一种抛光垫刷洗装置及操作方法、最终抛光设备制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种抛光垫刷洗装置及操作方法、最终抛光设备；所述抛光垫刷洗装置包括：用于刷洗抛光垫的毛刷，所述毛刷上设置有刷毛；用于容纳所述毛刷的刷槽，所述刷槽的底板上固定地设置有刷盘；其中，所述刷盘通过与所述刷毛之间的相对运动以打开所述刷毛，以暴露出所述刷毛缝隙的杂质颗粒；设置在所述底板上的清洗液供给单元，所述清洗液供给单元包括清洗液喷嘴和进水孔；所述清洗液喷嘴和所述进水孔被构造成向所述刷槽中供给清洗液以清洗所述刷毛，从而使得所述刷毛缝隙的杂质颗粒被清除。粒被清除。粒被清除。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫刷洗装置及操作方法、最终抛光设备


[0001]本专利技术实施例涉及半导体
，尤其涉及一种抛光垫刷洗装置及操作方法、最终抛光设备。

技术介绍

[0002]在硅片的生产工艺中，最终抛光工艺是一个非常重要的环节，因为其决定了硅片表面的最终粗糙度，具体来说，最终抛光工艺是对前端生产工艺所不能处理的机械损伤进行更加精细地研磨，因此在最终抛光工艺中对最终抛光设备的内部环境要求更高，如若最终抛光设备内部存在有杂质颗粒，这些杂质颗粒在最终抛光过程中会对硅片表面造成划伤，从而降低硅片的良率。
[0003]目前，在最终抛光工艺中，每一片硅片要经过三个研磨盘进行研磨，每个研磨盘都粘贴有特定粗糙度的抛光垫。在每一次研磨完成后，需要利用毛刷对抛光垫进行刷洗，抛光垫刷洗完毕后毛刷会返回至最终抛光设备的刷槽中进行保湿以便于再次对抛光垫进行刷洗。但是，由于最终抛光过程中往往残留有抛光残留物(如抛光液、抛光液中的颗粒以及抛光副产物)等杂质颗粒，同时最终抛光过程中抛光垫表面往往也会发生磨损形成杂质颗粒，当毛刷保湿于刷槽中时，刷槽不会对毛刷进行自动清洗，因此上述杂质颗粒会积累在毛刷的刷毛缝隙中，在采用毛刷对抛光垫再次进行清洗时，上述杂质颗粒又被转移至抛光垫上，引起二次污染，进而造成硅片表面引入异常杂质颗粒，且最终抛光后的硅片表面粗糙度也会产生异常。
[0004]另一方面，可以理解的是，在毛刷保湿时，刷毛缝隙的上述杂质颗粒也会被转移至刷槽中，由于刷槽的结构设计使得上述杂质颗粒不能够被排出，因此这些杂质颗粒会长期地积累在刷槽中以影响刷槽内部的洁净度，进而造成这些残留物被毛刷再次转移至抛光垫以影响硅片的最终抛光质量。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术实施例期望提供一种抛光垫刷洗装置及操作方法、最终抛光设备；能够自动清洗毛刷的刷毛，并自动清理刷槽中的杂质颗粒，保证毛刷和刷槽内部的洁净度，进而提升最终抛光设备内部环境的洁净度，从而保证最终抛光后硅片的良率。
[0006]本专利技术实施例的技术方案是这样实现的：
[0007]第一方面，本专利技术实施例提供了一种抛光垫刷洗装置，所述抛光垫刷洗装置包括：
[0008]用于刷洗抛光垫的毛刷，所述毛刷上设置有刷毛；
[0009]用于容纳所述毛刷的刷槽，所述刷槽的底板上固定地设置有刷盘；其中，所述刷盘通过与所述刷毛之间的相对运动以打开所述刷毛，以暴露出所述刷毛缝隙的杂质颗粒；
[0010]设置在所述底板上的清洗液供给单元，所述清洗液供给单元包括清洗液喷嘴和进水孔；所述清洗液喷嘴和所述进水孔被构造成向所述刷槽中供给清洗液以清洗所述刷毛，从而使得所述刷毛缝隙的杂质颗粒被清除。
[0011]第二方面，本专利技术实施例提供了一种抛光垫刷洗装置的操作方法，所述操作方法能够应用于第一方面所述的抛光垫刷洗装置，所述操作方法包括：
[0012]当抛光垫刷洗完毕毛刷返回至刷槽后，驱动所述毛刷转动以使得所述毛刷的刷毛与所述刷槽中的刷盘之间相对运动以打开所述刷毛；
[0013]在所述毛刷转动的过程中，打开所述清洗液供给单元向所述刷槽中供给清洗液以清洗所述刷毛，从而使得所述刷毛缝隙的杂质颗粒被清除。
[0014]第三方面，本专利技术实施例提供了一种最终抛光设备，所述最终抛光设备包括第一方面所述的抛光垫刷洗装置。
[0015]本专利技术实施例提供了一种抛光垫刷洗装置及操作方法、最终抛光设备；所述抛光垫刷洗装置通过刷盘与刷毛之间的相对运动以打开刷毛，以使得夹杂在刷毛缝隙的杂质颗粒暴露出，从而通过清洗液供给单元持续向刷槽中供给清洗液以清洗刷毛，从而清洗去除刷毛缝隙的杂质颗粒；由此，在本专利技术实施例中增加了自动清除刷毛缝隙中夹带的杂质颗粒的功能，解决了常规技术方案中的抛光垫刷洗装置中只能保湿刷毛的问题。
附图说明
[0016]图1为本专利技术实施例提供的常规技术方案中采用的抛光垫刷洗装置结构示意图；
[0017]图2为本专利技术实施例提供的图1所示的抛光垫刷洗装置的刷槽的内部结构示意图；
