一种显示面板的制备方法技术

本发明专利技术的实施例公开了一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：制备第一电极阵列排布于阵列基板上，相邻所述第一电极在第一方向上形成第一间隔，相邻所述第一电极在第二方向上形成第二间隔；整层覆盖负性材料于所述第一电极以及所述阵列基板上；对整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影，所述第一间隔内的负性材料形成具有疏水性的第一像素定义层，所述第二间隔内的负性材料形成具有疏水性的第二像素定义层；对所述第一像素定义层再次曝光，使所述第一像素定义层具有亲水性。根据本发明专利技术，只需要涂布一层负性材料，并进行曝光显影再曝光便可得到两层像素定义层，节省了材料、设备的成本和时间成本，提高了制作效率。提高了制作效率。提高了制作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制备方法


[0001]本专利技术涉及显示面板领域，特别涉及一种显示面板的制备方法。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(OLED)器件具有自发光、视角光、对比度高、响应速度快、轻薄等特点，已成为显示技术的主要趋势。相对于采用精细掩模版及真空蒸镀OLED器件来说，喷墨打印技术因其精准的对位，无需Fine Metal Mask，且其材料利用率可以达到100％而备受关注，成为未来大尺寸OLED器件制作的主流趋势。
[0003]有机发光二极管像素排列通常由多个像素点构成，每个像素点包含红色(R)子像素、绿色(G)子像素和蓝色(B)子像素，R、G、B子像素依次循环排列，组成矩阵。这种传统的像素排列结构存在以下问题：(1)在打印过程中，由于某个打印头喷嘴不稳定，导致此喷嘴参与打印的像素内墨滴的体积偏大或偏小，导致产品显示时，出现一条条亮线或暗线，产生线性mura；(2)只有与子像素所对应的喷嘴进行喷墨，而处于子像素与子像素之间的喷嘴不喷墨水，导致喷嘴利用率低，打印循环次数多，打印时间长，先后打印的墨水挥发干燥情况不同，产生干燥mura。
[0004]为了解决上述技术问题，现有技术采取的技术方案是将所有红色子像素连接起来，所有绿色子像素连接起来，蓝色子像素连接起来，形成线性像素行，如此，打印到像素中的墨水就可以互相流通，最终将体积平均化，进而解决上述技术问题。
[0005]但是，为了独立发光，需要在横纵方向分别制作第一像素定义层和第二像素定义层。因为第一像素定义层为亲水性材料，第二像素定义层为疏水性材料，所以，需要分别制作两次涂胶曝光显影制程，步骤繁琐，材料费用高，设备数量增加，使得费用成本和时间成本都增加。
[0006]有鉴于此，实有必要开发一种显示面板的制备方法，用以解决制作两层像素定义层花费的金钱成本和时间成本增加的问题。

技术实现思路

[0007]本专利技术的实施例提供一种显示面板的制备方法，用以解决制作两层像素定义层花费的金钱成本和时间成本增加的问题。
[0008]为了解决上述技术问题，本专利技术的实施例公开了如下技术方案：
[0009]提供了一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一阵列基板；制备第一电极于阵列基板上，所述第一电极阵列排布于所述阵列基板上，相邻所述第一电极在第一方向上形成第一间隔，相邻所述第一电极在第二方向上形成第二间隔；整层覆盖负性材料于所述第一电极以及所述阵列基板上；对整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影，所述第一间隔内的负性材料形成具有疏水性的第一像素定义层，所述第二间隔内的负性材料形成具有疏水性的第二像素定义层；对所述第一像素定义层再次曝光，使所述第一像素定义层具有亲水性；制备发光层于所述第一电极上。
[0010]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述第二像素定义层的厚度大于所述第一像素定义层的厚度。
[0011]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述第一像素定义层的厚度范围为0.2um
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0.5um，所述第二像素定义层的厚度范围为1um到2um。
[0012]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述第一像素定义层的厚度大于所述第一电极的厚度。
[0013]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述发光层的厚度小于所述所述第二像素定义层的厚度。
[0014]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，对所述第一像素定义层再次曝光这一步骤中，采用UV光照对所述第一像素定义层再次曝光。
[0015]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述第一像素定义层的厚度小于所述发光层的厚度。
[0016]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影这一步骤中，采用半色调掩模版对整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影。
[0017]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，相邻的所述所述第二像素定义层之间形成有打印槽，沿着所述打印槽的延伸方向能够连续打印发光材料以形成发光层。
[0018]除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，制备发光层的步骤后还包括：制备第二电极于所述发光层和所述第二像素定义层上。
[0019]上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果：只需要涂布一层负性材料，并进行曝光显影再曝光便可得到两层像素定义层，节省了材料、设备的成本和时间成本，提高了制作效率；并且减少制作一层像素定义层的工艺后，也减少了该段工艺带来的良率问题，提升了产品的良率。
附图说明
[0020]下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0021]图1为本专利技术实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图；
[0022]图2为本专利技术实施例提供的阵列基板的剖面结构示意图；
[0023]图3为本专利技术实施例提供的制备方法步骤2制得的显示面板的剖面结构示意图；
[0024]图4本专利技术实施例提供的制备方法步骤2制得的显示面板的俯视结构示意图；
[0025]图5本专利技术实施例提供的制备方法步骤4制得的显示面板的俯视结构示意图；
[0026]图6本专利技术实施例提供的制备方法步骤6制得的显示面板的俯视结构示意图；
[0027]图7本专利技术实施例提供的制备方法步骤6制得的显示面板的剖面结构示意图；
[0028]图8本专利技术实施例提供的制备方法步骤7制得的显示面板的剖面结构示意图。
具体实施方式
[0029]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0030]请参阅图1，图1为本专利技术实施例提供的显示面板制备方法的流程示意图。所述显示面板制备方法包括步骤1
‑
步骤7。
[0031]步骤1：提供阵列基板。
[0032]请参阅图2为本专利技术实施例提供的阵列基板的剖面结构示意图。
[0033]具体地，提供衬底基板11，所述衬底基板11可以为刚性基板或柔性基板，所述衬底基板11为刚性基板时，可包括玻璃基板等硬性基板；所述衬底基板11为柔性基板时，可包括聚酰亚胺薄膜、超薄玻璃薄膜等柔性基板。
[0034]可选地，在所述衬底基板11上沉积金属层，所述金属层可以为单层或多层金属层的叠层，图案化所述金属层，形成具备走线及遮光作用的遮光层12。
[0035本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一阵列基板；制备第一电极于阵列基板上，所述第一电极阵列排布于所述阵列基板上，相邻所述第一电极在第一方向上形成第一间隔，相邻所述第一电极在第二方向上形成第二间隔；整层覆盖负性材料于所述第一电极以及所述阵列基板上；对整层覆盖的所述负性材料进行曝光、显影，所述第一间隔内的负性材料形成具有疏水性的第一像素定义层，所述第二间隔内的负性材料形成具有疏水性的第二像素定义层；对所述第一像素定义层再次曝光，使所述第一像素定义层具有亲水性；制备发光层于所述第一电极上。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第二像素定义层的厚度大于所述第一像素定义层的厚度。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一像素定义层的厚度范围为0.2um
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0.5um，所述第二像素定义层的厚度范围为1um到2um。4.如权利要求1所述的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪国杰，瞿红，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：