【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于产生驻波超声场的装置
[0001]本专利技术涉及一种用于在流体中产生具有频率f的驻波超声场、尤其是用于集中、固定或操纵流体中的分散颗粒或用于保留或分离来自流体的分散颗粒的装置,该装置包括:用于接纳流体的基本上尺寸稳定的容器;以及声学地连接到该容器的外壁的至少一个振荡元件,其中该容器至少在该振荡元件的区域中包括用于接纳流体的具有内半径r
o
的基本上为圆柱形的内部,并且其中该振荡元件在与内部的主轴正交的方向上具有平均厚度p和宽度b,其中宽度b不大于内直径2r
o
。
[0002]本专利技术还涉及一种用于在流体中产生具有频率f的驻波超声场、尤其是用于通过在基本上尺寸稳定的容器中施加驻波超声场来集中流体中的分散颗粒或分离来自流体的分散颗粒的方法,其中至少一个振荡元件在至少一个频率f处被激励,并且振荡元件振荡该容器以及布置在圆柱形内部的流体,其中该振荡元件具有平均厚度p,并且内部具有内半径r
o
,并且其中振荡元件在与该内部的主轴正交的方向上具有宽度b,其中该宽度b不大于内直径2r
o
。
[0003]当流体暴露于超声场时(例如通过将来自振荡元件的振荡经由容器引入流体中),可以在流体中实现各种效果(诸如其混合或加热)。使用驻波超声场,声学技术特别用于分离或操纵流体(亦称为介质)中或来自流体的细胞、细菌和微生物、细小固体、液滴、气泡等(即,通常处于固态、液态和气态的颗粒——为简单起见,以下称为颗粒)。这些颗粒可以分散、悬浮或乳化在流体中,并且通常具有在所施加的驻波超声场的一个波 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在流体(100)中产生具有频率f的驻波超声场、尤其是用于集中、固定或操纵所述流体(100)中的分散颗粒或用于保留或分离来自所述流体(100)的分散颗粒的装置,所述装置包括:用于接纳所述流体(100)的基本上尺寸稳定的容器(1);以及声学地连接到所述容器(1)的外壁(12)且能以所述频率f激励的至少一个振荡元件(2),其中,所述容器(1)至少在所述振荡元件(2)的区域中具有用于接纳流体的具有内半径r
o
的基本上为圆柱形的内部(14),并且其中所述振荡元件(2)在与所述内部(14)的主轴(H)正交的方向上具有平均厚度p和宽度b,其中所述宽度b不大于内直径2r
o
,其特征在于,所述振荡元件(2)具有至少一个基本上平坦的侧表面(21),并且所述振荡元件(2)经由所述平坦的侧表面(21)声学地连接到所述容器(1)的外壁(12)在所述圆柱形内部(14)的区域中的基本上平坦的连接表面(11),其中所述连接表面(11)与所述圆柱形内部(14)的主轴(H)和所述振荡元件(2)两者平行地布置。2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述振荡元件(2)具有在厚度方向上极化并且与所述圆柱形内部(14)的主轴(H)平行地对齐的至少一个压电板(20),并且所述压电板(20)具有与所述厚度方向垂直的电极表面。3.如权利要求1或2所述的装置,其特征在于,所述振荡元件(2)在与所述内部(14)的主轴(H)平行的方向上具有为厚度p的至少两倍大、优选地至少三倍大的长度,并且所述振荡元件(2)的宽度b为厚度p的至少两倍大、优选地至少三倍大。4.如权利要求1至3中任一项所述的装置,其特征在于,所述振荡元件(2)具有与所述振荡元件(2)的平均厚度p相对应的基本上均匀的厚度。5.如权利要求1至4中任一项所述的装置,其特征在于,所述容器(10)的外壁(12)在所述圆柱形内部(14)的区域中除了所述至少一个连接表面(11)之外具有基本上圆柱形的形状。6.如权利要求1至5中任一项所述的装置,其特征在于,所述振荡元件(2)的宽度b小于或等于3
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
、优选地在(r
P
·
v
C
/f)
1/2
与2.5
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
之间、特别优选地在1.5
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
与2
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
之间,其中适用r
P
=r
o
+c
o
,r
o
是所述内部(14)的内半径,c
o
是所述振荡元件(2)的区域中的所述容器壁部段(10)的最小壁厚,并且v
C
是所述容器壁部段(10)中的声速。7.如权利要求1至6中任一项所述的装置,其特征在于,所述装置具有换能器阵列(200),所述换能器阵列(200)至少包括所述振荡元件(2)和在所述振荡元件(2)的区域中的容器壁部段(10)、以及可任选地声学地耦合到所述振荡元件(2)和/或所述容器壁部段(10)并且优选地布置在所述振荡元件的厚度方向上的另外的部件,其中所述容器壁部段(10)在所述连接表面(11)的中心区域中在所述振荡元件(2)的区域中具有最小壁厚c
o
