曝光系统及曝光机技术方案

一种曝光系统，包括光源组件、弧形镜组、掩膜板、透镜组、半透半反射镜和第一全反射镜，光源组件发出的光依次经过弧形镜组、掩膜板、透镜组、半透半反射镜后对第一基板进行曝光，第一全反射镜与半透半反射镜的反射面相对设置，半透半反射镜可将光反射至第一全反射镜，第一全反射镜反射的光对第二基板进行曝光。本实用新型专利技术的曝光系统产能提升明显，而且曝光系统的结构简单。本实用新型专利技术还涉及一种曝光机。本实用新型专利技术还涉及一种曝光机。本实用新型专利技术还涉及一种曝光机。

【技术实现步骤摘要】
曝光系统及曝光机


[0001]本技术涉线路制作
，特别涉及一种曝光系统及曝光机。

技术介绍

[0002]显示面板包括显示区和位于显示区边缘的布线区。通过位于布线区的线路是利用曝光机先进行曝光，之后进行显影等工艺制作形成。但是，现有的曝光机只有一套光学系统和与之匹配的玻璃载台(stage)，因此现有的曝光机产能低。
[0003]目前解决曝光机产能低主要是通过优化曝光机设备/制程参数、提升照度、降低光刻胶的DOSE量或者使用快速曝光模式来提升曝光机产能。但是仅仅通过优化曝光机设备/制程参数、提升照度、降低光刻胶的DOSE量或者快速曝光模式来提升曝光机产能的做法手段有限，造成实际产能提升幅度较小。因此急需解决此种问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术提供一种曝光系统，产能提升明显，而且曝光系统的结构简单。
[0005]一种曝光系统，包括光源组件、弧形镜组、掩膜板、透镜组、半透半反射镜和第一全反射镜，光源组件发出的光依次经过弧形镜组、掩膜板、透镜组、半透半反射镜后对第一基板进行曝光，第一全反射镜与半透半反射镜的反射面相对设置，半透半反射镜可将光反射至第一全反射镜，第一全反射镜反射的光对第二基板进行曝光。
[0006]在本技术的实施例中，上述半透半反射镜的透过率为50％，所述半透半反射镜的反射率为50％。
[0007]在本技术的实施例中，上述曝光系统还包括第二全反射镜和第三全反射镜，所述第二全反射镜与所述半透半反射镜的出光面相对设置，所述第三全反射镜与所述第二全反射镜的反射面相对设置，所述第三全反射镜反射的光对第一基板进行曝光。
[0008]在本技术的实施例中，上述透镜组包括梯形镜、凹面镜和凸面镜，所述梯形镜与所述掩膜板的出光面相对设置，所述凸面镜设置于所述梯形镜与所述凹面镜之间，光线经所述梯形镜、所述凹面镜、所述凸面镜、所述凹面镜、所述梯形镜依次反射至所述半透半反射镜。
[0009]在本技术的实施例中，上述梯形镜包括相对的第一反射面和第二反射面，所述第一反射面与所述掩膜板相对设置，所述第一反射面用于将光线反射至所述凹面镜，所述第二反射面与所述半透半反射镜相对设置，所述第二反射面用于将光线反射至所述半透半反射镜。
[0010]在本技术的实施例中，上述光源组件包括光源和反射镜，所述光源用于发出光线，所述反射镜用于将光线反射至所述弧形镜组。
[0011]在本技术的实施例中，上述光源为具有高照度的紫外灯。
[0012]在本技术的实施例中，上述曝光系统还包括底座和曝光台，所述曝光台可移
动地连接在所述底座上，所述第一基板和所述第二基板设置在所述曝光台上，所述曝光台用于承载所述第一基板和所述第二基板同步移动。
[0013]在本技术的实施例中，上述底座内设有第一驱动机构和第二驱动机构，所述第一驱动机构用于驱使所述曝光台沿第一方向移动，所述第二驱动机构用于驱使所述曝光台沿第二方向移动，所述第一方向垂直于所述第二方向。
[0014]本技术还涉及一种曝光机，包括上述的曝光系统。
[0015]本技术的曝光系统能同时对第一基板和第二基板进行曝光，产能提升明显，而且曝光系统的结构简单，光学系部分未增减器件，整体体积增加较少，不会占用太多空间，同时成本增加较少。
附图说明
[0016]图1是本技术第一实施例的曝光系统的结构示意图；
[0017]图2是本技术第二实施例的曝光系统的结构示意图。
具体实施方式
[0018]本技术提供了一种曝光系统。
[0019]为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0020]为了便于本领域技术人员的理解，本技术通过以下实施例对本技术提供的技术方案的具体实现过程进行说明。
[0021]第一实施例
