一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体制造技术

本发明专利技术公开了一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体,所述装置本体包括第一冷却腔体、第二冷却腔体、涡旋水入口、废气进口和铭牌，所述第一冷却腔体位于装置本体底部，所述第二冷却腔体后端通过螺丝安装在第一冷却腔体前端，所述涡旋水入口设有一组，一组所述涡旋水入口呈对称方式安装在第二冷却腔体表面，所述废气进口设有一组，一组所述废气进口呈对称方式安装在第一冷却腔体表面，该种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体通过提高冷却腔体的长度，从而可以提高腔体内对废气处理的效率，且还可以提高腔体对废气处理的量，进一步提高了工作人员的工作效率。进一步提高了工作人员的工作效率。进一步提高了工作人员的工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体


[0001]本专利技术涉及半导体行业废气处理
，具体为一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体。

技术介绍

[0002]半导体废气多为有毒有害气体，对人体和环境危害严重，随着半导体行业的日益繁荣，产能激增，半导体厂商由于企业内部设施的限制对废气处理设备有更多各类需求，对处理效率有更高要求。
[0003]现有的半导体行业废气处理循环水涡旋冷却腔体有如下缺陷：
[0004]1、现有的半导体行业废气处理循环水涡旋冷却腔体在使用时，冷却的腔体较短，在对废气处理时，腔体内的循环水对废气进行冷却处理时，冷却效率慢，且对废气处理有限，从而不能提高对废气处理的效率。
[0005]2、现有的半导体行业废气处理循环水涡旋冷却腔体在使用时，涡旋水入口较长，且较长的涡旋水入口会影响涡旋水的旋转力度，从而导致涡旋水在腔体内导致堵塞的情况发生，从而影响装置本体正常对废气的处理工作。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0007]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0008]一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体,其特征在于：所述装置本体包括第一冷却腔体、第二冷却腔体、涡旋水入口、废气进口和铭牌，所述第一冷却腔体位于装置本体底部，所述第二冷却腔体后端通过螺丝安装在第一冷却腔体前端，所述涡旋水入口设有一组，一组所述涡旋水入口呈对称方式安装在第二冷却腔体表面，所述废气进口设有一组，一组所述废气进口呈对称方式安装在第一冷却腔体表面。
[0009]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述第一冷却腔体和第二冷却腔体前后两端均设有连接外环，所述连接外环呈掏空圆形状，所述连接外环表面开设有若干组连接螺孔。
[0010]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述第一冷却腔体和第二冷却腔体连接处设有密封垫，所述密封垫呈掏空圆形状，且密封垫为橡胶材质。
[0011]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述涡旋水入口内安装有电子阀门，且涡旋水入口表面设有若干组螺纹。
[0012]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述第一冷却腔体内部为中空式结构，且第一冷却腔体内部设有内部腔体，所述内部腔体为中空式结构，且内部腔体表面前后两端均设有若干螺纹。
[0013]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述第一冷却腔体、第二冷却腔体和内部腔体均采用SUS材质。
[0014]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述铭牌通过螺丝安装在第二冷却腔体表面，所述铭牌表面设有产品信息。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0016]1、该种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体可以有效地解决涡旋水在腔体内对废气进行冷却处理的工作，可以有效地提高装置本体对废气冷却处理的工作，该种装置设有第一冷却腔体和第二冷却腔体，第一冷却腔体和第二冷却腔体连接后就可以加长整体腔体的长度，从而可以更多量的涡旋水和废气进入腔体内，进一步方便多量的涡旋水对腔体内的废气进行冷却处理工作，进一步提高了装置本体对废气处理工作，从而提高了工作人员的工作效率，该种装置结构简单，效率更佳，从而便于工作人员对废气处理工作。
