微透镜阵列及其制造方法技术

一种可实现高密度化的微透镜阵列及其制造方法。关于微透镜阵列的制造方法，在基底层上形成感光性的第一树脂层，经由具有遮光部和透光部的光掩模对所述第一树脂层进行曝光，使所述第一树脂层显影以形成所述第一树脂层的空隙，将残留的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述空隙而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。微透镜接触的第二微透镜。微透镜接触的第二微透镜。

【技术实现步骤摘要】
微透镜阵列及其制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请基于并要求于2020年9月18日提交的日本专利申请No.2020
‑
157587的优先权；其全部内容通过引入并入本文。


[0003]本专利技术的实施方式涉及微透镜阵列及其制造方法。

技术介绍

[0004]作为微透镜阵列的制造方法，已知有如下制造方法：例如，经由具有预定图案的光掩模，对具有热回流性的感光性树脂层进行曝光，并进行显影等图案化处理形成抗蚀图案，并且将抗蚀图案热熔融而形成微透镜阵列(或透镜矩阵)。
[0005]期望实现相邻微透镜的间隔实质上为零的透镜阵列。

技术实现思路

[0006]本实施方式的目的在于提供可实现高密度化的微透镜阵列及其制造方法。
[0007]根据本实施方式，提供一种微透镜阵列的制造方法，在基底层上形成感光性的第一树脂层，经由具有遮光部和透光部的光掩模对所述第一树脂层进行曝光，使所述第一树脂层显影以形成所述第一树脂层的空隙，将残留的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述空隙而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。
[0008]另外，根据本实施方式，提供一种微透镜阵列的制造方法，遍及基底层上彼此相邻的第一区域和第二区域而形成感光性第一树脂层，在光掩模的遮光部面向所述第一区域且透光部面向所述第二区域的状态下对所述第一树脂层进行曝光，使所述第一树脂层显影以去除所述第二区域的所述第一树脂层，将残留在所述第一区域中的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述第二区域而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述第二区域且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留在所述第二区域中的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。
[0009]进一步地，根据本实施方式，提供一种微透镜阵列，包括：基底层；以及第一微透镜和第二微透镜，配置在所述基底层上并且所述第一微透镜与所述第二微透镜彼此接触，所述第一微透镜的底端遍及全周与所述基底层接触，所述第二微透镜的底端的一部分与所述第一微透镜的表面接触。
[0010]根据本实施方式，能够提供可实现高密度化的微透镜阵列及其制造方法。
附图说明
[0011]图1是示出本实施方式所涉及的微透镜阵列1的第一构成例的俯视图。
[0012]图2是沿图1所示的微透镜阵列1的A
‑
B线的剖视图。
[0013]图3是用于说明微透镜阵列1的第一制造方法的流程图。
[0014]图4是用于说明图3所示的第一透镜形成工序ST1的图。
[0015]图5是用于说明图3所示的第二透镜形成工序ST2的图。
[0016]图6是示出本实施方式所涉及的微透镜阵列1的第二构成例的俯视图。
[0017]图7是用于说明第二构成例的第一透镜形成工序ST1的图。
[0018]图8是用于说明第二构成例的第二透镜形成工序ST2的图。
[0019]图9是示出本实施方式所涉及的微透镜阵列1的第三构成例的俯视图。
[0020]图10是沿图9所示的微透镜阵列1的C
‑
D线的剖视图。
[0021]图11是用于说明微透镜阵列1的第二制造方法的流程图。
[0022]图12是用于说明第三构成例的第一透镜形成工序ST1的图。
[0023]图13是示出在图12所示的第一透镜形成工序ST1中形成的微透镜L11至L18的俯视图。
[0024]图14是用于说明第三构成例的第二透镜形成工序ST2的图。
[0025]图15是示出在图14所示的第二透镜形成工序ST2中形成的微透镜L21至L27的俯视图。
[0026]图16是用于说明第三构成例的第三透镜形成工序ST3的图。
[0027]图17是示出在图16所示的第三透镜形成工序ST3中形成的微透镜L31至L37的俯视图。
[0028]图18A是表示透过微透镜L和基底层10的光线的状态的图。
[0029]图18B是表示透过微透镜L和基底层10的光线的状态的图。
[0030]图18C是表示透过微透镜L和基底层10的光线的状态的图。
[0031]图19是表示电子设备100的一个构成例的分解立体图。
[0032]图20是包括图19所示的电子设备100的光检测元件PD的剖视图。
具体实施方式
