一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线制造技术

本实用新型专利技术公开了一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线，包括底座，所述底座的顶部外壁固定连接有外壳，且外壳的一端为镀膜仓，所述外壳的另一侧为加速仓，且外壳的底侧位于加速仓的底部设有控制箱，所述加速仓的侧边设有电子发射器和发射枪，且电子发射器和发射枪之间设有气罐，所述加速仓的两侧内壁之间设有加速电场。本实用新型专利技术在传统的输入氩气端，设有电磁场差，可将氩气粒子更好的电离和初始速度，在后续输入后，利用内部的电极之间磁场形成垂直的加速效果，可控的带动镀膜离子和氩气粒子之间交换速度和电性，保证其带入镀膜面上的位置可控，形成稳定的镀膜路径，适用于不同的镀膜面。的镀膜面。的镀膜面。

【技术实现步骤摘要】
一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线


[0001]本技术涉及镀膜生产线
，尤其涉及一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。
[0003]电容式触摸屏是在玻璃表面镀上一层透明的特殊导电物质。当手指触摸在玻璃上时，触点的电容就会发生变化，使得与之相连的振荡器频率发生变化，通过测量频率变化可以获得确定的触摸位置信息。
[0004]只能满足一种规模镀膜面的镀膜，而不能同时满足多种薄膜材料镀膜的不同工艺的要求，因此生产不同的镀膜触摸屏，需要不同的生产线，成本高。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0007]一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线，包括底座，所述底座的顶部外壁固定连接有外壳，且外壳的一端为镀膜仓，所述外壳的另一侧为加速仓，且外壳的底侧位于加速仓的底部设有控制箱，所述加速仓的侧边设有电子发射器和发射枪，且电子发射器和发射枪之间设有气罐，所述加速仓的两侧内壁之间设有加速电场，且加速仓和镀膜仓之间设有进入罩，所述镀膜仓的内部设有真空室，且进入罩的端部连接至真空室的内部，所述真空室的顶部设有阴极组件，且真空室的底端设有阳极板，所述阳极板的顶部外壁设有触摸屏基底，且阴极组件位于触摸屏基底正上方，所述真空室的侧边连接有真空管，且真空管的端部连接有真空泵，所述真空室的内壁位于阳极板的上方设有对称设置的启闭隔板。
[0008]作为本技术进一步的方案，所述启闭隔板的端部连接有转动电机，且启闭隔板之间开启可形成狭缝。
[0009]作为本技术进一步的方案，所述阴极组件包括发射电极、磁铁、TiNi靶基板和限位Ti板，所述TiNi靶基板位于两侧的限位Ti板之间，且发射电极、磁铁平行设置于TiNi靶基板的上方。
[0010]作为本技术进一步的方案，所述TiNi靶基板的外边设有护罩。
[0011]作为本技术进一步的方案，所述外壳靠近电子发射器的一侧设有控制器。
[0012]作为本技术进一步的方案，所述气罐的内部填充的为氩气。
[0013]本技术的有益效果为：
[0014]1.本镀膜生产线中，在传统的输入氩气端，设有电磁场差，可将氩气粒子更好的电离和初始速度，在后续输入后，利用内部的电极之间磁场形成垂直的加速效果，可控的带动
镀膜离子和氩气粒子之间交换速度和电性，保证其带入镀膜面上的位置可控，形成稳定的镀膜路径，适用于不同的镀膜面；
[0015]2.本镀膜生产线中采用电极带动隔板隔开，形成不同间距的狭缝和输入口，可以实现有效隔断，稳定工艺气体，密封性更好，更耐用，同时内设有磁铁，采用磁导向生产效率高，且生产不同镀膜材料的触摸屏，不需要另行建设新的生产线，节约了成本。
附图说明
[0016]图1为本技术提出的一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线的立体结构示意图；
[0017]图2为本技术提出的一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线的主视结构示意图；
[0018]图3为本技术提出的一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线的真空室立体结构示意图；
[0019]图4为本技术提出的一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线的真空室侧视结构示意图。
