一种中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置，其中该中子辐射屏蔽结构包括：基体，悬挑，其中所述悬挑在所述基体上柱立，并呈阵列布设状。籍此减少反照中子数量，从而有效提升中子屏蔽效果。而有效提升中子屏蔽效果。而有效提升中子屏蔽效果。

【技术实现步骤摘要】
一种中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置


[0001]本技术涉及中子辐射屏蔽技术，尤其涉及一种中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置。

技术介绍

[0002]随着核能、辐照加工、无损检测、放射医疗等产业的快速发展，高能射线已广泛存在于工业、医疗、科研等多个领域。常见的高能射线包括X射线、γ射线和中子射线等，因此此类高能射线的辐射与防护问题一直是人们关注的重点。
[0003]其中中子通过物质时具有很强的穿透力，对人体产生的危险比相同剂量的X射线、γ射线更为严重。人体受中子辐射后，肠胃和雄性性腺会严重损伤、诱导肿瘤的生物效应高、并易导致早期死亡，同时受损伤的机体易感染且程度重，所致眼晶体混浊的相对生物效应为γ或X射线的2～14倍。极易造成造血器官衰竭，消化系统损伤，中枢神经损伤。还可以造成恶性肿瘤、白血病、白内障等。中子辐射还会产生遗传效应，影响受辐射者后代发育。
[0004]因此在实际工作中为了工作人员的安全，对中子的屏蔽防护将尤为重要。
[0005]目前现有中子屏蔽技术通常重点放在对于屏蔽材料的研究上，如传统的中子屏蔽材料主要以硼基或铅基聚乙烯复合屏蔽材料为主体，而采用此类屏蔽材料所制成的中子屏蔽装置的混凝土屏蔽面，也多为板材或片材结构。
[0006]为此专利技术人考虑另辟蹊径，试图通过对采用现有屏蔽材料制成的屏蔽面的结构进行改进，以进一步增补并提升中子屏蔽效果。

技术实现思路

[0007]本技术的主要目的在于提供一种中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置，以实现
技术介绍
中专利技术人的目标。
[0008]为了实现上述目的，根据本技术的第一个方面，提供了一种中子辐射屏蔽结构，其包括：基体，悬挑，所述悬挑在所述基体上柱立，并呈阵列布设状。
[0009]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述悬挑呈六面体形。
[0010]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述悬挑为长方体、立方体中的至少一种。
[0011]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述悬挑呈多边体形。
[0012]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述悬挑呈十字体形，并呈阵列相接布设，以形成华夫饼状。
[0013]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述悬挑在基体上的阵列间距小于等于5cm。
[0014]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述基体与悬挑的连接面为平面。
[0015]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述基体与悬挑中至少一个采用包括波特兰水泥的混凝土制成。
[0016]进一步的，在可能的优选实施方式下，所述悬挑垂直于基体阵列布设。
[0017]为了实现上述目的，根据本技术的第二个方面，还提供了一种中子辐射屏蔽装置，其包括：屏蔽面，其中所述屏蔽面采用如上任一所述的中子辐射屏蔽结构制成。
[0018]通过本技术提供的该中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置，相比现有技术的屏蔽面结构，能够显著减少反照中子数量，从而有效提升中子屏蔽效果，并且实施成本低廉，适于对现有技术进行改进，有利于技术普及，并且在实际使用中，对于检维修的工人来说，能在辐射作业区的停留时间更久，这对整个作业规划都将起到有效的帮助。
附图说明
[0019]构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0020]图1为本技术第一实施例的中子辐射屏蔽结构的结构示意图；
[0021]图2为本技术第一实施例的表1的反照中子空间分布；
[0022]图3为本技术第一实施例的表2的反照中子能量分布图；
[0023]图4为本技术第一实施例的正六边形悬挑在基体上阵列布设的示意图；
[0024]图5为本技术第二实施例的十字体形悬挑在基体上布设的示意图；
[0025]图6为本技术第二实施例的十字体形悬挑在基体上阵列成华夫饼结构示意图；
[0026]图7为本技术第二实施例的表3空间分布数据图；
[0027]图8为本技术第二实施例的表4能量分布数据图；
[0028]图9为本技术第二实施例的各向同性的中子源检测华夫饼结构数据图；
[0029]图10为本技术第三实施例的中子屏蔽检测系统图；
[0030]图11为本技术第三实施例的中子屏蔽检测系统图。
具体实施方式
[0031]下面对本技术的具体实施方式进行详细地说明。以下示例将有助于本领域的技术人员进一步理解本技术，但不以任何形式限制本技术。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进。这些都属于本技术的保护范围。此外在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0032]为了使本领域的技术人员更好的理解本技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，在本领域普通技术人员没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术的保护范围。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
[0033]（一）
[0034]请参阅图1至图4所示，本技术提供的该中子辐射屏蔽结构，其包括：基体，悬挑，所述悬挑在所述基体上柱立，并呈阵列布设状。其中如图1所示，该悬挑可选择为六面体
长方形。而在其它替换实施方式中，也可采用正六面体形。
[0035]其中所述基体可为现有技术的平面屏蔽墙方案，而该悬挑可根据本实施例的方案布设在该现有技术的平面屏蔽墙上，以形成对现有技术的改造，依然可实现在减少反照中子数量方面，优于单独设置现有平面屏蔽墙的方案。
[0036]此外该悬挑所用制备材料，本实施例中并不进行唯一限制，在本实施例的实验例中，优选采用波特兰水泥混凝土制成，但本领域技术人员应当理解，在其它可能的替换实施方式中，也可以采用其它增加中子屏蔽性能的材料进行替代，因此任何仅以材料替换方式对该悬挑进行改进的方案，皆在本实施例的揭露范围中。
[0037]实验例1
[0038]为证明本实施例提出的该中子辐射屏蔽结构的有效性，本实施例根据以下参数进行了实验。
[0039]基体：采用平面屏蔽墙体，尺寸100x100x35 cm
[0040]悬挑：采用正六面体，尺寸5x5x10 cm
[0041]正六面体角度：垂直墙面布置
[0042]排列密度：10x10 cm
[0043]间隔距离：上下5cm
[0044]制备材料：基体与悬挑采用波特兰水泥混凝土
[0045]对比对象：平面屏蔽墙
[0046]对正六面体结构实验数据及分析如下：...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中子辐射屏蔽结构，其特征在于，包括：基体，悬挑，所述悬挑在所述基体上柱立，并呈阵列布设状。2.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构，其特征在于，所述悬挑呈六面体形。3.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构，其特征在于，所述悬挑为长方体。4.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构，其特征在于，所述悬挑呈多边体形。5.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构，其特征在于，所述悬挑呈十字体形，并呈阵列相接布设...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐佳梁，吴一舸，
申请(专利权)人：中原运维海外工程有限公司，
类型：新型
国别省市：