[0017]2、该半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体设有涡旋水入口，该种装置的设有一组涡旋时入口，该种涡旋水入口比正常的涡旋水入口短，从而减少了涡旋水的入口就可以加大涡旋水进入腔体内的旋转力度，从而更加便于涡旋时对腔体内的废气进行冷却处理工作，而该种涡旋水入口可以使涡旋水进入腔体内更加的湍急，从而可以防止腔体内的废气的堵塞问题，从而减少了装置本体在运行时出现的问题，进一步提高了装置本体运行的稳定性，且提高了装置本体对废气的处理的工作效率。
附图说明
[0018]图1为本专利技术的整体的结构示意图；
[0019]图2为本专利技术的整体内部的结构示意图；
[0020]图3为本专利技术的整体剖面结构示意图；
[0021]图4为本专利技术的整体结构的俯视图；
[0022]图5为本专利技术的第二腔体的结构示意图。
[0023]图中：1、装置本体；2、第一冷却腔体；3、第二冷却腔体；4、涡旋水入口；5、废气进口；6、铭牌；7、产品信息；8、连接外环；9、连接螺孔；10、内部腔体；11、螺纹；12、密封垫；13、电子阀门。
具体实施方式
[0024]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0025]请参阅图1
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5，本专利技术提供一种技术方案：
[0026]一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体,所述装置本体1包括第一冷却腔体2、第二冷却腔体3、涡旋水入口4、废气进口5和铭牌6，所述第一冷却腔体2位于装置本体1底部，所述第二冷却腔体3后端通过螺丝安装在第一冷却腔体2前端，所述涡旋水入口4设有一组，一组所述涡旋水入口4呈对称方式安装在第二冷却腔体3表面，所述废气进口5设有一组，一组所述废气进口5呈对称方式安装在第一冷却腔体2表面。
[0027]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述第一冷却腔体2和第二冷却腔体3前后两端
均设有连接外环8，所述连接外环8呈掏空圆形状，所述连接外环8表面开设有若干组连接螺孔9，第一冷却腔体2和第二冷却腔体3的两端的连接外环8可以便于连接，从而方便工作人员把第一冷却腔体2和第二冷却腔体3相连接，且工作人员只需要把第一冷却腔体2上的连接外环8和第二冷却腔体3一端的连接外环8相互对应，从使用螺丝插入连接螺孔9内，从而第一冷却腔体2和第二冷却腔体3就可以相连接。
[0028]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述第一冷却腔体2和第二冷却腔体3连接处设有密封垫12，所述密封垫12呈掏空圆形状，且密封垫12为橡胶材质，第一冷却腔体2和第二冷却腔体3连接处的密封垫12可以提高第一冷却腔体2和第二冷却腔体3连接的紧密性，防止第一冷却腔体2和第二冷却腔体3连接处连接不紧密而导致腔体内的涡旋水和废气渗漏处，从而影响装置本体1对废气的处理工作，且渗透的废气还会影响工作人员身体健康。
[0029]作为本专利技术的一种优选实施方式，所述涡旋水入口4内安装有电子阀门13，且涡旋水入口4表面设有若干组螺纹11，该种涡旋水入口4比正常的涡旋水入口4短，从而减少了涡旋水的入口就可以加大涡旋水进入腔体内的旋转力度，从而更加便于涡旋时对腔体内的废气进行冷却处理工作，而该种涡旋水入口4可以使涡旋水进入腔体内更加的湍急，从而可以防止腔体内的废气的堵塞问题，从而减少了装置本体1在运行时出现的问题，进一步提高了装置本体1运行的稳定性，且提高了装置本体1对废气的处理的工作效率,而涡本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体,其特征在于：所述装置本体(1)包括第一冷却腔体(2)、第二冷却腔体(3)、涡旋水入口(4)、废气进口(5)和铭牌(6)，所述第一冷却腔体(2)位于装置本体(1)底部，所述第二冷却腔体(3)后端通过螺丝安装在第一冷却腔体(2)前端，所述涡旋水入口(4)设有一组，一组所述涡旋水入口(4)呈对称方式安装在第二冷却腔体(3)表面，所述废气进口(5)设有一组，一组所述废气进口(5)呈对称方式安装在第一冷却腔体(2)表面。2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体，其特征在于：所述第一冷却腔体(2)和第二冷却腔体(3)前后两端均设有连接外环(8)，所述连接外环(8)呈掏空圆形状，所述连接外环(8)表面开设有若干组连接螺孔(9)。3.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备新型循环水涡旋冷却腔体，其特征在于：所述第一冷却腔体(2)和第二冷却腔体(3)连接处设有密封垫(12...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔汉博，崔汉宽，
申请(专利权)人：上海高生集成电路设备有限公司，
类型：发明
国别省市：