一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置，涉及半导体制造设备技术领域。本实用新型专利技术一种半导体设备的废气排放管道连接件，包括：废气排放管，所述废气排放管的内腔为圆柱形；以及若干个支管，分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；其中，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。本实用新型专利技术缓解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置


[0001]本技术属于半导体制造设备
，特别是涉及一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置。

技术介绍

[0002]半导体设备在运行状态下会产生含有粉尘的废气，经过废气排放管道进行排放的时候，粉尘会在管道内堆积，造成管道堵塞，导致半导体设备停机，造成生产损失。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置，通过在废气排放管侧壁上环形分布的支管，缓解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术提供一种半导体设备的废气排放管道连接件，其包括：
[0006]废气排放管，所述废气排放管的内腔为圆柱形；以及
[0007]若干个支管，分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；
[0008]其中，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。
[0009]在本技术的一个实施例中，所述支管的数量至少为三个。
[0010]在本技术的一个实施例中，若干个所述支管与所述废气排放管的内腔相切。
[0011]在本技术的一个实施例中，若干个所述支管均匀分布设置于所述废气排放管的侧壁。
[0012]在本技术的一个实施例中，若干个所述支管与所述废气排放管的交叉角度相同。
[0013]在本技术的一个实施例中，至少一个所述支管与所述废气排放管轴向的交叉角度为45度。
[0014]在本技术的一个实施例中，若干个所述支管与所述废气排放管径向剖面的交叉角度为45度。
[0015]在本技术的一个实施例中，若干个所述支管沿逆时针或顺时针方向连通所述废气排放管。
[0016]本技术还提供一种半导体设备的废气排放装置，其包括：
[0017]泵机，所述泵机的进气端连通所述半导体设备；
[0018]废气排放管，所述废气排放管的进气端连通所述泵机的排气端，所述废气排放管的内腔为圆柱形；
[0019]若干个支管，若干个所述支管的排气端分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；以及
[0020]热氮气系统，连通若干个所述支管的进气端；
[0021]其中，若干个所述支管与所述废气排放管的内腔相切，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。
[0022]在本技术的一个实施例中，所述废气排放管连通所述泵机的一端连通所述支管。
[0023]本技术通过在废气排放管侧壁上设置环形分布的若干个支管，若干个支管的矢量方向之和，与废气排放管内气流方向相同，将支管中的高压钝气引入废气排放管内，高压钝气推动废气排放管内的废气螺旋转动，缓解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。
[0024]当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本技术所述一种半导体设备的废气排放管道连接件的俯视图一；
[0027]图2为本技术所述一种半导体设备的废气排放管道连接件的主视图一；
[0028]图3为本技术所述一种半导体设备的废气排放管道连接件的俯视图二；
[0029]图4为本技术所述一种半导体设备的废气排放管道连接件的主视图二；
[0030]图5为本技术所述一种半导体设备的废气排放装置的组件连接示意图。
[0031]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0032]1‑
半导体设备，2
‑
泵机，3
‑
废气排放管，4
‑
支管，5
‑
热氮气系统。
具体实施方式
[0033]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0034]请参阅图1至5所示，本技术提供了一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置，以避免废气排放管3道内粉尘堆积堵塞，以及后续导致的半导体设备1停机和生产损失。本技术的一种半导体设备1的废气排放管3道连接件，可包括废气排放管3和若干个支管4。其中，废气排放管3的内腔可以是圆柱形，圆柱形的废气排放管3内腔，能够降低废气排放管3内壁与废气之间粘滞摩擦系数，便于废气通过。支管4可与废气排放管3连通，用以将高压钝气引入废气排放管3内。钝气可以是氮气等惰性气体，用以保护废气排放管3内壁免受腐蚀。并且支管4与废气排放管3的连通部，环形分布设置于废气排放管3的侧壁，由支管4引入的气流能够在废气排放管3内形成螺旋气流，将废气排放管3内含有粉尘的废气也转化为螺旋气流，避免废气中的粉尘堆积在废气排放管3的内壁。并且，通过设置若干个支管4的矢量方向之和，与废气排放管3内气流方向相同，用以将支管4引入的高压气流整合为与废气排放管3内气流方向相同的气流，促进废气排放管3内废气的排放效率，有效避免了废气中的粉尘在废气排放管3内堆积，也能够避免半导体设备1因为废气排放管3被粉尘堵
塞而停机。
[0035]请参阅图1至2所示，支管4的数量可以是至少三个，三个支管4引入的高压能够在废气排放管3内形成有效的旋转力矩，驱动废气排放管3内的废气快速螺旋转动，有效避免废气排放管3内的粉尘堆积在废气排放管3的内壁。
[0036]请参阅图3至4所示，支管4的数量还可以是两个，两个支管4也能够形成旋转力矩，用以将废气排放管3内的废气转化为螺旋转动的气流，扰乱废气中粉尘的稳定状态，避免废气中的粉尘在废气排放管3内堆积。
[0037]请参阅图1至4所示，支管4可以与废气排放管3的内腔相切，用以将支管4引入的高压钝气引入废气排放管3内腔的外圈。在钝气的压力不变的情况下，能够在废气排放管3内形成更大的偏转力矩，进而能够更高效地驱动废气排放管3内的废气转动。而且，将支管4引入的高压钝气引入废气排放管3内腔的外圈，能够避免多个支管4引入的钝气气流相关干扰。不仅如此，由于支管4可以与废气排放管3的内腔相切，因此后续进入废气排放管3的钝气气流，与废气排放管3内螺旋转动起来的废气具有相同的转动分量，能够推动废气排放管3内的废气的转动线速度提高，废气排放管3内的废气线速度提高能够更本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体设备的废气排放管道连接件，其特征在于，包括：废气排放管，所述废气排放管的内腔为圆柱形；以及若干个支管，分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；其中，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。2.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，所述支管的数量至少为三个。3.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，若干个所述支管与所述废气排放管的内腔相切。4.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，若干个所述支管均匀分布设置于所述废气排放管的侧壁。5.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，若干个所述支管与所述废气排放管的交叉角度相同。6.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，至少一个所述支管与所述废气排放管轴向的交叉角度为45度。7.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄志平，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：新型
国别省市：