一种铣床、非暂态计算机可读取介质、以及用于铣削多层物体的方法。方法可以包括：铣削由间隙而彼此间隔开的结构元件的阵列中的每个结构元件，以提供经铣削的结构元件，其中，每个经铣削的结构元件具有平坦的上表面，其中，在铣削之前，阵列的结构元件中的每一个结构元件具有一定宽度的平坦的上表面，其中此一定宽度是纳米级的。铣削阵列的每个结构元件可包括沿着结构元件的纵轴扫描一定宽度的散焦离子束。散焦离子束的电流强度随着距散焦离子束的中间的距离而减小。中间的距离而减小。中间的距离而减小。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】产生具有平坦上表面的经铣削的结构元件
[0001]相关申请的交叉参考本申请要求在2019年8月2日提交的美国非临时申请第16/530,331号的优先权权益，出于所有目的，其全文通过引用合并于此。
技术介绍
[0002]诸如各种半导体物体(例如半导体晶片、显示面板、太阳能晶片)之类的物体可以包括结构元件的阵列，结构元件的阵列具有基本矩形的横截面并且以空的间隙彼此分开。这样的结构元件的非限制性示例可包括存储器单元、存储器阵列等。
[0003]这些结构元件的均匀铣削将导致经铣削的结构元件具有倾斜的横截面，诸如三角形横截面。当在铣削工艺期间基本上每个点都接收到基本上相同量的辐射时，会获得均匀的铣削。
[0004]由于发射的材料原子的数量在结构元件的边缘附近增加，而获得三角形横截面。随着被辐射的材料原子更靠近结构元件的任何外表面，被辐射的材料原子从结构元件脱出的机会增加。因此，更靠近结构元件的侧壁的受辐射材料原子可能会穿过结构元件的侧壁脱出
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且不只是穿过结构元件的上表面脱出。因此，实际的铣削产量以离结构元件的中心的距离的函数而增加。
[0005]图1从上而下描绘：a.在铣削之前的结构元件111的阵列。结构元件111以间隙115彼此间隔开。每个结构元件具有平坦的顶表面112以及垂直的侧壁113和114。假设阵列的不同结构元件在理想中相同。b.部分经铣削的结构元件121的阵列。部分经铣削的结构元件121是第一次铣削迭代的结果。部分经铣削的结构元件中的每一个的顶部都具有三角形的横截面。部分经铣削的结构元件中的每一个的下部具有侧壁。部分经铣削的结构元件121由间隙125间隔开。c.经铣削的结构元件131的阵列。经铣削的结构元件是第二次铣削迭代的结果。经铣削的结构元件131中的每一个具有三角形的横截面。经铣削的结构元件131由间隙135间隔开。
[0006]越来越需要产生具有平坦顶表面的经铣削的结构元件。
技术实现思路
[0007]可以提供一种用于产生经铣削的结构元件的方法，方法包括：铣削由间隙而彼此间隔开的结构元件的阵列中的每个结构元件，以提供经铣削的结构元件，其中，阵列的每个经铣削的结构元件具有平坦的上表面；其中，在铣削之前，每个结构元件具有一定宽度的平坦的上表面，其中此一定宽度是纳米级的。方法还包括：其中铣削包括沿着每个结构元件的纵轴扫描一定宽度的散焦离子束。方法还包括：其中散焦离子束的电流强度随着距散焦离子束的中间的距离而减小。
[0008]可以提供一种铣床，所述铣床包括：控制器。铣床进一步包括聚焦离子束模块。铣床进一步包括其中聚焦离子束模块被配置以在控制器的控制下，铣削由间隙而彼此间隔开的结构元件的阵列中的每个结构元件，以提供经铣削的结构元件，其中，每个经铣削的结构元件具有平坦的上表面；其中，在铣削之前，每个结构元件具有一定宽度的平坦的上表面，其中此一定宽度是纳米级的。铣床还包括：其中，通过聚焦离子束模块对每个结构元件的铣削包括：沿着每个结构元件的纵轴扫描一定宽度的散焦离子束。铣床还包括：其中，散焦离子束的电流强度随着距散焦离子束的中间的距离而减小。
[0009]可以提供一种非暂态计算机可读取介质，所述非暂态计算机可读取介质存储用于产生经铣削的结构元件的指令，所述指令使铣床实行一种方法，方法包括：铣削由间隙而彼此间隔开的结构元件的阵列中的每个结构元件，以提供经铣削的结构元件，每个经铣削的结构元件具有平坦的上表面；其中，在铣削之前，每个结构元件具有一定宽度的平坦的上表面，其中此一定宽度是纳米级的。非暂态计算机可读取介质进一步包括其中铣削步骤包括沿着每个结构元件的纵轴扫描一定宽度的散焦离子束。非暂态计算机可读取介质进一步包括其中，散焦离子束的电流强度随着距散焦离子束的中间的距离而减小。
附图说明
[0010]所要求的主题的示例可在本说明书的总结部分中被特别地指出和清楚地主张。然而，本公开内容的实施例，对于组织及操作的方法两者，连同目的、特征、和其中的优点，可通过参照以下具体实施方式而在与附图一起阅读时被最佳地理解，其中：
[0011]图1是现有技术的结构元件、现有技术的部分经铣削的结构元件、和现有技术的经铣削的结构元件的示例；
[0012]图2根据本公开内容的一个或多个实施例是结构元件、经铣削的结构元件、和散焦离子束电流强度分布的示例；
