一种热处理装置及方法制造方法及图纸

技术编号:32965099 阅读:11 留言:0更新日期:2022-04-09 11:20
本发明专利技术公开了一种热处理装置及方法,包括,加热炉和反应釜;所述加热炉,具有与所述反应釜相匹配的第一腔体;所述反应釜,形状与所述腔体匹配,具有第一空间,所述第一空间内设置有汞源、支撑杆和样品支架;所述反应釜,设置有进气口和出气口,所述进气口和所述出气口上连接有管路,用于在进行热处理时,提供所需气体;所述汞源,与所述支撑杆连接,用于在进行热处理时,为样品提供汞蒸气;所述支撑杆,与所述汞源连接,并由所述第一空间内部向外延伸;所述样品支架,用于盛放所述样品,且位置与所述汞源相对应。本公开的热处理装置结构简单,并且不需要多个加热区。且不需要多个加热区。且不需要多个加热区。

【技术实现步骤摘要】
一种热处理装置及方法


[0001]本专利技术涉及热处理
,尤其涉及一种热处理装置及方法。

技术介绍

[0002]碲镉汞具有优良的光电性能是红外探测器中应用最广泛、最重要的材料。其中热处理工艺对制备碲镉汞薄膜十分重要。通过热处理不仅可以改善碲镉汞薄膜的性能还可用来降低位错缺陷密度。此外,热处理是碲镉汞掺杂薄膜元素激活的最关键的技术,尤其对于砷掺杂p型碲镉汞材料的激活。研究表明,上述热处理均需要在汞饱和的条件下进行,砷掺杂p型碲镉汞材料的激活需要高温高汞压。
[0003]现有的碲镉汞薄膜热处理的方法包括两种,石英封管热处理技术和开管热处理技术,石英封管热处理指将碲镉汞材料和汞源封装在石英管两头,采用两段式控温分别对应碲镉汞材料温度和汞源温度,保证退火温度和控制石英管内的汞压。开管热处理是在垂直腔体中,通过上部低温区实现汞回流,在系统中形成稳定的汞压,达到退火目的。石英封管热处理设备结构简单,但是存在明显的缺点,包括封管处理工艺复杂、大尺寸材料的热处理难度较大、石英管的清洗麻烦。开管式热处理工艺简单,但热处理装置结构复杂。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种热处理装置及方法,用以提供一种结构简单的热处理装置,并且不需要多个加热区。
[0005]本专利技术实施例提供一种热处理装置,包括,加热炉和反应釜;所述加热炉,具有与所述反应釜相匹配的第一腔体;所述反应釜,形状与所述腔体匹配,具有第一空间,所述第一空间内设置有汞源、支撑杆和样品支架;所述反应釜,设置有进气口和出气口,所述进气口和所述出气口上连接有管路,用于在进行热处理时,提供所需气体;所述汞源,与所述支撑杆连接,用于在进行热处理时,为样品提供汞蒸气;所述支撑杆,与所述汞源连接,并由所述第一空间内部向外延伸;所述样品支架,用于盛放所述样品,且位置与所述汞源相对应。
[0006]在一些实施例中,所述支撑杆,其内为中空结构,其延伸出所述第一空间的外部设置有进水口和出水口,用于在进行热处理时,为样品提供冷却循环水。
[0007]在一些实施例中,所述进气口和所述出气口连接的管路上设置有阀门,关闭所述阀门的情况下,所述第一空间形成密闭空间。
[0008]在一些实施例中,所述支撑杆通过连接杆与所述汞源连接;所述连接杆,其长度可调,以实现改变所述汞源到所述样品支架之间的距离。
[0009]在一些实施例中,还包括样品保护壳,所述样品保护壳,用于在所述样品放置在所述样品支架上之后,遮罩所述样品支架,四周具有通气孔,以在进行热处理时,提高样品的汞压的均匀性。
[0010]在一些实施例中,所述样品支架为多层可拆卸结构。
[0011]在一些实施例中,所述反应釜,其与所述加热炉不接触的外壁上设置有卡槽,所述
卡槽用于与外设的卡钳配合,以在进行热处理后,利用外设的卡钳配合所述卡槽将所述反应釜抽离所述第一腔体。
[0012]本专利技术实施例还提供一种热处理方法,利用本公开各实施例所述的热处理装置进行热处理,包括如下步骤:将碲镉汞掺杂薄膜放置在样品支架上,并在汞源中放入汞;封闭反应釜,通过进气口向所述反应釜的第一空间通入气体;以及通过加热炉对所述反应釜进行加热升温;待反应结束,将所述反应釜抽离所述加热炉。
[0013]在一些实施例中,向所述反应釜的支撑杆内通入冷却循环水,以控制所述汞源的温度。
[0014]在一些实施例中,调节所述反应釜的支撑杆与所述汞源之间的连接杆,以控制汞源与所述碲镉汞掺杂薄膜之间的温差。
[0015]本公开的热处理装置结构简单,并且不需要多个加热区。
[0016]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述,为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本专利技术的具体实施方式。