[0018]图3为本专利技术实施例提供的一种抛光垫刷洗装置结构示意图；
[0019]图4为本专利技术实施例提供的图3所示的抛光垫刷洗装置的刷槽的内部结构示意图；
[0020]图5为本专利技术实施例提供的溢流口下降后抛光垫刷洗装置的具体结构示意图；
[0021]图6为本专利技术实施例提供的一种抛光垫刷洗装置的操作方法流程示意图。
具体实施方式
[0022]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0023]参见图1和图2，其示出了常规技术方案的抛光垫刷洗装置1A的结构，如图1所示，抛光垫刷洗装置1A具体包括：
[0024]毛刷10，用于刷洗抛光垫；毛刷10主要包括旋转杆101，固定地设置在旋转杆101上的硬压盘102和固定地设置在硬压盘102上的刷毛103；
[0025]刷槽20，用于容纳毛刷10；刷槽20主要包括槽体201、与槽体201固定连接的底板202，设置在底板202上的进水孔203，固定地设置在底板202上的溢流口204A以及感测部件205，可以理解地，当毛刷10容纳于刷槽20中时，感测部件205向进水孔203发出信号以使得进水孔203向槽体201供给清洗液以使得槽体201中的液位达到设定的目标液位进而对毛刷10的刷毛103进行保湿。需要说明的是，在本专利技术实施例中，刷槽20的设定的目标液位指的是在刷毛103保湿时，刷槽20中的液位能够使得刷毛103完全浸没于清洗液中；
[0026]驱动机构30，驱动机构30与毛刷10的旋转杆101连接，用于驱动毛刷10转动至抛光垫上方以刷洗抛光垫，以及驱动毛刷10转动至刷槽20中以进行保湿操作。
[0027]当然，可以理解地，抛光垫刷洗装置1A中还设置有清洗液存储装置(图中未示出)，用于向进水孔203提供清洗液。
[0028]需要说明的是，常规技术方案中的抛光垫刷洗装置1A，不会对毛刷10进行自动清洗，仅仅是保湿操作，因此不能够清除掉夹杂在刷毛103缝隙中的杂质颗粒。另一方面，毛刷10刷洗完毕抛光垫后会把杂质颗粒带进刷槽20中，由于刷槽20中的清洗液由进水孔203提供，其流动方向属于自下而上，因此当刷槽20中的清洗液过多时超过设定目标液位的清洗液会从溢流口204A流出，但是由于溢流口204A高度较高因此在这种情况下刷槽20中的杂质颗粒无法完全排出；其次，由于进水孔203直径较小，供给清洗液时清洗液流速缓慢无法清理掉刷槽20底部的杂质颗粒，进而导致在刷槽20中长期积累了大量的杂质颗粒。因此，当毛刷10再次刷洗抛光垫时，刷槽20中的杂质颗粒会再次被转移至抛光垫中，导致在最终抛光过程中对硅片的表面造成损伤。
[0029]目前，对于刷槽20中长期积累的杂质颗粒的清洗方法具体来说主要是在每次更换抛光垫时，利用高压水枪高压清洗刷槽20中的杂质颗粒。该清洗方法存在的缺点，比如高压水枪冲洗刷槽20时需要人为操作，可能会存在部分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫刷洗装置，其特征在于，所述抛光垫刷洗装置包括：用于刷洗抛光垫的毛刷，所述毛刷上设置有刷毛；用于容纳所述毛刷的刷槽，所述刷槽的底板上固定地设置有刷盘；其中，所述刷盘通过与所述刷毛之间的相对运动以打开所述刷毛，以暴露出所述刷毛缝隙的杂质颗粒；设置在所述底板上的清洗液供给单元，所述清洗液供给单元包括清洗液喷嘴和进水孔；所述清洗液喷嘴和所述进水孔被构造成向所述刷槽中供给清洗液以清洗所述刷毛，从而使得所述刷毛缝隙的杂质颗粒被清除。2.根据权利要求1所述的抛光垫刷洗装置，其特征在于，所述刷盘的材质为超高分子聚乙烯。3.根据权利要求1所述的抛光垫刷洗装置，其特征在于，所述清洗液喷嘴向所述刷槽中供给清洗液的时间为30s。4.根据权利要求1所述的抛光垫刷洗装置，其特征在于，所述抛光垫刷洗装置还包括驱动机构，所述驱动机构被构造成在清洗所述刷毛的过程中驱动所述毛刷绕所述刷盘的纵向轴线转动。5.根据权利要求1所述的抛光垫刷洗装置，其特征在于，所述清洗液供给单元还被构造成所述刷毛清洗完成后所述清洗液喷嘴停止向所述刷槽中供给清洗液，所述进水孔继续向所述刷槽中供给清洗液以使得所述刷槽中的液位上升至设定的目标液位以保湿所述刷毛；以及，在所述毛刷离开所述刷槽刷洗抛光垫的过程中，所述清洗液喷嘴和所述进水孔均停止向所述刷槽中供给清洗液。6.根据权利要求1所述的抛光垫刷洗装置，其特征在于，所述抛光垫刷洗装置还包括能够沿竖直方向上下升降的溢流口，所述溢流口被构造成在清洗所述刷毛的过程中位于设定的最小高度位置，以使得所述刷毛缝隙...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁松柏，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，
类型：发明
国别省市：