镀膜装置及镀膜系统制造方法及图纸

本申请提供一种镀膜装置及镀膜系统，属于镀膜技术领域。该镀膜装置包括沿高分子基膜的输送路径依次设置的吹气装置和蒸镀装置。吹气装置被配置成提供气体并使气体附着在高分子基膜上，蒸镀装置被配置成提供金属原子，以使金属原子与高分子基膜上的气体发生反应得到金属化合物层。上述镀膜装置可以使金属化合物层的质地更加均匀，从而提高薄膜的性能。从而提高薄膜的性能。从而提高薄膜的性能。

【技术实现步骤摘要】
镀膜装置及镀膜系统


[0001]本申请涉及镀膜
，具体而言，涉及一种镀膜装置及镀膜系统。

技术介绍

[0002]在高分子基膜的表面通过蒸镀的方式形成金属层，从而可以得到导电膜。为了提高薄膜的性能，可以在高分子基膜与金属层之间形成一层金属氧化物层结构，例如：在高分子基膜与金属铝层之间形成一层氧化铝层，可以提高高分子基膜与金属铝层之间的结合力；还可以在导电膜的金属层表面形成一层金属氧化物层结构，例如：在导电膜的金属铝层表面形成一层氧化铝层，增加薄膜的阻隔性能，延长其使用寿命。
[0003]但是，现有技术中，氧化铝层通常均匀性较差，会影响薄膜的性能。

