OLED显示面板及其修复方法技术

本申请提供了一种OLED显示面板及其修复方法。该OLED显示面板包括TFT阵列基板、像素定义层，多个有机材料功能层和第一电极层。像素定义层设于TFT阵列基板上，像素定义层中具有多个像素定义区。多个有机材料功能层分别设于多个像素定义区中。第一电极层包括分别覆盖多个有机材料功能层的多个阴极，及与多个阴极分别连接的多个阴极搭接走线。若一个子像素为异常子像素，则可以通过将与异常子像素的阴极连接的多个阴极搭接走线断开，使异常子像素的阴极与相邻的多个阴极断开连接，实现异常子像素暗点化修复，并且修复过程中只需要通过激光断开阴极搭接走线，激光能量更低，切割面积小，可以降低对异常子像素周围的子像素的损伤，且不会引入大量的异常颗粒。会引入大量的异常颗粒。会引入大量的异常颗粒。

【技术实现步骤摘要】
OLED显示面板及其修复方法


[0001]本申请涉及显示器件
，尤其涉及一种OLED显示面板及其修复方法。

技术介绍

[0002]电致发光二极管(OLED)具有制备工艺简单、成本低、发光效率高、易形成柔性结构、低功耗、高色饱和度以及广视角等优点，利用电致发光二极管的显示技术已经成为一种重要的显示技术。
[0003]OLED是电流型发光器件，其主要包括阳极、阴极以及有机材料功能层。OLED主要的工作原理是：有机材料功能层在阳极和阴极形成的电场的驱动下，通过载流子注入和复合而发光。
[0004]在OLED显示面板的制作过程中，往往存在一些制程缺陷导致子像素出现亮点，例如，TFT(薄膜晶体管)阵列基板存在异常颗粒(Particle)导致短路或阳极短路等制程缺陷。现有技术中针对这些制程缺陷造成的亮点的修复方法主要为通过激光切割产生亮点的子像素，例如，通过激光破坏子像素的阴极和有机材料功能层，或者，通过激光对整个子像素进行环切，使其无法正常发光而成为暗点。然而现有技术通过激光切割产生亮点的子像素，操作复杂，切割面积大，激光能量高，会对周围子像素造成损伤，且容易引入大量的异常颗粒。

技术实现思路

[0005]本申请提供一种OLED显示面板及其修复方法，以解决现有技术通过激光切割产生亮点的子像素会对周围子像素造成损伤，且容易引入大量的异常颗粒的问题。
[0006]一方面，本申请提供一种OLED显示面板，包括：
[0007]TFT阵列基板；
[0008]像素定义层，所述像素定义层设于所述TFT阵列基板上，所述像素定义层中具有多个像素定义区；
[0009]多个有机材料功能层，多个所述有机材料功能层分别设于多个所述像素定义区中；
[0010]第一电极层，所述第一电极层包括分别覆盖多个所述有机材料功能层的多个阴极，及与多个所述阴极分别连接的多个阴极搭接走线；所述阴极搭接走线用于被断开后，使一个所述阴极与其相邻的多个所述阴极断开连接。
[0011]在一些可能的实现方式中，每个所述阴极搭接走线连接相邻两个所述阴极。
[0012]在一些可能的实现方式中，相邻两个所述阴极之间具有一个所述阴极搭接走线。
[0013]在一些可能的实现方式中，所述阴极搭接走线位于所述像素定义层的正上方。
[0014]在一些可能的实现方式中，所述有机材料功能层包括位于所述阴极和所述TFT阵列基板之间，及所述阴极搭接走线和所述像素定义层之间的电子传输层。
[0015]在一些可能的实现方式中，所述阴极搭接走线的尺寸小于所述阴极的尺寸。
[0016]在一些可能的实现方式中，所述阴极搭接走线的截面形状为长条状。
[0017]在一些可能的实现方式中，OLED显示面板还包括封装层，所述封装层设于所述TFT阵列基板和所述第一电极层上。
[0018]在一些可能的实现方式中，OLED显示面板还包括平坦层，所述平坦层设于所述TFT阵列基板上，所述像素定义层设于所述平坦层上；
[0019]第二电极层，所述第二电极层包括设于所述平坦层上并分别位于多个所述有机材料功能层下方的多个阳极。
[0020]另一方面，本申请还提供一种OLED显示面板的修复方法，包括：
[0021]提供上述的OLED显示面板；
[0022]对所述OLED显示面板进行检测，以确定异常子像素；
[0023]采用激光照射与所述异常子像素中的所述阴极连接的至少一个所述阴极搭接走线，使所述阴极搭接走线断开，以使所述异常子像素中的阴极与其相邻的多个所述阴极断开连接。
[0024]本申请提供的OLED显示面板包括TFT阵列基板、像素定义层，多个有机材料功能层和第一电极层。像素定义层设于TFT阵列基板上，像素定义层中具有多个像素定义区。多个有机材料功能层分别设于多个像素定义区中。第一电极层包括分别覆盖多个有机材料功能层的多个阴极，及与多个阴极分别连接的多个阴极搭接走线。阴极搭接走线用于被断开后，使一个阴极与其相邻的多个阴极断开连接。即一个阳极和一个有机材料功能层对应一个子像素，若一个子像素为异常子像素，则可以通过将与异常子像素的阴极连接的多个阴极搭接走线断开，使异常子像素的阴极与相邻的多个阴极断开连接，从而将异常子像素变为暗点，实现异常子像素暗点化修复，并且修复过程中只需要通过激光断开阴极搭接走线，相比于现有技术通过激光破坏子像素的阴极和有机材料功能层，或者，通过激光对整个子像素进行环切，本申请修复过程采用的激光能量更低，切割面积小，可以降低对异常子像素周围的子像素的损伤，且不会引入大量的异常颗粒。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1是本申请一实施例提供的OLED显示面板的示意图；
[0027]图2是本申请一实施例提供的OLED显示面板的子像素的示意图；
[0028]图3和图4是本申请一实施例提供的OLED显示面板的修复方法的示意图；
[0029]图5是本申请一实施例提供的OLED显示面板的修复方法的流程图。
具体实施方式
[0030]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施
例，都属于本申请保护的范围。
[0031]在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0032]在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：TFT阵列基板；像素定义层，所述像素定义层设于所述TFT阵列基板上，所述像素定义层中具有多个像素定义区；多个有机材料功能层，多个所述有机材料功能层分别设于多个所述像素定义区中；第一电极层，所述第一电极层包括分别覆盖多个所述有机材料功能层的多个阴极，及与多个所述阴极分别连接的多个阴极搭接走线；所述阴极搭接走线用于被断开后，使一个所述阴极与其相邻的多个所述阴极断开连接。2.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，每个所述阴极搭接走线连接相邻两个所述阴极。3.根据权利要求2所述的OLED显示面板，其特征在于，相邻两个所述阴极之间具有一个所述阴极搭接走线。4.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述阴极搭接走线位于所述像素定义层的正上方。5.根据权利要求4所述的OLED显示面板，其特征在于，所述有机材料功能层包括位于所述阴极和所述TFT阵列基板之间，及所述阴极搭接走线和所述像素定义层之间的电子传输层。6.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁松，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：