一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构，涉及胶框领域，包括下铁框和胶框，胶框位于下铁框的外表面，胶框的内部上方和两侧均开设有缺口，胶框的内部设置有反射层。本实用新型专利技术通过设置有缺口，且该缺口尺寸为20mm,此缺口受力时胶框也不会向下变形,而对应的反射层凸块位于缺口内部,确保反射组装时还是以下铁框来定位,非伸出的结构外形内缩小于胶框的支撑面内部尺寸结构,组装后胶框支撑面与下铁框直接接触,避免了中间物料反射的介入,直接减去因反射因素所带来的局部按压下沉的问题，同时无需增加一套模具,不影响光学指标，包括亮度、均匀性等，不影响产品的组装效率，并提高了产品的稳定性。并提高了产品的稳定性。并提高了产品的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构


[0001]本技术涉及胶框领域，具体为一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构。

技术介绍

[0002]目前的胶框与铁框是通过卡位来配合，卡位的配合间隙在0.03
‑
0.06MM之间，在胶框与铁框之间有一个反射物料,反射物料的厚度在0.15
‑
0.18MM之间,物料与物料之间配合采用间隙配合,理论值胶框,铁框,反射三个物料实装后在垂直方向配合间隙应控制在0.03
‑
0.06MM之间。
[0003]现有的实际生产过程中一些不可控的因素,如反射来料公差走下限,反射刀模模具公差在正负0.15MM,组装过程中反射偏一边时,胶框内部尺寸走上公差,此时会出现局部胶框与反射接触悬空,按压此局部胶框位置会出现下沉胶框下沉时框贴泡棉会直接与玻璃接触,玻璃受力后出现压白现象，从而存在安全隐患。

技术实现思路

[0004]基于此，本技术的目的是提供一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构，以解决局部胶框受到外部压力后会出现下沉的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构，包括下铁框和胶框，所述胶框位于下铁框的外表面，所述胶框的内部上方和两侧均开设有缺口，所述胶框的内部设置有反射层，所述反射层的顶部两侧和两侧均设置有反射层凸块，所述反射层的两侧均开设有凹槽。
[0006]进一步的，所述反射层凸块位于缺口的内部，所述反射层凸块与缺口相适配。
[0007]通过采用上述技术方案，可使反射层凸块伸入至缺口的内部，进而确保反射组装时还是以下铁框来定位。
[0008]进一步的，所述反射层与胶框间的间距为0.25mm。
[0009]通过采用上述技术方案，便于提高胶框的稳定性。
[0010]进一步的，所述缺口的长度为20mm。
[0011]通过采用上述技术方案，可使受到外部压力时不会使胶框向下变形，从而提高胶框的稳定性。
[0012]进一步的，所述反射层的厚度为0.18mm。
[0013]通过采用上述技术方案，便于安装于胶框的内部。
[0014]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：
[0015]本技术通过设置有缺口，且该缺口尺寸为20mm,此缺口受力时胶框也不会向下变形,而对应的反射层凸块位于缺口内部,确保反射组装时还是以下铁框来定位,非伸出的结构外形内缩小于胶框的支撑面内部尺寸结构,组装后胶框支撑面与下铁框直接接触,避免了中间物料反射的介入,直接减去因反射因素所带来的局部按压下沉的问题，同时无
需增加一套模具,不影响光学指标，包括亮度、均匀性等，不影响产品的组装效率，且加大了产品的实用性，并提高了产品的稳定性。
附图说明
[0016]图1为本技术的下铁框正面结构示意图；
[0017]图2为本技术的胶框立体结构示意图；
[0018]图3为本技术的图1中A处的放大图。
[0019]图中：1、下铁框；2、胶框；3、反射层凸块；4、凹槽；5、反射层；6、缺口。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0021]下面根据本技术的整体结构，对其实施例进行说明。
[0022]一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构，如图1
‑
3所示，包括下铁框1和胶框2，胶框2位于下铁框1的外表面，胶框2的内部上方和两侧均开设有缺口6，胶框2的内部设置有反射层5，反射层5的顶部两侧和两侧均设置有反射层凸块3，反射层凸块3位于缺口6的内部，反射层凸块3与缺口6相适配，可使反射层凸块3伸入至缺口6的内部，进而确保反射组装时还是以下铁框1来定位，反射层5与胶框2间的间距为0.25mm，便于提高胶框2的稳定性，缺口6的长度为20mm，可使受到外部压力时不会使胶框向下变形，从而提高胶框的稳定性，反射层5的厚度为0.18mm，便于安装于胶框2的内部，反射层5的两侧均开设有凹槽4。
[0023]本实施例的实施原理为：首先，该胶框2上的缺口6尺寸为20MM,此缺口6受力时胶框2也不会向下变形,而对应的反射层凸块3位于缺口6内部,确保反射组装时还是以下铁框1来定位,非伸出的结构外形内缩小于胶框2的支撑面内部尺寸结构,组装后胶框2支撑面与下铁框1直接接触,避免了中间物料反射的介入,直接减去因反射因素所带来的局部按压下沉的问题，同时该胶框结构加大了产品的实用性，并提高了产品的稳定性。
[0024]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，但本具体实施例仅仅是对本技术的解释，其并不是对技术的限制，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合，本领域技术人员在阅读完本说明书后可在不脱离本技术的原理和宗旨的情况下，可以根据需要对实施例做出没有创造性贡献的修改、替换和变型等，但只要在本技术的权利要求范围内都受到专利法的保护。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构，包括下铁框(1)和胶框(2)，其特征在于：所述胶框(2)位于下铁框(1)的外表面，所述胶框(2)的内部上方和两侧均开设有缺口(6)，所述胶框(2)的内部设置有反射层(5)，所述反射层(5)的顶部两侧和两侧均设置有反射层凸块(3)，所述反射层(5)的两侧均开设有凹槽(4)。2.根据权利要求1所述的一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构，其特征在于：所述反射层凸块(3)位于缺口(...

【专利技术属性】
技术研发人员：莫雅馨，卢志坚，徐锋涛，
申请(专利权)人：深圳市中深光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：