一种洛普替尼晶型及其制备方法技术

技术编号:32616992 阅读:23 留言:0更新日期:2022-03-12 17:45
本发明专利技术提供了(7S,13R)

【技术实现步骤摘要】
一种洛普替尼晶型及其制备方法


[0001]本专利技术涉及药物化学领域,尤其涉及(7S,13R)

11氟

7,14

二甲基

6,7,13,14

四氢

1,15

乙烯桥吡唑并[4,3

f][1,4,8,10]‑
苯并氧杂三氮杂环十三炔

4(5H)

酮的新晶型及其制备方法。

技术介绍

[0002]洛普替尼(TPX

0005)是一种强效的小分子多靶标激酶抑制剂,其显示出对抗野生型和突变型ALA(间变性淋巴瘤激酶)、野生型和突变型ROS1(ROS1原癌基因受体酪氨酸激酶)、TRK家族激酶(原肌球蛋白相关受体酪氨酸激酶)、Janus家族激酶的JAK2、SRC(Src家族蛋白酪氨酸激酶(SFK))和FAK(粘着斑激酶)的活性。它是TP Therapeutics公司研发的第四代ALK抑制剂。2017年6月28日,TP Therapeutics公司宣布FDA已经向其在研临床新药化合物TPX

0005颁发了孤儿药资格,用于治疗携带ALK、ROS1或NTRK致癌基因重排的NSCLC(非小细胞肺癌)患者。
[0003]它拥有一种紧凑的三维大环分子结构,分子量为355.4,比现有的所有ALK和ROS1抑制剂分子量更小。众所周知,ALK抑制剂耐药性机制总体来说有以下几种:ALK激酶域继发性耐药突变、ALK融合基因拷贝数扩增、旁路和下游通路的激活、上皮间充质转化等。TPX

0005的紧凑的小分子结构使它在ATP内部与中心结合位点结合,并且避免ATP结合位点之外的突变造成的空间位阻,即避免临床耐药突变的干扰。洛普替尼(TPX

0005)的化学名称为(7S,13R)

11氟

7,14

二甲基

6,7,13,14

四氢

1,15

乙烯桥吡唑并[4,3

f][1,4,8,10]‑
苯并氧杂三氮杂环十三炔

4(5H)

酮,其分子结构式如下所示:
[0004][0005]专利WO2017007759报道了式(I)化合物的1个晶型——形态1,但未公开报道该晶型任何关于稳定性、溶解性、引湿性、粉体性能等一些对于产品开发具有重要意义的物理化学性质。而其报道的制备方法为浓缩析晶,具有不可预见的放大效应,即在放大生产过程中采用浓缩结晶很难控制晶体的粒度和晶习等,导致批次间的不一致,进而影响后续制剂等工艺。另外,上述制备方法中需要使用二氯甲烷和甲醇,对动物有致癌性,环境友好性低。
[0006]对于药物研发而言,对多晶型的研究是一个至关重要的内容。晶型不同可造成药物的溶解度、稳定性和流动性等差异,从而影响药物的安全性和有效性,进而导致临床效果的不同。为了得到稳定的、适于药用的剂型,需要提供稳定性高、可工业化生产的晶型。因此,本领域仍需要开发一种在不同的温度、湿度以及研磨条件下稳定性好的晶型,以满足药物开发、制剂配方制备及工业化生产的需要。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的是提供易于制备、稳定性高的式(I)化合物的新晶型,以满足药物研究及工业化生产的需要。
[0008]本专利技术的第一方面,提供了一种式(I)化合物的晶型:所述晶型包括晶型CM

I、晶型CM

II、晶型CM

III、晶型CM

IV、晶型CM

V、晶型CM

VI、晶型CM

VII和/或晶型CM

VIII。
[0009][0010]优选地,所述晶型选自下组:晶型CM

I、晶型CM

II、晶型CM

III;
[0011]其中,所述晶型CM

I的XRPD图包括2个或2个以上选自下组的2θ值:7.7
°±
0.2
°
、8.9
°±
0.2
°
、11.3
°±
0.2
°
、15.5
°±
0.2
°
、17.8
°±
0.2
°

