一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底制造技术

本实用新型专利技术公开一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，主体具有脚跟位、足弓位、前脚掌位和脚趾位，前脚掌位和脚趾位之间设有防滑凸起结构，前脚掌位设有适合人体脚掌脚型的曲面凹陷部，主体的底面对应防滑凸起结构的位置设有凹槽。本实用新型专利技术鞋垫的前掌位采用适应脚型设计，根据前脚掌受力位置与形状进行的吻合性的设计了曲面凹陷部，采用了曲面凹陷部适应鞋型设计，增加脚前掌位受力位置的舒适性与包裹性；使穿着更为舒适。本实用新型专利技术的脚趾位采用适应脚趾脚型的凹槽设计，根据脚趾的外形进行吻合性设计，采用脚趾按摩凹槽的设计增加了脚趾受力位置的舒适性与包裹性。趾受力位置的舒适性与包裹性。趾受力位置的舒适性与包裹性。

【技术实现步骤摘要】
一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底


[0001]本技术涉及穿着用品，特别涉及一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底。

技术介绍

[0002]鞋垫是人们生活中最基本的鞋内铺垫工具，鞋垫可提高舒适度，并具有吸汗、增加柔软度，减轻鞋底对脚掌的磨擦，防止脚掌起泡或磨出老茧等功能；人类的足部骨骼由前到后主要包括趾骨、跖骨、楔骨、足舟骨、跟骨等，人在行走时，趾骨、跖骨和楔骨受力，使得鞋子对地面产生摩擦力，促使人向前行走，此时，脚趾和脚掌对鞋垫产生摩擦力。但是，现有的鞋垫在使用过程中，脚趾位与脚趾不吻合，没有特定的脚趾脚型的区域对应脚趾位置，影响穿戴舒适性。而且人在行走时、脚掌的受力程度会比较大，容易产生较大的摩擦，现有鞋垫的脚掌区域一般采用平面结构，没有对应脚掌脚型设计，影响穿戴舒适性。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是针对现有技术的上述缺陷，提供一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底。
[0004]为解决现有技术的上述缺陷，本技术提供的技术方案是：一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，包括主体，所述主体具有脚跟位、足弓位、前脚掌位和脚趾位，所述前脚掌位和脚趾位之间设有防滑凸起结构，所述前脚掌位设有适合人体脚掌脚型的曲面凹陷部，所述主体的底面对应所述防滑凸起结构的位置设有凹槽。
[0005]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，所述凹槽的形状与所述防滑凸起结构的形状相同，所述防滑凸起结构的位置设置有磁石。磁石能够对脚趾的凹槽位置进行按摩，防滑凸起结构的形状设计能够适应脚趾凹槽位置的脚型，不仅具有防滑作用、也能够提升穿着的舒适程度。
[0006]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，所述防滑凸起结构的宽度由两端至中间逐渐增大。防滑凸起结构的中间转角位置的宽度最大，对应的使拇指与相邻脚趾之间的凹槽位，根据脚趾的脚型进行设计。
[0007]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，所述脚趾位上间隔设有五个脚趾按摩凹槽，每个所述脚趾按摩凹槽内均设有按摩凸起。
[0008]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，每个所述按摩凸起内均设有第一磁石。随着行走受力可以对脚趾起到针对性的按摩。
[0009]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，五个所述脚趾按摩凹槽的体积从脚拇指至小脚趾依次减小。
[0010]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，相邻的两个所述脚趾按摩凹槽之间由凸棱隔开。
[0011]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，所述曲面凹陷部内间隔设有多个脚掌按摩凸起。
[0012]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，所述足弓位上间隔设有若干个足弓按摩凸起和多个第一足弓按摩磁石，所述足弓位的中部设有足弓凸起部，所述足弓凸起部内设有第二足弓按摩磁石。
