一种椭偏仪测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种椭偏仪测量装置，包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品台，所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动。本实用新型专利技术采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片，减少测量过程中人为移动晶片的次数，减少晶片表面破损与污染，提高良率，且其结构简单，在生产制造过程中便于操作。造过程中便于操作。造过程中便于操作。

【技术实现步骤摘要】
一种椭偏仪测量装置


[0001]本技术属于半导体器件的生产制造领域，具体涉及一种椭偏仪测量装置。

技术介绍

[0002]在半导体工业中，椭偏仪通常用来测量晶片上的薄膜厚度与光学常数。在对晶片进行多区域测量时，需要移动晶片测量区域至椭偏仪光斑下。传统方法是通过镊子移动晶片，并且采用吸笔取放晶片，这样很容易造成晶片表面破损与污染。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种椭偏仪测量装置，其采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片，减少测量过程中人为移动晶片的次数，减少晶片表面破损与污染，提高良率。
[0004]本技术的技术方案是这样实现的：本技术公开了一种椭偏仪测量装置，包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品台，所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动。
[0005]所述支座为具有升降功能的支座。
[0006]进一步地，所述支座包括螺纹套和螺纹柱，所述螺纹柱伸入螺纹套内，螺纹柱与螺纹套螺纹配合，形成升降柱。
[0007]本实施例升降柱的上部为螺纹套，下部为螺纹柱，上部螺纹套的外壁上设有调节手柄。
[0008]进一步地，所述支座包括两个水平调节旋钮，所述支座的上端固定有用于支撑样品台中心位置的支撑柱，两个水平调节旋钮竖向设置，两个水平调节旋钮的调节杆上端穿过支座上端支板的螺纹孔，支撑在样品台的下端，两个水平调节旋钮的调节杆与支座上端支板的螺纹孔螺纹配合。
[0009]进一步地，所述平面二维机械移动平台包括底板、第一旋钮、第二旋钮、第二齿条、第一齿条、第一平台和第二平台，所述第一齿条与第一平台固定连接，所述第二齿条与第二平台固定连接，所述第一旋钮通过第一连接件与第一齿轮相连，第一齿轮与第一齿条啮合，所述第二旋钮通过第二连接件与第二齿轮相连，第二齿轮与第二齿条啮合，所述第一平台滑动配合在第二平台上，并通过第一齿条、第一齿轮的作用在第二平台上沿X轴滑移，所述第一旋钮对应调整第一平台在X轴方向上的位置，所述第二平台滑动配合在底板上，并通过第二齿条、第二齿轮的作用在底板上沿Y轴滑移，所述第二旋钮对应调整第二平台在Y轴方向上的位置，所述底板固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在第一平台上。
[0010]进一步地，所述椭偏仪测量装置还包括紧固螺钉，所述紧固螺钉螺纹配合在平面二维机械移动平台的底板上，紧固螺钉水平设置，通过旋转紧固螺钉使紧固螺钉顶紧平面二维机械移动平台的端面，用于限制平面二维机械移动平台沿Y轴方向移动。
[0011]本实施例所述紧固螺钉螺纹配合在底板的安装板上，紧固螺钉顶紧第二平台的端面，用于限制平面二维机械移动平台沿Y轴方向移动。
[0012]进一步地，所述第二平台上设有刻度，用于测量平面二维机械移动平台沿X轴方向移动的距离。
[0013]进一步地，所述样品台设有用于安置晶片的凹槽。
[0014]本技术至少具有如下有益效果：本技术将平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动，本技术采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片，减少测量过程中人为移动晶片的次数，减少晶片表面破损与污染，提高良率，且其结构简单，在生产制造过程中便于操作。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0016]图1为本技术实施例提供的椭偏仪测量装置的结构示意图；
