腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备技术

本发明专利技术实施例提供了一种腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备，应用于半导体装备技术领域，该方法包括：从多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及确定处于闲置状态的目标气体分析仪，打开目标气体分析仪与目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭目标气体分析仪与其它工艺腔室之间的隔离阀，使目标气体分析仪只与目标工艺腔室连通，启动目标气体分析仪，使目标气体分析仪在根据目标工艺腔室内的气体成分确定目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示目标工艺腔室泄漏的第一报警信息。在包括多个工艺腔室的半导体工艺设备中，多个工艺腔室可以共享气体分析仪，因此可以在半导体工艺设备中设置较少的气体分析仪，降低半导体工艺设备的成本。艺设备的成本。艺设备的成本。

【技术实现步骤摘要】
腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备


[0001]本专利技术涉及半导体装备
，特别是涉及一种腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备。

技术介绍

[0002]在晶圆(wafer)加工过程中，一些工艺的实施需要在真空条件下进行，需要保持工艺腔室处于真空状态。例如在退火工艺中，需要保持退火腔室处于真空状态，在晶圆放入退火腔室后，可以进行退火工艺，以去除绝缘层中的水汽和有机物等杂质。
[0003]半导体工艺设备中通常包括多个工艺腔室，在晶圆加工过程中，多个工艺腔室同时动作，可以提高加工效率。腔室进行工作时，内部接近真空，外部被大气包围，腔室上分布有气体管路、阀门、真空规、升降驱动装置等部件，这些部件连通腔室内外，长期使用可能出现老化、松动等情况，导致腔室密封性下降并发生微漏甚至大漏，如果腔室发生泄漏，会导致腔室执行的的工艺不能达到预期效果。目前，需要为每个工艺腔室分别配置一个气体分析仪，在晶圆加工过程中，通过气体分析仪分析进入工艺腔室内的气体成分，确定工艺腔室是否发生泄漏。由于气体分析仪的造价较高，为每个工艺腔室配置气体分析仪时，导致半导体工艺设备的成本较高。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例所要解决的技术问题是为每个工艺腔室配置气体分析仪时，导致半导体工艺设备成本较高的问题。
[0005]为了解决上述问题，本专利技术实施例公开了一种腔室泄漏检测方法，该方法应用于半导体工艺设备，所述半导体工艺设备中包括多个工艺腔室和至少一个气体分析仪，所述工艺腔室分别通过隔离阀与所述气体分析仪连接；所述方法包括：
[0006]从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及从所述至少一个气体分析仪中确定处于闲置状态的目标气体分析仪；
[0007]打开所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭所述目标气体分析仪与其它所述工艺腔室之间的隔离阀，使所述目标气体分析仪只与所述目标工艺腔室连通；
[0008]启动所述目标气体分析仪，使所述目标气体分析仪在根据所述目标工艺腔室内的气体成分确定所述目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示所述目标工艺腔室泄漏的第一报警信息。
[0009]可选地，所述从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，包括：
[0010]在所述半导体工艺设备处于工作状态的情况下，将所述多个工艺腔室中发生目标事件的工艺腔室作为所述目标工艺腔室；所述目标事件标志所述工艺腔室被启动执行预设工艺；
[0011]在所述半导体工艺设备处于待机状态的情况下，顺序从所述多个工艺腔室中选择未与所述气体分析仪连通的工艺腔室作为所述目标工艺腔室。
[0012]可选地，在所述启动所述目标气体分析仪之后，还包括：
[0013]获取所述目标气体分析仪的工作时长，在所述工作时长达到预设时长的情况下，关闭所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀，以使所述目标气体分析仪处于闲置状态；所述预设时长不低于所述目标气体分析仪获取检测结果所需的时长、且不高于相邻的两个所述工艺腔室的目标事件之间的间隔时长。
[0014]可选地，所述顺序从所述多个工艺腔室中选择未与所述气体分析仪连通的工艺腔室作为所述目标工艺腔室，包括：
[0015]确定所述工艺腔室的历史测漏时间与当前时间之间的时差；所述历史测漏时间包括所述工艺腔室前一次与所述气体分析仪连通时的时间；
[0016]从所述多个工艺腔室中选择时差最长的工艺腔室作为所述目标工艺腔室。
[0017]可选地，在所述打开所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀之前，还包括：
[0018]确定所述目标工艺腔室内的压力低于所述目标气体分析仪的安全压力。
[0019]可选地，还包括：
[0020]在所述工艺腔室与所述气体分析仪连通的情况下，若所述工艺腔室内的压力不低于所述气体分析仪的安全压力，则关闭所述气体分析仪与所述工艺腔室之间的隔离阀，并输出指示压力超限的第二报警信息。
[0021]可选地，在所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室连通之后，还包括：
[0022]在接收到打开所述目标气体分析仪与其它所述工艺腔室之间的隔离阀的控制指令的情况下，将所述控制指令作为无效指令，并输出表征指令错误的提示信息。
