一种光刻胶混配过滤供应设备制造技术

技术编号:32763457 阅读:49 留言:0更新日期:2022-03-23 19:10
本实用新型专利技术涉及一种光刻胶混配过滤供应设备,包括设备主体,设备主体顶部安装有高效空气过滤器和排风装置,高效空气过滤器、排风装置与设备底部回风道形成洁净空气流场,设备主体内后部设有两个混合桶槽,两个混合桶槽顶部分别装设有搅拌电机,两个搅拌电机分别带动搅拌桨对两个混合桶槽内溶液充分混合搅拌,混合桶槽一底部通过供应泵一连接过滤器组合一,过滤器组合一通过管道分别连接两个混合桶槽顶部的进口,混合桶槽二底部通过供应泵二连接过滤器组合二,过滤器组合二通过管道分别连接供应出口、混合桶槽二顶部的进口,供应出口通过管道连接至充填区;本实用新型专利技术可保证管道和桶槽内光刻胶不易结晶,且更大程度上考虑了操作人员的安全。作人员的安全。作人员的安全。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶混配过滤供应设备
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][0001]本技术涉及光刻胶供应
,具体地说是一种光刻胶混配过滤供应设备。
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技术介绍
][0002]集成电路(IC)制造已成为世界上最高新和最庞大的产业之一,在超大规模集成电路(IC)的生产中光刻工艺占据十分重要的地位。集成电路(IC)制造中,需要将掩膜母版上的几何图形先转移到基片表面的光刻胶胶膜上,然后再通过从曝光到蚀刻等一系列处理技术把光刻胶膜上的图像复制到衬底基片表面并形成永久性图形。其中典型的微细加工过程包括基片预处理、涂胶、前烘、曝光、显影、清洗、后烘、蚀刻、去胶,得到所需的永久性图形,也即在图形化处理之前,先对硅片进行烘干和处理,然后均匀涂上光刻胶,经前烘去除光刻胶溶剂通过步进缩小投影曝光,在硅片上形成曝光电路图形。然后经显影,曝光部分去除,保留下没有曝光部分。经后烘,使光刻胶膜粘附更坚固。再用湿法刻蚀,将电路图形永久地保留在硅片上。同时采用热扩散和离子注入进行掺杂,最后用去胶剂去除光刻胶膜,在硅片上形成永久性的IC设计图形。
[0003]在集成电路或半导体分立器件的制做过程中往往需要多次甚至几十次的光刻,每次光刻均需要完成上述的工序循环。光刻胶的技术复杂,品种较多。光刻胶混配过滤供应系统的好坏直接影响CMP制程效果。光刻胶在预先混合和使用中不能产生较大颗粒、结晶、感光等问题。为了解决此类问题,人们一直在寻求一种更理想的安全操作模式的技术解决方案。
[0004]国内光刻胶混配过滤供应系统的此类设备多数依赖进口,随着国内半导体行业的快速发展与之配套的上游精细化工产业也纷纷配套研发。为了解决此类问题,人们一直在寻求一种更理想的既准确有又方便的技术解决方案。
[0005]随着我国半导体行业的不断发展,化学品品种越来越多,国内对化学品供应流程及供应过程的要求越来越严格,精度越来越高。目前国内光刻胶混配过滤供应系统都采用混合桶、泵和过滤器混合,混合后进入储存桶槽储存,混合和储存中需要不断保持光刻胶流动,设备体积庞大,过滤器滤芯报废过快,造价成本高。另外光刻胶的结晶,絮凝等特性目前设备解决方案没有很好的解决办法,设备可靠性不高。由于化学溶液的的腐蚀性特性,目前市面上现有的设备运动执行部件多,会导致设备内环境颗粒无法控制,无法满足高洁净度化学溶液的充填封装需求并具有一定的操作风险性,人力成本高,安全性不足。
[0006]且目前国内此类设备多数依赖进口并且无法达到客户需求并随着需求改变而及时灵活调整设计,设计上安全保护措施也不充分等问题。随着国内半导体行业的快速发展,因此对化学品的生产效率、洁净度、安全性等也提出更高的要求。若能提供一种光刻胶混配过滤供应设备以解决上述的不足,并使得操作方便,降低成本且大大提高工作效率和安全性,将具有非常重要的意义。
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技术实现思路
][0007]本技术的目的就是要解决上述的不足而提供一种光刻胶混配过滤供应设备,能够保证管道和桶槽内光刻胶不易结晶,保证光刻胶品质,且更大程度上考虑了操作人员的安全,整个操作过程安全、可靠。
[0008]为实现上述目的设计一种光刻胶混配过滤供应设备,包括设备主体1,所述设备主体1内分割成充填区、设备管道区、设备仪控区21及设备气体控制区22,所述设备仪控区21设有PLC控制系统12,所述设备主体1顶部安装有高效空气过滤器3和排风装置4,所述设备主体1内底部设置有设备底部回风道8,所述高效空气过滤器3、排风装置4与设备底部回风道8形成洁净空气流场,所述设备主体1内后部设有混合桶槽一32和混合桶槽二34,所述混合桶槽一32、混合桶槽二34分别置于电子秤组合一29、电子秤组合二37上,所述混合桶槽一32、混合桶槽二34顶部分别装设有搅拌电机一26、搅拌电机二24,所述搅拌电机一26带动搅拌桨一31对混合桶槽一32内溶液充分混合搅拌,所述搅拌电机二24带动搅拌桨二33对混合桶槽二34内溶液充分混合搅拌,所述混合桶槽一32底部通过管道连接供应泵一30,所述供应泵一30通过管道连接过滤器组合一27,所述过滤器组合一27通过管道分别连接混合桶槽一32、混合桶槽二34顶部的进口,所述混合桶槽二34底部通过管道连接供应泵二35,所述供应泵二35通过管道连接过滤器组合二36,所述过滤器组合二36通过管道分别连接供应出口38、混合桶槽二34顶部的进口,所述供应出口38通过管道连接至充填区。