[0033]以下，参照附图对本实施方式进行说明。需要说明的是，公开只是一个示例，本领域技术人员在保持本专利技术主旨的同时容易想到的适当改变自然包括在本专利技术的范围内。另外，为了更明确地说明，与实际的方式相比，附图有时会示意性地表示各部分的宽度、厚度、形状等，但只是一个示例，并不限定本专利技术的解释。另外，在本说明书和各附图中，对于与上述附图描述发挥相同或类似功能的构成要素赋予相同的附图标记，并且有时适当地省略其重复的详细说明。
[0034]需要说明的是，在附图中，为了根据需要易于理解，记载了相互正交的X轴、Y轴和Z轴。将沿着X轴的方向称为第一方向X，将沿着Y轴的方向称为第二方向Y，并且将沿着Z轴的方向称为第三方向Z。将由X轴和Y轴定义的面称为X
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Y平面，并将观察X
‑
Y平面的情况称为俯视观察。
[0035]《第一构成例》
[0036]图1是示出本实施方式所涉及的微透镜阵列1的第一构成例的俯视图。微透镜阵列1包括基底层10和多个微透镜L1至L4。在图1所示的示例中，微透镜L1至L4各自的形状在俯视观察时为四边形。这里的四边形包括正方形、长方形、平行四边形、梯形等。即，微透镜L1至L4在俯视观察时分别具有四边形的底端H1至H4。
[0037]微透镜L1和L2在第一方向X上排列，彼此接触，并且共享沿第二方向Y延伸的边S12。微透镜L1和L4在第二方向Y上排列，彼此接触，并且共享沿第一方向X延伸的边S14。微透镜L2和L3在第二方向Y上排列，彼此接触，并且共享沿第一方向X延伸的边S23。微透镜L4和L3在第一方向X上排列，彼此接触，并且共享沿第二方向Y延伸的边S34。边S12和边S34位于同一直线上，另外，边S14和边S23位于同一直线上。这些边S12、S34、S14、S23在中心O处相交。
[0038]微透镜L1和L3在对角方向上排列，并且在中心O处彼此接触。微透镜L2和L4在对角方向上排列，并且在中心O处彼此接触。即，这四个微透镜L1至L4无间隙地彼此接触。
[0039]例如，在微透镜L2和L4之前形成微透镜L1和L3。因此，微透镜L1的底端H1和微透镜L3的底端H3分别遍本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微透镜阵列的制造方法，其特征在于，在基底层上形成感光性的第一树脂层，经由具有遮光部和透光部的光掩模对所述第一树脂层进行曝光，使所述第一树脂层显影以形成所述第一树脂层的空隙，将残留的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述空隙而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。2.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述遮光部的形状为四边形或圆形。3.根据权利要求2所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述第二微透镜的底端的一部分与所述第一微透镜的表面接触。4.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，曝光所述第一树脂层时应用的所述光掩模与曝光所述第二树脂层时应用的光掩模相同。5.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，进一步地，遍及通过使所述第二树脂层显影而形成的空隙、所述第一微透镜以及所述第二微透镜而形成感光性第三树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜和所述第二微透镜的状态下对所述第三树脂层进行曝光，使所述第三树脂层显影以去除在所述第一微透镜上和所述第二微透镜上的所述第三树脂层，将残留的所述第三树脂层熔融，形成与所述第一微透镜和所述第二微透镜接触的第三微透镜。6.根据权利要求5所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述遮光部的形状为六边形。7.根据权利要求6所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述第二微透镜的底端的一部分与所述第一微透镜的表面接触，所述第三微透镜的底端的第一部分与所述第二微透镜的表面接触，所述第三微透镜的底端的第二部分与所述第一微透镜的表面接触。8.根据权利要求5所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，曝光所述第一树脂层时应用的所述光掩模、曝光所述第二树脂层时应用的光掩模以及曝光所述第三树脂层时应用的所述光掩模中的至少两个光掩模相同。9.一种微透镜阵列的制造方法，其特征在于，遍及基底层上彼此相邻的第一区域和第二区域而形成感光性第一树脂层，在光掩模的遮光部面向所述第一区域且透光...

【专利技术属性】
技术研发人员：长泽顺子，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：