[0013]图3示出了方法的示例；
[0014]图4根据本公开内容的一个或多个实施例是结构元件、扫描图案的扫描线、和散焦离子束电流强度分布的示例；
[0015]图5根据本公开内容的一个或多个实施例是结构元件和扫描图案的一部分的示例；和
[0016]图6是聚焦离子束模块和控制器的示例。
[0017]应理解为了描述的简单与清晰，附图中所示的元件并未必然依比例绘制。例如，为了更清楚，一些元件的尺寸可能相对于其他元件被放大。此外，在认为适当时，参考标号在附图上可被重复以指示相对应或类似的元件。
具体实施方式
[0018]在以下具体实施方式中，许多特定细节被阐释以便提供对本公开内容的实施例的透彻理解。然而，本领域技术人员将理解本公开内容的当前实施例可在没有这些特定细节的情况下实践。在其他实例中，熟知的方法、程序和元件未被详细描述以为了不混淆本公开内容的当前实施例。
[0019]视为本公开内容的实施例的主题在说明书的总结部分被特别地指出和清楚地主
张。然而，本公开内容的实施例，对于组织及操作的方法这两者，连同目的、特征和其中的优点，可通过参照以下实施方式而在与附图一起阅读时被最佳地理解。
[0020]因为本公开内容的当前实施例的所示的实施例可在大多数情况下，使用本领域技术人员所熟知的电子元件及电路来实施，细节将不会以比被考虑为如以上描绘所必须的更详细延伸地来解释，以理解和认识本公开内容的当前实施例的基本概念并且为了不模糊或分散本公开内容的当前实施例的教示。
[0021]说明书中对方法的任何参照都应在必要的情况下比照适用于能够执行此方法的铣床，并且应在细节上比照适用于存储指令的非暂态计算机可读取介质，所述指令一旦由计算机执行就会导致方法的执行。
[0022]说明书中对系统的任何参照均应作必要的变通后适用于此系统可以执行的方法，并且应作必要的变通后适用于存储可以由铣床执行的指令的非暂态计算机可读取介质。
[0023]说明书中对非暂态计算机可读取介质的任何参照都应作必要的变通以适用于能够执行存储在非暂时性计算机可读取介质中的指令的铣床，并且应作必要的变通后适用于可以由以下方式执行的方法：读取存储在非暂态计算机可读取介质中的指令的计算机。
[0024]可以提供用于铣削通过间隙彼此间隔开的结构元件的铣床、方法、和非暂态计算机可读取介质，以提供具有平坦顶表面的经铣削的结构元件。
[0025]需要补偿横跨结构元件上的实际铣削产量的差异，并且为被辐射的原子材料提供实质上相同的离开结构元件的机会，而无论被辐射的材料原子和结构元本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于产生经铣削的结构元件的方法，所述方法包括：铣削由间隙而彼此间隔开的结构元件的阵列中的每个结构元件，以提供所述经铣削的结构元件，其中，所述阵列的每个经铣削的结构元件具有平坦的上表面；其中，在所述铣削之前，所述每个结构元件具有一定宽度的平坦的上表面，其中所述一定宽度是纳米级的；其中所述铣削包括沿着所述每个结构元件的纵轴扫描所述一定宽度的散焦离子束；并且其中，所述散焦离子束的电流强度随着离所述散焦离子束的中间的距离而减小。2.如权利要求1所述的方法，包括：接收关于所述一定宽度的结构元件信息，以及确定至少一个铣削参数，以提供所述一定宽度的所述散焦离子束。3.如权利要求1所述的方法，包括：接收或确定所述阵列的均匀铣削的结构元件的上部的形状；确定铣削方案，所述铣削方案补偿所述均匀铣削的结构元件的所述上部的所述形状与具有平坦顶表面之间的偏移；和在所述每个结构元件的所述铣削期间，应用所述铣削方案。4.如权利要求3所述的方法，其中所述确定所述铣削方案包括确定铣削扫描图案以及一个或多个附加铣削参数，所述一个或多个附加铣削参数包括所述散焦离子束的散焦强度、或散焦离子束电流分布中的至少一个。5.如权利要求1所述的方法，其中所述散焦离子束具有在所述阵列的所述结构元件的所述平坦的上表面上方或下方的聚焦平面。6.一种铣床，包括：控制器；和聚焦离子束模块；其中所述聚焦离子束模块被配置以在所述控制器的控制下，铣削由间隙而彼此间隔开的结构元件的阵列中的每个结构元件，以提供经铣削的结构元件，其中，每个经铣削的结构元件具有平坦的上表面；其中，在铣削之前，所述每个结构元件具有一定宽度的平坦的上表面，其中所述一定宽度是纳米级的；其中，通过所述聚焦离子束模块对所述每个结构元件的铣削包括：沿着所述每个结构元件的纵轴扫描所述一定宽度的散焦离子束；和其中，所述散焦离子束的电流强度随着离所述散焦离子束的中心的距离而减小。7.如权利要求6所述的铣床，其中，所述控制器被配置以接收关于所述一定宽度的结构元件信息，并确定至少一个铣削参数，以提供所述一定宽度的所述散焦离子束。8.如权利要求6所述的铣床，其中所述控制器被配置以：接收或确定所述阵列的均匀铣削...
【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：
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