[0023]可选地，还包括：
[0024]在所述隔离阀打开和/或关闭失败的情况下，输出指示隔离阀故障的第三报警信息。
[0025]本专利技术实施例公开了一种半导体工艺设备，所述半导体工艺设备中包括多个工艺腔室和至少一个气体分析仪，所述工艺腔室分别通过隔离阀与所述气体分析仪连接；所述半导体工艺设备还包括控制器；
[0026]所述控制器用于从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及从所述至少一个气体分析仪中确定处于闲置状态的目标气体分析仪；打开所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭所述目标气体分析仪与其它所述工艺腔室之间的隔离阀，使所述目标气体分析仪只与所述目标工艺腔室连通；启动所述目标气体分析仪，使所述目标气体分析仪在根据所述目标工艺腔室内的气体成分确定所述目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示腔室泄漏的第一报警信息。
[0027]可选地，所述控制器具体用于在所述半导体工艺设备处于工作状态的情况下，将所述多个工艺腔室中发生目标事件的工艺腔室作为所述目标工艺腔室；所述目标事件标志所述工艺腔室被启动执行预设工艺；
[0028]在所述半导体工艺设备处于待机状态的情况下，顺序从所述多个工艺腔室中选择未与所述气体分析仪连通的工艺腔室作为所述目标工艺腔室。
[0029]与
技术介绍
相比，本专利技术包括以下优点：从多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及从至少一个气体分析仪中确定处于闲置状态的目标气体分析仪，打开目标气体分析仪与目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭目标气体分析仪与其它工艺腔室之间的隔离阀，使目标气体分析仪只与目标工艺腔室连通，启动目标气体分析仪，使目标气体分析仪在根据目标工艺腔室内的气体成分确定目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示目标工艺腔室泄漏的第一报警信息。在包括多个工艺腔室的半导体工艺设备中，可以设置较少数量或者仅设置一个气体分析仪，这样气体分析仪可以轮流与每个工艺腔室连通，检测连通的工艺腔室是否发生泄漏，使多个工艺腔室可以共享气体分析仪，降低半导体工艺设备的成本。
附图说明
[0030]图1示出了本实施例提供的一种半导体工艺设备的结构示意图；
[0031]图2示出了本实施例提供的一种半导体工艺设备的操作界面示意图；
[0032]图3示出了本实施例提供的一种晶圆传输示意图；
[0033]图4示出了本实施例提供的一种腔室泄漏检测方法的步骤流程图；
[0034]图5示出了本实施例提供的一种气体分析仪的连接示意图；
[0035]图6示出了本实施例提供的一种机械手的动作流程示意图；
[0036]图7示出了本实施例提供的另一种机械本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种腔室泄漏检测方法，其特征在于，应用于半导体工艺设备，所述半导体工艺设备中包括多个工艺腔室和至少一个气体分析仪，所述工艺腔室分别通过隔离阀与所述气体分析仪连接；所述方法包括：从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及从所述至少一个气体分析仪中确定处于闲置状态的目标气体分析仪；打开所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭所述目标气体分析仪与其它所述工艺腔室之间的隔离阀，使所述目标气体分析仪只与所述目标工艺腔室连通；启动所述目标气体分析仪，使所述目标气体分析仪在根据所述目标工艺腔室内的气体成分确定所述目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示所述目标工艺腔室泄漏的第一报警信息。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，包括：在所述半导体工艺设备处于工作状态的情况下，将所述多个工艺腔室中发生目标事件的工艺腔室作为所述目标工艺腔室；所述目标事件标志所述工艺腔室被启动执行预设工艺；在所述半导体工艺设备处于待机状态的情况下，顺序从所述多个工艺腔室中选择未与所述气体分析仪连通的工艺腔室作为所述目标工艺腔室。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述启动所述目标气体分析仪之后，还包括：获取所述目标气体分析仪的工作时长，在所述工作时长达到预设时长的情况下，关闭所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀，以使所述目标气体分析仪处于闲置状态；所述预设时长不低于所述目标气体分析仪获取检测结果所需的时长、且不高于相邻的两个所述工艺腔室的目标事件之间的间隔时长。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述顺序从所述多个工艺腔室中选择未与所述气体分析仪连通的工艺腔室作为所述目标工艺腔室，包括：确定所述工艺腔室的历史测漏时间与当前时间之间的时差；所述历史测漏时间包括所述工艺腔室前一次与所述气体分析仪连通时的时间；从所述多个工艺腔室中选择时差最长的工艺腔室作为所述目标工艺腔室。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述打开所述目...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋兴亮，李强，方林，杨帆，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：