、以及在所述振荡元件(2)的边缘区域中具有最大径向壁厚c
max
=c
o
+Δc,并且所述容器壁部段(10)的等效平均壁厚c
equ
由c
equ
=c
o
+Δc/3来定义,其中所述最大径向壁厚c
max
与所述最小壁厚c
o
之间的差异Δc由所述振荡元件(2)的宽度b经由关系Δc=(b2/4+r
P
2)
1/2
‑
r
P
来确定,其中适用r=r
o
+c
o
,并且r
o
是所述圆柱形内部(14)的半径。8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,所述换能器阵列的各层的厚度被选择为使得所述换能器阵列的自然共振频率f
er
与所述超声场的期望频率f具有大于距离f
er,1
‑
f
er,2
的
五分之一的距离,其中f
er,1
和f
er,2
是相对于所述频率f的两个最接近的自然共振频率f
er
。9.如权利要求7或8所述的装置,其特征在于,在所述振荡元件的厚度方向上声学地耦合的所述换能器阵列(200)的各层的厚度被选择为使得所述换能器阵列(200)的半波数κ满足以下条件:κ=1/2+n
±
Δn其中n为自然数,并且公差值Δn至少小于0.3、优选地小于0.2、尤其优选地小于0.1,并且所述换能器阵列(200)的半波数κ基本上由下式给定:κ=2f
·
(c
equ
/v
C
+p/v
P
+d1/v
d1
+d2/v
d2
+...+d
i
/v
di
),其中,vc是在所述振荡元件(2)的区域中在所述容器壁部段(10)中的声速,vp是在所述振荡元件(2)中厚度方向上的声速,而d1至di是所述换能器阵列(200)在所述厚度方向上声学耦合的另外的层(23、24、25、26)的厚度并且vd1至vdi是所述换能器阵列(200)在所述厚度方向上声学耦合的另外的层(23、24、25、26)的声速,如果存在这些另外的层的话;并且索引“i”是指示所述换能器阵列的这些另外的层(23、24、25、26)的数目的自然数。10.如权利要求1至9中任一项所述的装置,其特征在于,所述振荡元件(2)的厚度p被选择为基本上等于值v
P
/(2f),其中v
p
是在所述振荡元件(2)中厚度方向上的声速。11.如权利要求1至10中任一项所述的装置,其特征在于,所述振荡元件(2)的宽度b在(r
P
·
v
C
/f)
1/2
与4
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
之间、优选地在1.5
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
与3.5
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
之间、特别优选地在2
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
与3
·
(r
P
·
v
C
/f)
1/2
之间的范围中,其中适用r
P
=r
o
+c
o
,r
o
是所述内部(14)的内半径,c
o
是所述振荡元件(2)的区域中的所述容器壁部段(10)的最小壁厚,并且其中v
C
是所述容器壁部段(10)中的声速,并且其中v
P
是在所述振荡元件(2)中厚度方向上的声速。12.如权利要求7至11中任一项所述的装置,其特征在于,所述换能器阵列(200)的在厚度方向上声学耦合地布置在所述振荡元件(2)与所述容器壁部段(10)之间的耦合层(23、24)的厚度d'1至d'
j
以及所述容器壁部段(10)的最小壁厚c
o
被选择为满足以下条件:c
o
/v
c
+((b2/4+r
P2
)
1/2
‑
r
P
)/(3v
C
)+d'1/v
d'1
+d'2/v
d'2
+..+d'
j
/v
d'j
=p/v
P
·
(1/2+q
±
Δq)其中,v
d'1
至v
d'j
是所述耦合层(23、24)的声速,其中所述索引数j是指示布置在所述振荡元件(2)与所述容器壁部段(10)之间的所述换能器阵列的耦合层(23、24)的数目的自然数,并且q是自然数,并且公差值Δq至少小于0.3、优选地小于0.2、特别优选地小于0.1。13.如权利要求12所述的装置,其特征在于,所有耦合层(23、24)具有可忽略的厚度或没有耦合层,因此所有d'基本上对应于0。14.如权利要求7至13中任一项所述的装置,其特征在于,所述换能器阵列(200)的在厚度方向上声学耦合的布置在所述振荡元件(2)背离所述容器的一侧上的外层(25、26)的厚度d"1至d"
k
被选择为使得满足以下条件:d"1/v
d"1
+d"2/v
d"2
+...+d"
k
/v
d"k
=p/v
P
·
(s
±
Δs)其中,vd"1至vd"k是外层(25、26)的声速,其中索引数k是指示所述换能器阵列的布置在所述振荡元件的背离所述容器的一侧上的外层(25、26)的数目的自然数,并且s是自然数,并且公差值Δs至少小于0.3、优选地小于0.2、特别优选地小于0.1。15.如权利要求1至14中任一项所述的装置,其特征在于,所述容器...
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