[0013]作为本技术适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底的一种改进，所述脚跟位上间隔设有多个脚跟按摩凸起和三个脚跟按摩磁石，其中两个脚跟按摩磁石的大小与所述第二足弓按摩磁石的大小相同，另外一个脚跟按摩磁石的大小与所述第一足弓按摩磁石的大小相同。
[0014]与现有技术相比，本技术的优点是：本技术鞋垫的前掌位采用适应脚型设计，根据前脚掌受力位置与形状进行的吻合性的设计了曲面凹陷部，采用了曲面凹陷部适应鞋型设计，增加脚前掌位受力位置的舒适性与包裹性；使穿着更为舒适。本技术的脚趾位采用适应脚趾脚型的凹槽设计，根据脚趾的外形进行吻合性设计，采用脚趾按摩凹槽的设计增加了脚趾受力位置的舒适性与包裹性，另外在脚趾按摩凹槽内加入按摩装置设置，随着行走受力可以对脚趾起到针对性的按摩。
附图说明
[0015]下面就根据附图和具体实施方式对本技术及其有益的技术效果作进一步详细的描述，其中：
[0016]图1是本技术主视图。
[0017]图2是本技术侧视图。
[0018]附图标记名称：1、主体2、脚跟位3、足弓位4、前脚掌位5、脚趾位6、防滑凸起结构7、曲面凹陷部8、磁石51、脚趾按摩凹槽52、按摩凸起71、脚掌按摩凸起31、足弓按摩凸起32、第一足弓按摩磁石33、足弓凸起部34、第二足弓按摩磁石21、脚跟按摩凸起22、脚跟按摩磁石。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]需要说明，本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0021]另外，在本技术中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围内。
[0022]如图1和图2所示，一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，包括主体1，主体1具有脚跟位2、足弓位3、前脚掌位4和脚趾位5，前脚掌位4和脚趾位5之间设有防滑凸起结构6，前
脚掌位4设有适合人体脚掌脚型的曲面凹陷部7，主体1的底面对应防滑凸起结构6的位置设有凹槽。前脚掌位4采用适应脚型设计，根据前脚掌受力位置与形状进行的吻合性的设计了曲面凹陷部7，采用了曲面凹陷部7适应鞋型设计，增加脚前掌位受力位置的舒适性与包裹性；使穿着更为舒适。
[0023]优选的，凹槽的形状与防滑凸起结构6的形状相同，防滑凸起结构6的位置设置有磁石8。磁石8能够对脚趾的凹槽位置进行按摩。防滑凸起结构6的形状设计能够适应脚趾凹槽位置的脚型，不仅具有防滑作用、也能够提升穿着的舒适程度。
[0024]优选的，防滑凸起结构6的宽度由两端至中间逐渐增大。防滑凸起结构6的中间转角位置的宽度最大，对应的拇指与相邻脚趾之间的凹槽位，根据脚趾的脚型进行设计。
[0025]优选的，脚趾位5上间隔设有五个脚趾按摩凹槽51，每个脚趾按摩凹槽51内均设有按摩凸起52。脚趾位5采用适应脚趾脚型的凹槽设计，根据脚趾的外形进行吻合性设计，采用脚趾按摩凹槽51的设计增加了脚趾受力位置的舒适性与包裹性，另外在脚趾按摩凹槽51内加入按摩装置设置，随着行走受力可以对脚趾起到针对性的按摩。
[0026]优选的，每个按摩凸起52内均设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，包括主体，所述主体具有脚跟位、足弓位、前脚掌位和脚趾位，其特征在于，所述前脚掌位和脚趾位之间设有防滑凸起结构，所述前脚掌位设有适合人体脚掌脚型的曲面凹陷部，所述主体的底面对应所述防滑凸起结构的位置设有凹槽。2.根据权利要求1所述的适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，其特征在于，所述凹槽的形状与所述防滑凸起结构的形状相同，所述防滑凸起结构的位置设置有磁石。3.根据权利要求1所述的适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，其特征在于，所述防滑凸起结构的宽度由两端至中间逐渐增大。4.根据权利要求1所述的适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，其特征在于，所述脚趾位上间隔设有五个脚趾按摩凹槽，每个所述脚趾按摩凹槽内均设有按摩凸起。5.根据权利要求4所述的适应脚型的鞋垫、鞋中底或鞋大底，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘杰，尹婉雯，
申请(专利权)人：广东健步走健康科技有限公司，
类型：新型
国别省市：