[0012]所述晶型CM

II的XRPD包括3个或3个以上选自下组的2θ值:10.7
°±
0.2
°
、12.4
°±
0.2
°
、19.1
°±
0.2
°
、22.8
°±
0.2
°

[0013]所述晶型CM

III的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值:7.9
°±
0.2
°
、9.1
°±
0.2
°
、9.7
°±
0.2
°
、18.9
°±
0.2
°

[0014]优选地,所述晶型为晶型CM

I,其中所述晶型CM

I的XRPD图包括2个或2个以上(如2、3、4个)选自下组的2θ值:7.7
°±
0.2
°
、8.9
°±
0.2
°
、11.3
°±
0.2
°
、15.5
°±
0.2
°
、17.8
°±
0.2
°

[0015]优选地,所述晶型为晶型CM

II,其中所述晶型CM

II的XRPD包括3个或3个以上(如3、4、5个)选自下组的2θ值:10.7
°±
0.2
°
、12.4
°±
0.2
°
、19.1
°±
0.2
°
、22.8
°±
0.2
°

[0016]优选地,所述晶型为晶型CM

III,其中所述晶型CM

III的XRPD图包括3个或3个以上(如3、4、5个)选自下组的2θ值:7.9
°±
0.2
°
、9.1
°±
0.2
°
、9.7
°±
0.2
°
、18.9
°±<本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种如式(I)所示的化合物的晶型:2.如权利要求1所述的晶型,其特征在于,所述晶型选自下组:晶型CM

I、晶型CM

II、晶型CM

III;其中,所述晶型CM

I的XRPD图包括2个或2个以上选自下组的2θ值:7.7
°±
0.2
°
、8.9
°±
0.2
°
、11.3
°±
0.2
°
、15.5
°±
0.2
°
、17.8
°±
0.2
°
;所述晶型CM

II的XRPD包括3个或3个以上选自下组的2θ值:10.7
°±
0.2
°
、12.4
°±
0.2
°
、19.1
°±
0.2
°
、22.8
°±
0.2
°
;所述晶型CM

III的XRPD图包括3个或3个以上选自下组的2θ值:7.9
°±
0.2
°
、9.1
°±
0.2
°
、9.7
°±
0.2
°
、18.9
°±
0.2
°
。3.如权利要求2所述的晶型,其特征在于,所述晶型CM

I具有选自下组的一个或多个特征:1)所述晶型CM

I的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值:3.9
°±
0.2
°
、7.7
°±
0.2
°
、8.9
°±
0.2
°
、11.3
°±
0.2
°
、14.3
°±
0.2
°
、15.5
°±
0.2
°
、17.8
°±
0.2
°
、20.0
°±
0.2
°
、22.7
°±
0.2
°
、23.3
°±
0.2
°
、25.1
°±
0.2
°
、28.9
°±
0.2
°
;2)所述晶型CM

I具有基本如图1所示的XRPD图;3)所述晶型CM

I具有基本如图2所示的TGA图;4)所述晶型CM

I具有基本如图3所示的DSC图;5)所述晶型CM

I具有基本如图4所示的1H NMR图谱。4.如权利要求2所述的晶型,其特征在于,所述晶型CM

II具有选自下组的一个或多个特征:1)所述晶型CM

II的XRPD图包括6个或6个以上选自下组的2θ值:6.2
°±
0.2
°
、8.8
°±
0.2
°
、10.7
°±
0.2
°
、12.4
°±
0.2
°
、16.4
°±
0.2
°
、17.0
°±
0.2
°
、17.5
°±
0.2
°
、19.1
°±
0.2
°
、20.2
°±
0.2
°
、21.4
°±
0.2
°
、22.3
°±
0.2
°
、22.8
°±
0.2
°
、24.5
°±
0.2
°
、26.8
°±

【专利技术属性】
技术研发人员:彭欢闵思佳张凤杰张良
申请(专利权)人:上海创诺医药集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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