一种气溶胶生成制品制造技术

技术编号:32842517 阅读:9 留言:0更新日期:2022-03-30 18:32
本申请公开了一种气溶胶生成制品,气溶胶生成制品包括气溶胶产生基质、封装层和覆盖层;封装层围设形成凹部,凹部中设置有气溶胶产生基质;覆盖层覆盖至少一部分封装层及凹部的开口,气溶胶产生基质位于封装层与覆盖层之间;覆盖层对应于开口处设置有通孔。通过上述设置,避免了发热元件与气溶胶产生基质直接接触,也就避免了发热元件加热气溶胶产生基质产生气溶胶时气溶胶残留物粘附在发热元件上,进而避免了气溶胶残留物粘附在发热元件上难清洁的问题,即使发热元件重复使用对气溶胶的口感也不会产生影响,提高用户的使用体验感。提高用户的使用体验感。提高用户的使用体验感。

【技术实现步骤摘要】
一种气溶胶生成制品


[0001]本申请涉及雾化器
,具体是涉及一种气溶胶生成制品。

技术介绍

[0002]目前,市场上的加热不燃烧(HNB)产品,其通常为长条形圆柱形态,发热体独立于气溶胶产生基质,用户使用时再将发热体插入气溶胶产生基质内部或包裹在气溶胶产生基质外部,发热体和气溶胶产生基质直接接触,通过对发热体施加能量使其发热进而对气溶胶产生基质进行烘烤,使其产生气溶胶以供用户吸食。
[0003]由于气溶胶产生基质和发热体直接接触,且发热体必须重复利用,导致使用过程不断累积粘附在发热体上的气溶胶残留物很难清洁,而气溶胶残留物被反复加热会产生焦味异味等,影响口感一致性,进而影响用户的使用体验感。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本申请提供一种气溶胶生成制品,以解决现有技术中气溶胶产生基质和发热体直接接触,使用过程不断累积粘附在发热体上的气溶胶残留物难清洁的技术问题。
[0005]为了解决上述技术问题,本申请提供的第一个技术方案为:提供一种气溶胶生成制品,包括气溶胶产生基质、封装层和覆盖层;所述封装层围设形成凹部,所述凹部中设置有所述气溶胶产生基质;所述覆盖层覆盖至少一部分所述封装层及所述凹部的开口,所述气溶胶产生基质位于所述封装层与所述覆盖层之间;所述覆盖层对应于所述开口处设置有通孔。
[0006]其中,所述凹部包括环形侧壁和底壁,所述环形侧壁外侧具有挂耳。
[0007]其中,所述封装层围设形成的凹部为多个,相邻的所述凹部的环形侧壁间隔设置,相邻的所述凹部共用一个所述挂耳。
[0008]其中,所述封装层在相邻的所述凹部之间共用的所述挂耳上设置有第一隔断孔。
[0009]其中,所述覆盖层上设置有第二隔断孔,所述第二隔断孔与所述第一隔断孔对应设置。
[0010]其中,每个所述封装层围设形成所述一个凹部,相邻的所述凹部之间间隔设置,相邻的所述凹部的挂耳之间间隔设置。
[0011]其中,所述气溶胶生成基质聚集成层状体,所述凹部的底壁与所述气溶胶产生基质的底面贴合,所述凹部的侧壁与所述气溶胶产生基质的侧面之间的距离为0.1mm