附图说明
[0017]通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:
[0018]图1为本公开的热处理装置的结构示意图。
具体实施方式
[0019]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反,提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0020]本公开实施例提供一种热处理装置,如图1所示,包括,加热炉9和反应釜1;所述加热炉9,具有与所述反应釜1相匹配的第一腔体;所述反应釜1,形状与所述腔体匹配,反应釜1具有第一空间,所述第一空间内设置有汞源2、支撑杆3和样品支架4;所述反应釜1,设置有进气口61和出气口62,所述进气口61和所述出气口62上连接有管路,用于在进行热处理时,提供所需气体;所述汞源2,与所述支撑杆3连接,用于在进行热处理时,为样品提供汞蒸气;所述支撑杆3,与所述汞源2连接,并由所述第一空间内部向外延伸;所述样品支架4,用于盛放所述样品,且位置与所述汞源2相对应。通过这样的布置方式,极大简化了结构,并且不需要多个加热区。
[0021]具体的说,样品支架4可以设置在汞源2的正下方,汞源2用于盛装汞材料。在一些实施例中,所述进气口和所述出气口连接的管路上设置有阀门(进气阀门63和出气阀门64),关闭所述阀门的情况下,所述第一空间形成密闭空间。由此通过进气阀门63和出气阀门64可以控制进气口61和出气口62通入的气体压力,与样品热处理过程中的汞蒸气,一起控制反应釜内部的压力,由此在较低的温度也实现较大的汞压。
[0022]在一些实施例中,所述支撑杆,其内为中空结构,其延伸出所述第一空间的外部设置有进水口32和出水口33,用于在进行热处理时,为样品提供冷却循环水。也即如图1所示,支撑杆3为镂空设计,且镂空结构满足冷却循环水对汞源2的冷却。在高温高压反应釜1的支撑杆3的外侧分别设置开口(进水口32和出水口33),外接冷却循环水,在热处理工艺过程中对汞源2进行控温。支撑杆3与高温高压的反应釜1相连为一体,处于高温高压的反应釜外部的支撑杆外接冷却循环水,在热处理过程中对汞源进行降温以保证汞源温度和样品温度差。
[0023]在一些实施例中,所述支撑杆3通过连接杆31与所述汞源2连接;所述连接杆31,其长度可调,以实现改变所述汞源2到所述样品支架4之间的距离。例如汞源2与支撑杆3通过连接杆(螺钉)进行连接,通过改变连接杆31的长度,实现改变与样品间的距离,控制两者的温度差,相比于传统退火装置,本公开的热处理装置的退火炉的温区更为简单方便。
[0024]在一些实施例中,还包括样品保护壳5,所述样品保护壳5,用于在所述样品放置在所述样品支架4上之后,遮罩所述样品支架4。如图1所示,样品保护壳5的四周具有通气孔51,以在进行热处理时本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种热处理装置,其特征在于,包括,加热炉和反应釜;所述加热炉,具有与所述反应釜相匹配的第一腔体;所述反应釜,形状与所述腔体匹配,具有第一空间,所述第一空间内设置有汞源、支撑杆和样品支架;所述反应釜,设置有进气口和出气口,所述进气口和所述出气口上连接有管路,用于在进行热处理时,提供所需气体;所述汞源,与所述支撑杆连接,用于在进行热处理时,为样品提供汞蒸气;所述支撑杆,与所述汞源连接,并由所述第一空间内部向外延伸;所述样品支架,用于盛放所述样品,且位置与所述汞源相对应。2.如权利要求1所述的热处理装置,其特征在于,所述支撑杆,其内为中空结构,其延伸出所述第一空间的外部设置有进水口和出水口,用于在进行热处理时,为样品提供冷却循环水。3.如权利要求1所述的热处理装置,其特征在于,所述进气口和所述出气口连接的管路上设置有阀门,关闭所述阀门的情况下,所述第一空间形成密闭空间。4.如权利要求1所述的热处理装置,其特征在于,所述支撑杆通过连接杆与所述汞源连接;所述连接杆,其长度可调,以实现改变所述汞源到所述样品支架之间的距离。5.如权利要求1所述的热处理装置,其特征在于,还包括样品保...

【专利技术属性】
技术研发人员:王丹高达李震王丛
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第十一研究所
类型:发明
国别省市:

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