[0017]图2为本技术实施例提供的椭偏仪测量装置安装在椭偏仪上的结构示意图；
[0018]图3为本技术实施例提供的椭偏仪测量装置的仰视图；
[0019]图4为本技术实施例提供的椭偏仪测量装置的支座上端示意图。
[0020]附图中，1为样品台，11为第一凹槽，12为第二凹槽，13为第三凹槽，2为平面二维机械移动平台，21为底板，22为第一平台，23为第二平台，24为第一旋钮，25为第二旋钮，26为导轨，27为第一齿条，28为第二齿条，29为刻度，210为紧固螺钉，211为安装板，3为支座，31为升降柱，32为水平调节旋钮，33为支撑柱，34为支板，35为样品台支撑板，4为椭偏仪，41为椭偏仪的底座。
具体实施方式
[0021]下面对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]参见图1至图4，本技术实施例提供一种椭偏仪4测量装置，包括椭偏仪4、平面二维机械移动平台2以及用于固定样品的样品台1，所述平面二维机械移动平台2设置在椭偏仪的底座41上，所述样品台1通过支座3支撑在平面二维机械移动平台2上，通过平面二维机械移动平台2带动支座3上的样品台1沿平面的纵向(Y轴方向)、横向(X轴方向)移动。
[0023]所述支座3为具有升降功能的支座3。
[0024]进一步地，所述支座3包括螺纹套和螺纹柱，所述螺纹柱伸入螺纹套内，螺纹柱与螺纹套螺纹配合，形成升降柱31。升降柱31的下端固定在第二平台23上。
[0025]本实施例升降柱31的上部为螺纹套，下部为螺纹柱，上部螺纹套的外壁上设有调
节手柄。旋转调节手柄，样品台1可竖直移动。
[0026]进一步地，所述支座3包括两个水平调节旋钮32，所述支座3的上端固定有用于支撑样品台1中心位置的支撑柱33，两个水平调节旋钮32竖向设置，两个水平调节旋钮32的调节杆上端穿过支座3上端支板34的螺纹孔，支撑在样品台1的下端，两个水平调节旋钮32的调节杆与支座3上端支板34的螺纹孔螺纹配合。旋转两个水平调节旋钮32可调节样品台1水平。
[0027]所述支座3还包括样品台支撑板35，所述样品台支撑板35支撑在两个水平调节旋钮32的调节杆上端以及支撑柱33的上端，所述样品台1放置在样品台支撑板35上。样品台支撑板35的下端设有用于与支撑柱33、水平调节旋钮32的调节杆间隙配合的盲孔。
[0028]进一步地，所述平面二维机械移动平台2包括底板21、第一旋钮24、第二旋钮25、第二齿条28、第一齿条27、第一平台22和第二平台23，所述第一齿条27与第一平台22固定连接，所述第二齿条28与第二平台23固定连接，所述第一旋钮24通过第一连接件与第一齿轮相连，第一齿轮与第一齿条27啮合，所述第二旋钮25通过第二连接件与第二齿轮本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种椭偏仪测量装置，其特征在于：包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品台，所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动。2.根据权利要求1所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述支座为具有升降功能的支座。3.根据权利要求2所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述支座包括螺纹套和螺纹柱，所述螺纹柱伸入螺纹套内，螺纹柱与螺纹套螺纹配合，形成升降柱。4.根据权利要求1或2所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述支座包括两个水平调节旋钮，所述支座的上端固定有用于支撑样品台中心位置的支撑柱，两个水平调节旋钮竖向设置，两个水平调节旋钮的调节杆上端穿过支座上端支板的螺纹孔，支撑在样品台的下端，两个水平调节旋钮的调节杆与支座上端支板的螺纹孔螺纹配合。5.根据权利要求1所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述平面二维机械移动平台包括底板、第一旋钮、第二旋钮、第二齿条、第一齿条、第一平台和第二平台，所述第一齿条与第一平台固定连接，所述第二齿条与第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄爽，黎浩，王汉华，许海明，
申请(专利权)人：湖北光安伦芯片有限公司，
类型：新型
国别省市：