清洗结构及激光雷达装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种清洗结构及激光雷达装置，属于激光雷达技术领域，用于对激光雷达的防护罩进行清洗。清洗结构包括：电磁底座、清洗组件和控制装置；电磁底座用于与防护罩连接；清洗组件可滑动地设置于防护罩的外侧，且清洗组件的内部设置有永磁环；控制装置与电磁底座和永磁环电连接。本实用新型专利技术提供的清洗结构，通过控制装置控制电磁底座通电，电磁底座通电可以产生特定的磁场，当电磁底座与清洗组件内部的永磁环极性相同时，根据同级相斥、异极相吸的原理，从而可以带动清洗组件上下滑动，从而对防护罩实现清洗。从而对防护罩实现清洗。从而对防护罩实现清洗。

【技术实现步骤摘要】
清洗结构及激光雷达装置


[0001]本技术涉及激光雷达
，尤其涉及一种清洗结构及激光雷达装置。

技术介绍

[0002]激光雷达，是以发射激光束探测目标的位置、速度等特征量的雷达系统，其工作原理是向目标探测信号激光束，然后将接收到的从目标反射回来的信号与发射信号进行比较，作适当处理后，就可获得目标的有关信息，如目标距离、方位、高度、速度、姿态、甚至形状等参数。
[0003]目前，现有技术中的激光雷达外壳上通常设置防护罩来隔离激光雷达内部空间和外部环境，但是，激光雷达在工作过程中，防护罩可能会粘附有机质或昆虫尸体等污染物，这些污染物会对激光雷达装置的激光发射、接收光路等产生影响，影响激光雷达的正常使用。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种清洗结构及激光雷达装置，用以解决现有技术中防护罩上粘附的污染物会对激光雷达的发射、接收光路产生影响的缺陷，实现激光雷达的正常使用的问题。
[0005]本技术提供一种清洗结构，用于对激光雷达的防护罩进行清洗，包括：
[0006]电磁底座，所述电磁底座用于与所述防护罩连接；
[0007]清洗组件，所述清洗组件可滑动地设置于所述防护罩的外侧，且所述清洗组件的内部设置有永磁环；
[0008]控制装置，所述控制装置与所述电磁底座和所述永磁环分别电连接。
[0009]根据本技术提供的一种清洗结构，所述清洗组件包括清洗部、输水管和输气管，所述清洗部可滑动设置于所述防护罩的外侧，且内部设置有所述永磁环，并所述清洗部的顶部开设有多个出水孔和多个出气孔；所述输水管的一端用于与高压水管连接，另一端与所述出水孔连通；所述输气管的一端用于与高压气管连接，另一端与所述出气孔连通。
[0010]根据本技术提供的一种清洗结构，所述清洗部的内周设置有弹性垫圈。
[0011]根据本技术提供的一种清洗结构，所述清洗部的形状与所述防护罩相匹配。
[0012]根据本技术提供的一种清洗结构，还包括限位环，所述限位环固定设置于所述防护罩的外周的一端，所述电磁底座固定设置于所述防护罩的外周的另一端，所述清洗部在所述限位环和所述电磁底座之间滑动。
[0013]根据本技术提供的一种清洗结构，所述限位环和所述电磁底座相靠近的一侧均设置有缓冲垫圈。
[0014]根据本技术提供的一种清洗结构，所述出水孔和所述出气孔均匀间隔设置。
[0015]根据本技术提供的一种清洗结构，所述出水孔和所述出气孔均向靠近所述防护罩的一侧倾斜设置。
[0016]根据本技术提供的一种清洗结构，所述电磁底座的形状与所述防护罩相匹配。
[0017]本技术还提供一种激光雷达装置，包括：激光雷达以及上述清洗结构。
[0018]本技术提供的清洗结构和激光雷达装置，通过控制装置控制电磁底座通电，电磁底座通电可以产生特定的磁场，当与清洗组件内部的永磁环极性相同时，根据同级相斥、异极相吸的原理，从而可以带动清洗组件上下滑动，从而对防护罩实现清洗。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本技术提供的清洗结构的结构示意图；
[0021]图2是技术提供的图1中A处的放大图；
[0022]附图标记：
[0023]1：电磁底座；
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2：清洗组件；
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3：防护罩；
[0024]4：限位环；