1.0mm。
[0012]其中,所述气溶胶产生基质的厚度为0.5mm

3mm,所述凹部的深度为0.5mm

3mm。
[0013]其中,所述气溶胶产生基质的横截面形状为圆形,所述气溶胶产生基质的直径为3.0mm

20mm。
[0014]其中,所述封装层的厚度为0.05mm

0.3mm。
[0015]其中,所述封装层为铝箔。
[0016]其中,所述覆盖层的厚度为0.02mm

0.1mm;所述覆盖层为铝箔。
[0017]本申请的有益效果:区别于现有技术,本申请中的气溶胶生成制品包括气溶胶产生基质、封装层和覆盖层;封装层围设形成凹部,凹部中设置有气溶胶产生基质;覆盖层覆盖至少一部分封装层及凹部的开口,气溶胶产生基质位于封装层与覆盖层之间;覆盖层对应于开口处设置有通孔。通过上述设置,避免了发热元件与气溶胶产生基质直接接触,也就避免了发热元件加热气溶胶产生基质产生气溶胶时气溶胶残留物粘附在发热元件上,进而避免了气溶胶残留物粘附在发热元件上难清洁的问题,即使发热元件重复使用对气溶胶的口感也不会产生影响,提高用户的使用体验感。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0019]图1是本申请提供气溶胶产生装置的结构示意图;
[0020]图2是本申请提供的气溶胶生成制品第一实施例的结构示意图;
[0021]图3是本申请提供的气溶胶生成制品第二实施例的结构示意图;
[0022]图4是本申请提供的气溶胶生成制品第三实施例的结构示意图;
[0023]图5是本申请提供的气溶胶生成制品第四实施例的结构示意图;
[0024]图6是本申请提供的气溶胶生成制品第五实施例的结构示意图;
[0025]图7是本申请提供的气溶胶生成制品第五实施例的另一结构示意图;
[0026]图8是本申请提供的气溶胶生成制品第六实施例的结构示意图;
[0027]图9是本申请提供的气溶胶生成制品第六实施例的另一结构示意图;
[0028]图10是本申请提供的雾化主机的结构示意图;
[0029]图11是本申请提供的雾化主机中安装座的结构示意图;
[0030]图12是本申请提供的雾化主机中安装座的另一结构示意图;
[0031]图13是本申请提供的雾化主机第一实施例的局部截面示意图;
[0032]图14a是本申请提供的雾化主机第一实施例中发热元件一实施方式的截面示意图;
[0033]图14b是本申请提供的雾化主机第一实施例中发热元件另一实施方式的截面示意图;
[0034]图15是本申请提供的雾化主机第一实施例中发热元件的立体结构示意图;
[0035]图16是本申请提供的雾化主机第一实施例中发热元件的发热线路层的结构示意图;
[0036]图17是本申请提供的气溶胶生成制品加热时间与温度的关系示意图;
[0037]图18是本申请提供的雾化主机第二实施例的局部结构示意图;
[0038]图19是本申请提供的雾化主机第二实施例的局部截面示意图;
[0039]图20是本申请提供的一气溶胶产生方法的流程示意图;
[0040]图21是本申请提供的气体连通组件的结构示意图;
[0041]图22是本申请提供的气体连通组件的截面示意图;
[0042]图23是本申请提供的气体连通组件中顶盖的截面示意图;
[0043]图24是本申请提供的气体连通组件中底盖的截面示意图;
[0044]图25是本申请提供的气溶胶产生装置的局部截面示意图;
[0045]图26是本申请提供的气体连通组件的气体流向示意图;
[0046]图27是本申请提供的另一种气溶胶产生装置的结构示意图;
[0047]图28是本申请提供的又一种气溶胶产生装置的结构示意图。
具体实施方式
[0048]下面结合附图和实施例,对本申请作进一步的详细描述。特别指出的是,以下实施例仅用于说明本申请,但不对本申请的范围进行限定。同样的,以下实施例仅为本申请的部分实施例而非全部实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本申请保护的范围。
[0049]本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气溶胶生成制品,其特征在于,包括:气溶胶产生基质;封装层,所述封装层围设形成凹部,所述凹部中设置有所述气溶胶产生基质;覆盖层,覆盖至少一部分所述封装层及所述凹部的开口,所述气溶胶产生基质位于所述封装层与所述覆盖层之间;所述覆盖层对应于所述开口处设置有通孔。2.根据权利要求1所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述凹部包括环形侧壁和底壁,所述环形侧壁外侧具有挂耳。3.根据权利要求2所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述封装层围设形成的凹部为多个,相邻的所述凹部的环形侧壁间隔设置,相邻的所述凹部共用一个所述挂耳。4.根据权利要求3所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述封装层在相邻的所述凹部之间共用的所述挂耳上设置有第一隔断孔。5.根据权利要求4所述的气溶胶生成制品,其特征在于,所述覆盖层上设置有第二隔断孔,所述第二隔断孔与所述第一隔断孔对应设置。6.根据权利要求2所述的气溶胶生成制品,其特征在于,每个所述封装层围设形成所述一个凹部,相邻的所述凹部之间间隔设置,相邻的所述凹部的挂耳之间间隔设置。7.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:何丹充邢凤雷沈丕发柯志勇
申请(专利权)人:深圳麦克韦尔科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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