[0009]进一步地,所述混合桶槽一32、混合桶槽二34上分别设有高纯氮气接口三25、高纯氮气接口二23,并通过高纯氮气接口三25、高纯氮气接口二23对桶内加入GN2确保桶内正压状态。
[0010]进一步地,所述供应出口38通过管道连接至充填区的充填接口15,并经充填接口15将合格产品加入到充填定量装置一16和充填定量装置二17中,所述充填接口15处的切换控制阀通过线路连接PLC控制系统12,所述充填定量装置一16、充填定量装置二17分别通过管道连接高纯氮气接口一20,所述高纯氮气接口一20通过管道连接取样装置13,所述高纯氮气接口一20将充填定量装置一16、充填定量装置二17中的溶液压入到取样装置13的取样瓶中。
[0011]进一步地,所述取样装置13设计纯水清洗管道,所述纯水清洗管道用于取样后进行清洁,所述取样装置13通过线路连接PLC控制系统12。
[0012]进一步地,所述充填定量装置一16、充填定量装置二17上均设置有液位检测传感器14,所述充填定量装置一16、充填定量装置二17分别对应连接有排气管口一18、排气管口二19。
[0013]进一步地,所述充填区前部装设有前防护拉门2,所述充填区设有充填机械手臂5以及布置于充填机械手臂5下方的取样瓶定位机构7,所述充填机械手臂5包括电缸6、充填阀组10、气缸11、接酸盒机构9,所述电缸6的输出端连接充填阀组10,并控制充填阀组10上下移动,所述气缸11的活塞端连接接酸盒机构9,并控制接酸盒机构9前后移动,所述电缸6、气缸11分别通过线路连接PLC控制系统12,所述充填阀组10的气动阀门配合充填机械手臂5同时配合取样瓶定位机构7以精确定位取样瓶。
[0014]进一步地,所述设备主体1底部装设有泄露传感器28,所述泄露传感器28通过线路连接PLC控制系统12。
32、混合桶槽一 33、搅拌桨二 34、混合桶槽二 35、供应泵二 36、过滤器组合二 37、电子秤组合二 38、供应出口。
[具体实施方式][0031]下面结合附图对本技术作以下进一步说明:
[0032]如附图1至附图3所示,本技术提供了一种光刻胶混配过滤供应设备,包括设备主体1,设备主体1内分割成充填区、设备管道区、设备仪控区21及设备气体控制区22,设备仪控区21设有PLC控制系统12,设备主体1顶部安装有高效空气过滤器3和排风装置4,设备主体1内底部设置有设备底部回风道8,高效空气过滤器3、排风装置4与设备底部回风道8形成洁净空气流场,设备主体1内后部设有混合桶槽一32和混合桶槽二34,混合桶槽一32、混合桶槽二34分别置于电子秤组合一29、电子秤组合二3本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶混配过滤供应设备,包括设备主体(1),所述设备主体(1)内分割成充填区、设备管道区、设备仪控区(21)及设备气体控制区(22),所述设备仪控区(21)设有PLC控制系统(12),其特征在于:所述设备主体(1)顶部安装有高效空气过滤器(3)和排风装置(4),所述设备主体(1)内底部设置有设备底部回风道(8),所述高效空气过滤器(3)、排风装置(4)与设备底部回风道(8)形成洁净空气流场,所述设备主体(1)内后部设有混合桶槽一(32)和混合桶槽二(34),所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)分别置于电子秤组合一(29)、电子秤组合二(37)上,所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)顶部分别装设有搅拌电机一(26)、搅拌电机二(24),所述搅拌电机一(26)带动搅拌桨一(31)对混合桶槽一(32)内溶液充分混合搅拌,所述搅拌电机二(24)带动搅拌桨二(33)对混合桶槽二(34)内溶液充分混合搅拌,所述混合桶槽一(32)底部通过管道连接供应泵一(30),所述供应泵一(30)通过管道连接过滤器组合一(27),所述过滤器组合一(27)通过管道分别连接混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)顶部的进口,所述混合桶槽二(34)底部通过管道连接供应泵二(35),所述供应泵二(35)通过管道连接过滤器组合二(36),所述过滤器组合二(36)通过管道分别连接供应出口(38)、混合桶槽二(34)顶部的进口,所述供应出口(38)通过管道连接至充填区。2.如权利要求1所述的光刻胶混配过滤供应设备,其特征在于:所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)上分别设有高纯氮气接口三(25)、高纯氮气接口二(23),并通过高纯氮气接口三(25)、高纯氮气接口二(23)对桶内加入GN2确保桶内正压状态。3.如权利要求1所述的光刻胶混配过滤供应设备,其特征在于:所述供应出口(38)通过管道连接至充填区的充填接口(15),并经充填接口(15)将合格产品加入到充填定量装置一(16)和充填定量装置二(17)中,所述充填接口(...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄丙军胡厚福李辉领
申请(专利权)人:冠礼控制科技上海有限公司
类型:新型
国别省市:

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