技术实现思路

[0004]现有技术中，为了在高分子基膜上形成氧化铝层结构，通常是在蒸发舟内通入氧气，在蒸镀金属铝原子的同时，将蒸镀的金属铝原子与通入的氧气混合，从而反应形成氧化铝层结构。专利技术人研究发现，由于金属铝原子与氧气混合的过程中会发生化学反应，且该反应在金属铝原子上升至高分子基膜的过程中(金属铝原子和氧气还没有接触高分子基膜就发生氧化反应得到氧化铝)以及上升至高分子基膜以后(金属铝原子和氧气接触高分子基膜以后发生氧化反应得到氧化铝)均在进行，从而使得到的氧化铝层的均匀性较差。
[0005]本申请的目的在于提供一种镀膜装置及镀膜系统，可以提高薄膜的均匀性。
[0006]第一方面，本申请提供一种镀膜装置，包括：沿高分子基膜的输送路径依次设置的吹气装置和蒸镀装置。吹气装置被配置成提供气体并使气体附着在高分子基膜上，蒸镀装置被配置成提供金属原子，以使金属原子与高分子基膜上的气体发生反应得到金属化合物层。
[0007]先在蒸镀装置的前端设置吹气装置，吹气装置的气口朝向高分子基膜，通过吹气装置向高分子基膜的方向吹气，能够使气体均匀地附着在高分子基膜的表面(高分子基膜对气体具有一定的吸附效果)，然后再使蒸镀装置提供的金属原子与高分子基膜上的气体接触并发生反应得到金属化合物层，由于金属化合物层是在气体和金属原子与高分子基膜接触后发生化学反应得到，可以使金属化合物层的质地更加均匀，从而提高薄膜的性能。
[0008]在一种可能的实施方式中，蒸镀装置还包括用于输送高分子基膜的第一辊和第二辊。吹气装置位于第一辊的下方，且吹气装置被配置成位于靠近第一辊的高分子基膜的下方。蒸镀装置位于第一辊和第二辊之间，且蒸镀装置被配置成位于第一辊和第二辊之间的高分子基膜的下方。
[0009]吹气装置设置在第一辊的下方，其靠近蒸镀装置，吹气装置产生的气体不会马上被负压装置抽走，可以有更多的气体吸附在高分子基膜的表面，且高分子基膜从第一辊与蒸镀装置之间无其他辊结构，可以避免吸附上的气体在输送的过程中流失，然后通过悬浮蒸镀的方式提供金属原子，金属原子上升至高分子基膜上的时候，金属原子会被高分子基
膜上的气体吸附并与气体发生化学反应，可以使得到的金属化合物层较为均匀且致密。
[0010]在一种可能的实施方式中，第一辊的上周面或下周面与第二辊的上周面或下周面齐平，且第一辊和第二辊被配置成使第一辊与第二辊之间的高分子基膜水平设置。吹气装置被配置成位于第一辊与第二辊之间的高分子基膜的靠近第一辊的区域的下方。
[0011]吹气装置设置在水平的高分子基膜的下方，可以使吹气装置提供的气体更加均匀地附着在高分子基膜上，一般情况下，高分子基膜上附着一层氧气，在后续与金属原子发生反应以后，以便后续形成的层结构更加均匀，且厚度较薄，容易控制。
[0012]在一种可能的实施方式中，吹气装置包括吹气管道，吹气管道设置于第一辊的下方，且吹气管道的延伸方向与第一辊的延伸方向一致，吹气管道的靠近第一辊的管壁上设置有多个间隔的气孔。
[0013]在高分子基膜输送的过程中，吹气管道对高分子基膜的幅宽方向均匀地提供气体，可以使高分子基膜在输送的过程中均匀地附着气体，以便得到均匀的层结构。
[0014]在一种可能的实施方式中，气孔的孔径为吹气管道的内径的0.2
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0.8倍，相邻两个气孔的距离为吹气管道的0.5
‑
2倍。
[0015]吹气管道内不断提供气体，气体经过气孔以后，由于气流的作用，会向上运动，且气体会有一定的扩散，设置上述参数，可以使上升后的气体可以较为均匀地吸附在高分子基膜的表面，可以减少高分子基膜上的气体空白区域(减少高分子基膜上未吸附气体的区域)。
[0016]在一种可能的实施方式中，吹气管道的轴线与第一辊的轴线之间的距离为吹气管道的内径的3
‑
6倍。可以使气体在气流作用下上升的过程中，基本使高分子基膜的表面均吸附气体。
[0017]在一种可能的实施方式中，吹气管道的长度是第一辊的长度的0.8
‑
1.2倍。可以使气体在气流作用下上升的过程中，高分子基膜的幅宽方向均吸附气体。
[0018]在一种可能的实施方式中，沿高分子基膜的输送路径，第二辊的后端设置有主冷辊，主冷辊被配置成冷却镀膜后的高分子基膜。
[0019]在蒸镀以后，通过主冷辊进行冷却，可以使高分子基膜上的层结构较为致密，避免输送的过程中层结构遭到损伤。
[0020]在一种可能的实施方式中，沿高分子基膜的输送路径，第一辊的前端设置有放卷辊，主冷辊的后端设置有收卷辊。
[0021]第二方面，本申请提供一种镀膜系统，包括能够抽真空的腔室和设置于腔室内的上述镀膜装置。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图也属于本申请的保护范围。
[0023]图1为本申请提供的镀膜装置的第一结构示意图；
[0024]图2为本申请实施例提供的吹气装置与高分子基膜的位置结构示意图；
[0025]图3为本申请提供的镀膜装置的第二结构示意图；
[0026]图4为本申请对比例提供的镀膜装置的结构示意图。
[0027]图标：110
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放卷辊；121
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第三辊；122
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第四辊；123
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第五辊；124
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第一辊；125
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第二辊；130
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主冷辊；141
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第六辊；142
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第七辊；143
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第八辊；144
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第九辊；150
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收卷辊；200
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高分子基膜；160
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蒸镀装置；170
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吹气装置；171
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吹气管道；172
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气孔；161
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蒸发槽；180
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送丝机构；181
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：沿高分子基膜的输送路径依次设置的吹气装置和蒸镀装置；所述吹气装置被配置成提供气体并使所述气体附着在高分子基膜上，所述蒸镀装置被配置成提供金属原子，以使所述金属原子与所述高分子基膜上的气体发生反应得到金属化合物层。2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置还包括用于输送所述高分子基膜的第一辊和第二辊；所述吹气装置位于所述第一辊的下方，且所述吹气装置被配置成位于靠近所述第一辊的高分子基膜的下方；所述蒸镀装置位于所述第一辊和所述第二辊之间，且所述蒸镀装置被配置成位于所述第一辊和所述第二辊之间的高分子基膜的下方。3.根据权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述第一辊的上周面或下周面与所述第二辊的上周面或下周面齐平，且所述第一辊和所述第二辊被配置成使所述第一辊与所述第二辊之间的高分子基膜水平设置；所述吹气装置被配置成位于所述第一辊与所述第二辊之间的高分子基膜的靠近所述第一辊的区域的下方。4.根据权利要求2或3所述的镀膜装置，其特征在于，所述吹气装置包括吹气管道，所述吹气管道设置于所述第一辊的下方，且所述吹气管道的延伸方向与所述第一辊的延伸...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁勇新，张万财，
申请(专利权)人：厦门海辰新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：