基板清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及基板清洗装置(100)，基板清洗装置(100)将待输送的玻璃板(G)的正面和背面中的至少一个面作为被清洗面进行清洗，具备：盘刷(23)，一边旋转一边与玻璃板(G)的表面接触；框架(33)，支承盘刷(23)；及测力传感器(61)，设置于框架(33)而对施加于玻璃板(G)的表面的盘刷(23)的载荷进行测定。表面的盘刷(23)的载荷进行测定。表面的盘刷(23)的载荷进行测定。

【技术实现步骤摘要】
基板清洗装置


[0001]本技术涉及基板清洗装置。

技术介绍

[0002]例如，使用于LCD(Liquid Crystal Display：液晶显示器)、OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode：有机发光二极管)等平板显示器(FPD：Flat Panel Display)用的玻璃板的表面通过清洗装置进行清洗。
[0003]在专利文献1中，作为玻璃板的清洗装置，记载有在使由多个盘刷构成的清洗部件与输送中的玻璃板的表面接触的状态下使其旋转，除去附着于玻璃板的表面的附着物的技术。在该清洗装置中，通过调整单元对清洗部件相对于玻璃板的表面的位置进行微调整而调整接触状态。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2015
‑
30570号公报

技术实现思路

[0007]技术所要解决的课题
[0008]然而，如专利文献1那样，在基于清洗部件的高度调整接触状态的清洗装置中，必须准确地检测清洗部件的前端位置来进行高度调整，该调整作业花费时间和劳力。而且，仅仅只是调整清洗部件的高度难以将对玻璃板的清洗力保持恒定，清洗状态根据部位而产生不均匀。
[0009]另外，清洗部件有可能因磨损等而变得不与玻璃板接触。因此，需要确认清洗部件实际上是否与玻璃板接触即面接触。伴随该面接触的确认的接触状态的检测在一个清洗生产线中需要几个小时。
[0010]因此，本技术的目的在于提供一种基板清洗装置，能够容易地检测清洗部件相对于基板的接触状态，使清洗部件的清洗力恒定。
[0011]用于解决课题的技术方案
[0012]本技术由下述结构构成。
[0013]一种基板清洗装置，将待输送的基板的正面和背面中的至少一个面作为被清洗面进行清洗，
[0014]所述基板清洗装置具备：
[0015]清洗部件，一边旋转一边与所述基板的所述被清洗面接触；
[0016]框架，支承所述清洗部件；及
[0017]载荷计，设置于所述框架而对施加于所述被清洗面的所述清洗部件的载荷进行测定。
[0018]技术效果
[0019]根据本技术的基板清洗装置，能够容易地检测清洗部件相对于基板的接触状态，使清洗部件的清洗力恒定。
附图说明
[0020]图1是具备本技术的实施方式的基板清洗装置的基板输送装置的概略俯视图。
[0021]图2是图1中的A
‑
A剖视图。
[0022]图3是剖视一部分的基板清洗装置的侧视图。
[0023]图4是说明基板清洗装置的控制系统的概略结构的框图。
具体实施方式
[0024]以下，参照附图对本技术的实施方式进行详细说明。
[0025]图1是具备本技术的实施方式的基板清洗装置的基板输送装置的概略俯视图。
[0026]如图1所示，本实施方式的基板清洗装置100被装入于具备多个输送部11的基板输送装置10。
[0027]基板清洗装置100是对形成为矩形状的玻璃板(基板)G进行清洗的装置。通过该基板清洗装置100进行清洗的玻璃板G例如由使用于LCD(Liquid Crystal Display：液晶显示器)、OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode：有机发光二极管)等平板显示器(FPD:Flat Panel Display)用的无碱玻璃系材料构成。基板清洗装置100是对水平输送的玻璃板G的表面进行清洗的装置，特别是对玻璃板G的被实施各种处理、加工的表面进行清洗。
[0028]构成基板输送装置10的多个输送部11具有上下配置的输送辊13。这些输送辊13在上下的对置位置水平地配置，玻璃板G在其之间通过。输送部11通过在上下的输送辊13之间夹持玻璃板G并向相互相反方向旋转，将玻璃板G向一个方向即输送方向X输送。