[0022]图1是本技术第一实施例的曝光系统的结构示意图，如图1所示，曝光系统包括光源组件11、弧形镜组12、掩膜板13、透镜组14、半透半反射镜15和第一全反射镜16，光源组件11发出的光依次经过弧形镜组12、掩膜板13、透镜组14、半透半反射镜15后对第一基板21进行曝光，第一全反射镜16与半透半反射镜15的反射面相对设置，半透半反射镜15可将光反射至第一全反射镜16，第一全反射镜16反射的光对第二基板22进行曝光。
[0023]本技术的曝光系统能同时对第一基板21和第二基板22进行曝光，产能提升明显，而且曝光系统的结构简单，光学系部分未增减器件，整体体积增加较少，不会占用太多空间，同时成本增加较少。
[0024]半透半反射镜15的透过率为50％，即50％的光线可透过半透半反射镜15，另外50％的光线被半透半反射镜15反射至第一全反射镜16。
[0025]透镜组14包括梯形镜141、凹面镜142和凸面镜143，梯形镜141与掩膜板13的出光面相对设置，凸面镜143设置于梯形镜141与凹面镜142之间，光线经梯形镜141、凹面镜142、凸面镜143、凹面镜142、梯形镜141依次反射至半透半反射镜15。
[0026]梯形镜141包括相对的第一反射面1411和第二反射面1412，第一反射面1411与掩膜板13相对设置，第一反射面1411用于将光线反射至凹面镜142，第二反射面1412与半透半
反射镜15相对设置，第二反射面1412用于将光线反射至半透半反射镜15。在本实施例中，凹面镜142首先将第一反射面1411反射的光线反射至凸面镜143，之后凸面镜143将光线反射反射至凹面镜142，最后凹面镜142将光线反射至第二反射面1412。
[0027]光源组件11包括光源111和反射镜112，光源111用于发出光线，反射镜112用于将光线反射至弧形镜组12。
[0028]光源111为具有高照度的紫外灯。在本实施例中，光源111可提供普通激光双倍能量的紫外光，提供足够曝光第一基板21和第二基板22的光能。
[0029]曝光系统还包括底座191和曝光台192，曝光台192可移动地连接在底座191上，第一基板21和第二基板22设置在曝光台192上，曝光台192用于承载第一基板21和第二基板22同步移动，保证第一基板21和第二基板22的曝光精度。
[0030]底座191内设有第一驱动机构(图未示)和第二驱动机构(图未示)，第一驱动机构用于驱使曝光台192沿第一方向移动，第二驱动机构用于驱使曝光台192沿第二方向移动，第一方向垂直于第二方向。在本实施例中，第一驱动机构和第二驱动机构例如由步进电机、丝杆、滑动座，其连接关系请参照现有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光系统，其特征在于，包括光源组件、弧形镜组、掩膜板、透镜组、半透半反射镜和第一全反射镜，所述光源组件发出的光依次经过所述弧形镜组、所述掩膜板、所述透镜组、所述半透半反射镜后对第一基板进行曝光，所述第一全反射镜与所述半透半反射镜的反射面相对设置，所述半透半反射镜可将光反射至所述第一全反射镜，所述第一全反射镜反射的光对第二基板进行曝光。2.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述半透半反射镜的透过率为50％，所述半透半反射镜的反射率为50％。3.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括第二全反射镜和第三全反射镜，所述第二全反射镜与所述半透半反射镜的出光面相对设置，所述第三全反射镜与所述第二全反射镜的反射面相对设置，所述第三全反射镜反射的光对第一基板进行曝光。4.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述透镜组包括梯形镜、凹面镜和凸面镜，所述梯形镜与所述掩膜板的出光面相对设置，所述凸面镜设置于所述梯形镜与所述凹面镜之间，光线经所述梯形镜、所述凹面镜、所述凸面镜、所述凹面镜、所述梯形镜依次反射至所述半透半反射镜。5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪杰，杨莉，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：