[0020]图中：1、底座；2、外壳；3、控制箱；4、电子发射器；5、气罐；6、控制器；7、加速电场；8、进入罩；9、真空室；10、真空泵；11、阴极组件；12、启闭隔板；13、触摸屏基底；14、阳极板；15、发射枪；16、发射电极；17、转动电机；18、磁铁；19、护罩；20、TiNi靶基板；21、限位Ti板。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0022]参照图1
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4，一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线，包括底座1，底座1的顶部外壁固定连接有外壳2，且外壳2的一端为镀膜仓，外壳2的另一侧为加速仓，且外壳2的底侧位于加速仓的底部设有控制箱3，加速仓的侧边设有电子发射器4和发射枪15，且电子发射器4和发射枪15之间设有气罐5，加速仓的两侧内壁之间设有加速电场7，且加速仓和镀膜仓之间设有进入罩8，镀膜仓的内部设有真空室9，且进入罩8的端部连接至真空室9的内部，真空室9的顶部设有阴极组件11，且真空室9的底端设有阳极板14，阳极板14的顶部外壁设有触摸屏基底13，且阴极组件11位于触摸屏基底13正上方，真空室9的侧边连接有真空管，且真空管的端部连接有真空泵10，真空室9的内壁位于阳极板14的上方设有对称设置的启闭隔板12，启闭隔板12的端部连接有转动电机17，且启闭隔板12之间开启可形成狭缝，阴极组件11包括发射电极16、磁铁18、TiNi靶基板20和限位Ti板21，TiNi靶基板20位于两侧的限位Ti板21之间，且发射电极16、磁铁18平行设置于TiNi靶基板20的上方，TiNi靶基板20的外边设有护罩19，外壳2靠近电子发射器4的一侧设有控制器6，气罐5的内部填充的为氩气。
[0023]本磁控溅射镀膜生产线的工作原理：
[0024]1.本生产线使用时，在利用气罐5中输入的氩气，利用电子发射器4和电子枪15轰击氩气分子，带有电性的氩气分子输入至加速电场7，可将氩气粒子更好的电离和初始速度；
[0025]2.然后带有电性的粒子输入至进入罩8内，输入后，利用阴极组件11和阳极板14之间的磁场形成垂直的加速效果，可控的带动镀膜离子和氩气粒子之间交换速度和电性；
[0026]3.可使镀膜离子带入镀膜面上的位置可控，形成稳定的镀膜路径，适用于不同的镀膜面；
[0027]4.其中粒子输入宽度通过两侧对称的启闭隔板12转动开启不同的间距实现，镀膜粒子经过狭缝垂直打入触摸屏基底13上实现镀膜作业。
[0028]2.本镀膜生产线中采用电极带动隔板隔开，形成不同间距的狭缝和输入口，可以实现有效隔断，稳定工艺气体，密封性更好，更耐用，同时内设有磁铁，采用磁导向生产效率高，且生产不同镀膜材料的触摸屏，不需要另行建设新的生产线，节约了成本。
[0029]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”、“第一”、“第二”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)的顶部外壁固定连接有外壳(2)，且外壳(2)的一端为镀膜仓，所述外壳(2)的另一侧为加速仓，且外壳(2)的底侧位于加速仓的底部设有控制箱(3)，所述加速仓的侧边设有电子发射器(4)和发射枪(15)，且电子发射器(4)和发射枪(15)之间设有气罐(5)，所述加速仓的两侧内壁之间设有加速电场(7)，且加速仓和镀膜仓之间设有进入罩(8)，所述镀膜仓的内部设有真空室(9)，且进入罩(8)的端部连接至真空室(9)的内部，所述真空室(9)的顶部设有阴极组件(11)，且真空室(9)的底端设有阳极板(14)，所述阳极板(14)的顶部外壁设有触摸屏基底(13)，且阴极组件(11)位于触摸屏基底(13)正上方，所述真空室(9)的侧边连接有真空管，且真空管的端部连接有真空泵(10)，所述真空室(9)的内壁位于阳极板(14)的上方设有对称设置的启闭隔板(12)。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：万小燕，陈月亮，李小平，袁毅，
申请(专利权)人：安徽昱虹薄膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：