[0029]基板清洗装置100配置在输送部11之间。在本例中，将两个输送部11作为一组，在这些组的输送部11彼此之间分别配置有基板清洗装置100。
[0030]图2是图1中的A
‑
A剖视图。图3是剖视一部分的基板清洗装置的侧视图。
[0031]如图2所示，基板清洗装置100具有支承框21和多个盘刷(清洗部件)23。多个盘刷23被支承框21支承，在与玻璃板G的输送方向X正交的宽度方向上排列。盘刷23例如是由PVA(聚乙烯醇)等树脂构成的海绵制的刷、或者由尼龙(聚酰胺)等树脂构成的毛刷，其形状例如是外径50～150mm的圆柱形状。
[0032]支承框21具有配置于玻璃板G的输送路径的两侧部的支柱31、架设于这些支柱31的框架33。框架33沿着被输送的玻璃板G的被清洗面即表面配置。
[0033]如图2及图3所示，在框架33具有沿着长度方向排列的多个支承机构35。这些支承机构35与盘刷23对应地设置，各个盘刷23通过支承机构35被框架33支承。
[0034]支承机构35具有在下端部设置有固定板37的支承轴39，在该固定板37安装有盘刷23。在支承轴39，在其上端设置有传递齿轮41，相邻的支承轴39的传递齿轮41相互啮合。相邻的传递齿轮41也可以在各传递齿轮41之间经由其他齿轮连接。
[0035]在支承框21，通过固定框架(图示省略)支承有使驱动齿轮43旋转的旋转电机45。
旋转电机45的驱动齿轮43与框架33的一端侧的传递齿轮41啮合。由此，当通过旋转电机45使驱动齿轮43旋转时，该驱动齿轮43的旋转力被传递到相互啮合的传递齿轮41而使各支承轴39旋转。由此，安装于各支承轴39的固定板37的盘刷23旋转。此外，基于旋转电机45的盘刷23的转速优选为100～500rpm。
[0036]如图3所示，支承机构35具有凸缘51、轴承53。轴承53装入于凸缘51，支承轴39被该轴承53可旋转地支承。
[0037]该支承机构35的凸缘51设置在竖立设置于框架33的一对支承壁55之间。在凸缘51与支承壁55之间设置有直动轴承57，由此，支承机构35被直动轴承57支承为能够相对于玻璃板G的表面在接近离开方向即上下方向上移动。
[0038]基板清洗装置100具备测力传感器(载荷计)61、激光位移计63及加速度计65。
[0039]测力传感器61设置在框架33与支承机构35的凸缘51之间。该测力传感器61测定施加于框架33的来自支承机构35的载荷。激光位移计63配置于框架33的上方。该激光位移计63对框架33照射激光，并检测其反射光。由此，以非接触方式检测框架33的上下方向的位移量。加速度计65固定于框架33的上表面。该加速度计65检测框架33的振动。
[0040]图4是说明基板清洗装置的控制系统的概略结构的框图。
[0041]如图4所示，基板清洗装置100具备控制部71，通过该控本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗装置，将待输送的基板的正面和背面中的至少一个面作为被清洗面进行清洗，其特征在于，所述基板清洗装置具备：清洗部件，一边旋转一边与所述基板的所述被清洗面接触；框架，支承所述清洗部件；及载荷计，设置于所述框架而对施加于所述被清洗面的所述清洗部件的载荷进行测定。2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，具备检测部，该检测部根据来自所述载荷计的测定数据来检测所述清洗部件相对于所述基板的接触状态。3.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述框架具备支承机构，该支承机构可旋转地支承所述清洗部件，并且可相对于所述基板的所述被清洗面在接近离开方向上移动地支承所述清洗部件，所述载荷计设置在所述框架与所述支承机构之间，所述检测部求出所述清洗部件相对于所述被清洗面的接触时及非接触时的所述载荷计的测定值之差作为所述清洗部件相对于所述基板的接触状态。4.根据权利要求2或权利要求3所述的基板清洗装置，其特征在于，具备测定所述框架的位移量的位移计，所述检测部根据来自所述位...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀江满，加藤贤太郎，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：新型
国别省市：