一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法技术

本发明专利技术公开了一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，属于光学镜头防污、抗指纹领域。本发明专利技术包括安装在设备上方的蒸发源单体，蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，该真空腔体安装在蒸发源单体的下方，蒸发源接口与真空腔体接驳。本发明专利技术采用带旋转机构的蒸发源系统，多套蒸发源系统更换工作，能够使加热器有足够时间冷却并添加药液，实现节拍3～5分钟快速AF(AS)连续镀膜生产，大规模批量化生产成为现实；采用矩阵式AF蒸发源点阵，在确保均匀性及耐磨性前提下，AF药液用量的经济最优化实现。AF药液用量的经济最优化实现。

【技术实现步骤摘要】
一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法


[0001]本专利技术属于光学镜头防污、抗指纹领域，尤其涉及一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法。

技术介绍

[0002]目前AF(AS)镀膜技术包括两大类，分别是AF(AS)大气喷涂技术、AF(AS)真空镀膜技术。前者Si
‑
F键结合度较差，耐磨性能有限，不适宜于高端产品使用；后者Si
‑
F键结合度较好，但生产节拍较慢，且存在AF药液大量浪费问题。一般地现有AF镀膜的生产节拍在30分钟或更长时间，AF药液浪费问题也十分明显，因均匀性及耐磨性的要求，AF药液使用量存在2～5倍的浪费。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，旨在解决所述
技术介绍
中存在的问题。为实现所述目的，本专利技术采用的技术方案是：
[0004]一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，包括安装在设备上方的蒸发源单体，所述蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，真空腔体安装在所述蒸发源单体的下方，所述蒸发源接口与所述真空腔体接驳。
[0005]具体的，蒸发源单体数量不少于2个，本实施例中设计有12个蒸发源单体，蒸发源单体的数量还可以是6个、8个等组合，多个蒸发源单体构成蒸发源点阵；药液接口具体包括药液添加系统、真空阀门系统与用于称量药液重量的精密计量泵，在药液添加过程需要开启真空阀门系统，防止空气进入到真空腔体内部，影响到镀膜基板的质量。在药液添加完成后真空阀门及真空泵系统启动抽真空，确保蒸发源单体进入高真空环境后，才可以与真空腔体进行真空接驳，进入到蒸发源单体准备工作阶段。
[0006]具体的，蒸发源系统包括加热器、旋转机构、升降机构与药液工位，加热器安装在蒸发源系统内部并靠近药液工位，旋转机构呈圆环状与蒸发源系统外侧固定安装。旋转机构用于控制蒸发源系统的更换，所述蒸发源系统数量不少于2个，本实施例中每个蒸发源单体内部设有8个蒸发源系统，设置多个蒸发源系统能够让加热器拥有足够的时间散热并添加药液，提高生产效率。真空腔体设置有真空泵组，真空泵组内的真空泵数量不少于2个，采用冗余设计，不仅快速抽真空，在某台真空泵出现故障时还能够持续工作，确保生产工作不中断。整个设备还包括中央控制系统、反馈系统，全自动化运行，节省人力。
[0007]一种连续真空镀膜设备的均匀性控制方法，应用于上述的连续真空镀膜设备，包括：(1)镀膜基板放置在真空仓体内，并对真空仓体进行抽气，直至达到为10
‑
4Pa～10
‑
3Pa；(2)药液接口的药液添加系统启动，通过精密计量泵称量好的药液输送到蒸发源系统；(3)蒸发源点阵的蒸发源系统启动，装好药液的蒸发源系统通过旋转机构、升降机构到达预定位置，加热器加热到预设温度，当一个蒸发源系统的加热器过热后药液用完后，旋转机构转
动更换下个蒸发源系统；
[0008](4)该镀膜基板镀膜完成后更换镀膜基板，旋转机构旋转更换下个蒸发源系统并升降到预定位置；
[0009](5)以此类推，直至所有的镀膜材料镀膜完成，关闭整个电气系统。
[0010]本专利技术的有益效果：本专利技术采用高真空连续镀膜技术，确保Si
‑
F键结合度十分充分，产品性能优越；本专利技术采用带旋转机构的蒸发源系统，多套蒸发源系统更换工作，能够使加热器有足够时间冷却并添加药液，实现节拍3～5分钟快速AF(AS)连续镀膜生产，大规模批量化生产成为现实；本专利技术采用矩阵式AF蒸发源点阵，在确保均匀性及耐磨性前提下，AF药液用量的经济最优化实现；本专利技术基于以往经验及理论对AF蒸发源点阵建立数学模型进行模拟计算，确保点阵分布，腔体设计等元素的最优化，使得AF层的光学可控性更加精密。
