形成蒸镀膜层。需要说明的是，根据不同蒸镀材料的性质可分为固态升华和液态蒸发，蒸镀过程是物理过程，实现物质从蒸发源到薄膜的转移。
[0036]当坩埚10的顶面设有多个喷口11，且多个喷口11排列为一排时，蒸镀材料呈线性喷出，即为线蒸镀源，当坩埚10的顶面设置的多个喷口11排列为多排时，蒸镀材料以多个喷口11排列形成的面喷出，即为面蒸镀源，待蒸镀的基板匀速通过先蒸镀源或面蒸镀源上方，从而在基板上形成整面的蒸镀膜层。本专利技术实施例的蒸发源装置指的是上述的线蒸镀源或面蒸镀源装置。
[0037]本专利技术的蒸发源装置通过在坩埚的喷口11处设置风扇部件30，使得蒸镀材料能够通过风扇部件30向外喷出，风扇部件30能够调整坩埚10内部的压力。通过对风扇部件30的转速控制，可对坩埚10内压进行调控，从而调控蒸镀材料喷出的范围，随着风扇部件30的旋转速度增加，喷射蒸镀材料的区域越集中，该区域内的材料沉积的越多，从而调整该区域的膜层厚度。通过调整风扇部件30的转速，还可将喷射区域集中到待蒸镀基板上，大幅度减少蒸镀材料喷射到基板外侧的比例，从而提高材料的利用率。
[0038]如图2所示，为基板水平方式蒸镀，多个喷口11均位于坩埚10的顶面，且多个喷口11呈线性排列，蒸镀材料在坩埚10内受热蒸发本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源装置，其特征在于，包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料，所述坩埚设有用于输出所述蒸镀材料的多个喷口，多个所述喷口至少排列为一排；风扇部件，可转动地设置于所述坩埚的喷口处，以使所述蒸镀材料通过所述风扇部件向外喷射；加热部件，用于对所述坩埚内的蒸镀材料进行加热气化；以及多个驱动装置，分别用于驱动所述风扇部件旋转。2.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述风扇部件包括与所述喷口可转动连接的环状部、设置在所述环状部外周面的从动齿，以及设置在所述环状部内的多个扇叶。3.根据权利要求2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述环状部的内径与所述喷口的内径相等。4.根据权利要求2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述环状部的顶面设有沿喷射方向延伸的喷筒部，所述喷筒部设置为圆柱型。5.根据权利要求2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述环状部设有轴承固定部，所述环状部通过轴承与所述喷口转动连接。6.根据权利要求2所述的蒸发源装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘金彪，李元星，罗楠，刘文豪，肖昂，晋亚杰，李靖，加新星，姬磊，黄秦霏，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：