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5：缓冲垫圈；
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6：弹性垫圈；
[0025]21：清洗部；
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22：输水管；
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23：输气管；
[0026]24：出水孔；
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25：出气孔。
具体实施方式
[0027]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0028]下面结合图1描述本技术的实施例1，本技术的实施例1公开了一种清洗结构，用于对激光雷达的防护罩3进行清洗，包括电磁底座1、清洗组件2和控制装置，电磁底座1用于与防护罩3连接，可以理解的是，电磁底座1与防护罩3固定连接为一体；清洗组件2可滑动地设置于防护罩3的外侧，且清洗组件2的内部设置有永磁环；控制装置与电磁底座1和永磁环分别电连接。
[0029]控制装置控制电磁底座1和永磁环通电，通电可以产生特定的磁场，当电磁底座1的极性与永磁环的极性相同时，根据同极相斥、异极相吸的原理，内部带有永磁环的清洗组件2可以沿防护罩3的外侧壁上下滑动，从而起到清洁防护罩3的作用。
[0030]更进一步的，如图1所示，清洗组件2包括清洗部21、输水管22和输气管23，清洗部21可滑动设置于防护罩3的外侧，且内部设置有永磁环，如图2所示，清洗部21的顶部开设有多个出水孔24和多个出气孔25；输水管22的一端用于与高压水管连接，另一端与出水孔24连通；输气管23的一端用于与高压气管连接，另一端与出气孔25连通。当输水管22和输气管23高压工作时，可以起到清洁激光雷达的防护罩3的作用。
[0031]可以理解的是，清洗组件2为内部带有永磁环的水气集成喷阀，永磁环的极性与电磁底座1相同时，由于同级相斥，且电磁底座1与防护罩2固定连接，永磁环则能够沿防护罩3的外侧上下反复滑动，从而实现对防护罩3的外侧进行清洗。
[0032]其中，清洗部21可以设置为任意形状，与防护罩3的形状相匹配，可以为环状或矩形框架。
[0033]具体的，如图2所示，清洗部21的内周设置有弹性垫圈6，弹性垫圈6的设置可以优化对防护罩3的清洁效果。
[0034]另外，电磁底座1可以设置为任意形状，与防护罩3的形状相匹配，可以为环状或矩形框架。
[0035]更进一步地，如图1所示，清洗结构还包括限位环4，限位环4固定设置于防护罩3的外周的一端，电磁底座1固定设置于防护罩3的外周的另一端，清洗部21在限位环4和电磁底座1之间滑动，保证清洗部21在有效空间内移动。
[0036]需要说明的是，限位环4和电磁底座1相靠近的一侧均设置有缓冲垫圈5，避免清洗部21上下滑动时与限位环4或电磁底座4产生刚性碰撞。
[0037]另外，出水孔24和出气孔25均匀间隔设置，且均向防护罩3的一侧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗结构，用于对激光雷达的防护罩进行清洗，其特征在于，包括：电磁底座，所述电磁底座用于与所述防护罩连接；清洗组件，所述清洗组件可滑动地设置于所述防护罩的外侧，且所述清洗组件的内部设置有永磁环；控制装置，所述控制装置与所述电磁底座和所述永磁环分别电连接。2.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述清洗组件包括清洗部、输水管和输气管，所述清洗部可滑动设置于所述防护罩的外侧，且内部设置有所述永磁环，并所述清洗部的顶部开设有多个出水孔和多个出气孔；所述输水管的一端用于与高压水管连接，另一端与所述出水孔连通；所述输气管的一端用于与高压气管连接，另一端与所述出气孔连通。3.根据权利要求2所述的清洗结构，其特征在于，所述清洗部的内周设置有弹性垫圈。4.根据权利要求2所述的清洗结构，其特征在于，所述清洗部的形状...

【专利技术属性】
技术研发人员：张昌会，冯志辉，
申请(专利权)人：智道网联科技北京有限公司，
类型：新型
国别省市：