附图说明
[0011]图1为本专利技术实施例提供的蒸发源单体结构示意图；
[0012]图2为本专利技术实施例提供的整体结构示意图；
[0013]图3为本专利技术实施例提供的俯视结构示意图；
[0014]图4为本专利技术实施例的模拟结果示意图。
[0015]其中，图中各附图标记：
[0016]1、蒸发源点阵；11、蒸发源单体；111、药液接口；1111、药液添加系统；1112、真空阀门系统；1113、精密计量泵；112、蒸发源系统；1121、加热器；1122、旋转机构；1123、升降机构；113、蒸发源接口；1131、真空阀门；2、真空腔体；21、真空泵组；3镀膜基板。
具体实施方式
[0017]为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施方式。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术的公开内容理解的更加透彻全面。
[0018]下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
[0019]如图1～3所示，图1蒸发源单体11结构示意图，图2是本专利技术的整体结构示意图，图3是本专利技术的俯视图，如图所示，本专利技术包括安装在设备上方的蒸发源单体11，该蒸发源单体11设计有药液接口111、蒸发源系统112与蒸发源接口113，药液接口111、蒸发源系统112与蒸发源接口113从上至下依次密封固定联接，真空腔体2安装在蒸发源单体11的下方，所述蒸发源接口113与所述真空腔体2接驳。蒸发源单体11的数量不少于2个，本实施例中设计有12个蒸发源单体11，蒸发源单体11的数量还可以是6个、8个等组合，多个蒸发源单体11构成蒸发源点阵1，使得镀膜基板3镀膜更加均匀；药液接口111具体包括有药液添加系统1111、真空阀门系统1112与用于称量药液重量的精密计量泵1113，在药液添加过程需要开启真空阀门系统1112，防止空气进入到真空腔体2内部，影响到镀膜基板3的质量。
[0020]如图1所示，蒸发源系统112具体包括有加热器1121、旋转机构1122、升降机构1123与药液工位，加热器1121安装在蒸发源系统112内部并靠近药液工位，旋转机构1122呈圆环
状与蒸发源系统112外侧固定安装。旋转机构1122用于控制蒸发源系统112的更换，所述蒸发源系统112数量不少于2个，本实施例中每个蒸发源单体11内部设有8个蒸发源系统112，设置多个蒸发源系统112能够让加热器1121拥有足够的时间散热并添加药液，提高生产效率。真空腔体2设置有真空泵组21，真空泵组21内的真空泵数量不少于2个，采用冗余设计，不仅快速抽真空，在某台真空泵出现故障时还能够持续工作，确保生产工作不中断。整个设备还包括中央控制系统、反馈系统，全自动化运行，节省人力。
[0021]在使用时，开启中央控制系统，电气开始运行，将需要镀膜的基板放入真空腔体2内部并关上密封门，真空泵组21启动，传感器实时检测真空腔体2内部气压并反馈到中央处理器，蒸发源点阵1启动，多个蒸发源单体11内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，其特征在于：包括安装在设备上方的蒸发源单体，所述蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，真空腔体安装在所述蒸发源单体的下方，所述蒸发源接口与所述真空腔体接驳。2.根据权利要求1所述的一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，其特征在于：蒸发源单体数量不少于2个，所述蒸发源单体构成蒸发源点阵。3.根据权利要求1所述的一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，其特征在于：所述药液接口包括药液添加系统、真空阀门系统与用于称量药液重量的精密计量泵。4.根据权利要求1所述的一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，其特征在于：所述蒸发源系统包括加热器、旋转机构、升降机构与药液工位，所述加热器位于蒸发源系统内部并靠近所述药液工位，所述旋转机构呈圆环状与蒸发源系统外侧固定安装。5.根据权利要求4所述的一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，其特征在于：所述蒸发源单体内部的蒸发源系统数量不少于2个。6.根据权利要求5所...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐旻生，庄炳河，张永胜，张晓鹏，伍发根，杨凤鸣，
申请(专利权)人：深圳奥卓真空设备技术有限公司，
类型：发明
国别省市：