一种抛光机的放料盘组件制造技术

本实用新型专利技术涉及一种抛光机的放料盘组件，包括机架，所述机架上具有可转动的盘座以及可相对所述盘座升降的放料盘，所述放料盘上具有工件放置区，所述盘座位于放料盘下方并由设置在机架上的盘座驱动件驱动转动；还包括用于支撑所述放料盘的支撑盘架以及支撑所述支撑盘架的放置架，所述放置架可在机架上做升降运动，支撑盘架与放置架同步升降并且可相对所述放置架横向滑移，放料盘与支撑盘架横向同步滑移，放料盘经支撑盘架带动下移并可与盘座配合构成同步转动，支撑盘架还可相对所述放料盘下降。采用上述技术方案，本实用新型专利技术提供了一种抛光机的放料盘组件，放料盘与盘座分体设置，运输时仅将放料盘向后一工位滑移运送，其结构简单，便于运送。便于运送。便于运送。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光机的放料盘组件


[0001]本技术涉及抛光
，特别是指一种抛光机的放料盘组件。
[0002]背景技 术
[0003]在申请号为CN202021898983.2的专利文件中提出了一种回型循环玻璃抛光设备，包括：工作架，工作架上设置有若干组用于呈料夹持的放料盘组、用于对放料盘组内产品进行扫光打磨加工的扫光装置、设置于扫光装置侧端用于带动扫光装置前后滑动的驱动装置；工作架内还设置有用于带动放料盘组做回形循环传输的循环装置；料盘组由若干个并排设置的放料盘构成；放料盘包括：支撑盘架、设置于支撑盘架内的呈放盘、安装于支撑盘架下端用于带动呈放盘转动的转动模组；呈放盘上设置有若干个凹陷的夹持工位；支撑盘架的两侧设置有侧滑轨。上述放料盘中的支撑盘架、呈放盘以及转动模组装配固定后无法拆分，循环装置带动放料盘组做回形循环传输时，转动模组则与撑盘架、呈放盘一同滑移至下一抛光工位，而带动整个放料盘滑移，使得抛光设备整体结构变得复杂，且运输整个放料盘所需的传输动能大，运送十分不变。

技术实现思路

[0004]本技术的目的：为了克服现有技术的缺陷，本技术提供了一种抛光机的放料盘组件，放料盘与盘座分体设置，运输时仅将放料盘向后一工位滑移运送，其结构简单，便于运送。
[0005]本技术的技术方案：一种抛光机的放料盘组件，包括机架，所述机架上具有可转动的盘座以及可相对所述盘座升降的放料盘，所述放料盘上具有工件放置区，所述盘座位于放料盘下方并由设置在机架上的盘座驱动件驱动转动；还包括用于支撑所述放料盘的支撑盘架以及支撑所述支撑盘架的放置架，所述放置架可在机架上做升降运动，所述支撑盘架与放置架同步升降并且可相对所述放置架横向滑移，放料盘与支撑盘架横向同步滑移，所述放料盘经支撑盘架带动下移并可与盘座配合构成同步转动，支撑盘架还可相对所述放料盘下降。
[0006]采用上述技术方案，放料盘与盘座分体设置且可相对所述盘座升降，将待抛光工件置于放料盘的工件放置区上；
[0007]工件抛光时，所述放置架向下滑移，支撑盘架随放置架同步向下，在放料盘向下抵触在盘座上时，所述放置架可继续带动支撑盘架向下与放料盘分离，所述放料盘与盘座配合同步转动，从而带动待抛光工件转动实现磨抛；
[0008]工件向后运输时，所述放置架可带动支撑盘架向上滑移，使得放料盘向上与盘座分离，此时支撑盘架可带动放料盘横向滑移至后一工位。
[0009]放料盘与盘座分体设置，运输时仅将放料盘向后一工位滑移运送，其结构简单，便于运送。
[0010]本技术的再进一步设置：所述支撑盘架内部具有支撑台，该支撑台呈环形设置形成一可供盘座进出的避让空间，所述环形支撑台可间接或直接支撑在所述放料盘底面
上。
[0011]采用上述再进一步设置，所述支撑台呈环形设置便于对放料盘的周向支撑，支撑效果好，且所围成的避让空间便于盘座进出。
[0012]本技术的再进一步设置：该抛光机的放料盘组件还包括，
[0013]公转盘、连接所述公转盘的公转轴以及与套设在所述公转轴外的齿盘，所述盘座驱动件与公转轴直接或间接连接，所述的齿盘固定设置在机架上且与公转轴转动配合，所述盘座设置有多组且转动装设在公转盘上，各盘座分布于所述公转轴的外周，各盘座底部连接有自转轴，各盘座的自转轴上均套设有齿轮，各齿轮与齿盘外周啮合；
[0014]承载盘，所述放料盘对应盘座设有多组并装设在所述承载盘上，所述的支撑台支撑在所述承载盘的底面上，承载盘可与公转盘配合并由公转轴驱动同步转动，所述放料盘可与对应盘座配合并由自转轴驱动同步转动。
[0015]采用上述再进一步设置，设置有多组放料盘，抛光效果好。所述盘座驱动件驱动公转轴转动，公转盘由公转轴驱动转动，各盘座由公转盘带动绕公转轴轴心公转；由于齿盘固定不动，同时自转轴的齿轮分布在齿盘外周，在盘座转动时，带动各盘座绕齿盘转动，各自转轴上齿轮与齿盘啮合，带动自转轴转动，同时实现盘座的自转，承载盘与公转盘同步转动，放料盘与盘座同步转动。
[0016]本技术的再进一步设置：盘座上部具有与所述自转轴同心的插槽I以及电磁铁，所述放料盘底部具有插套以及磁吸部，所述插套可插入对应插槽I内，所述放料盘可经磁吸部与电磁铁吸附构成与对应盘座的同步转动；
[0017]所述公转盘上在偏离公转轴的轴心位置具有插槽II，承载盘底部具有与所述插槽II插接配合的插柱，所述承载盘经插柱插入插槽II内实现与公转盘的同步转动；
[0018]所述支撑盘架的上部具有插块，承载盘底部具有缺口，所述插块插入缺口内实现对承载盘转动后的定位。
[0019]采用上述再进一步设置，放料盘与盘座之间，承载盘与支撑盘架、公转盘之间的定位结构简单。所述放料盘的插套向下导入盘座的插槽I内，磁吸部与电磁铁吸附，实现放料盘与盘座配合位置定位且同步转动；所述承载盘的插柱向下导入公转盘偏离公转轴中心位置的插槽II内，实现承载盘与公转盘的配合位置定位且同步转动；所述插块插入缺口内，确保支撑盘架与承载盘的配合位置定位，避免承载盘转动后与支撑盘架配合位置出现偏差。
[0020]本技术的再进一步设置：所述插套呈倒锥形设置，插槽I内侧壁上设有可贴合插套外周面的引导斜面或弧面，所述插柱也呈倒锥形设置，插槽II内侧壁上设有可贴合插柱外周面引导斜面或弧面。
[0021]采用上述再进一步设置，插套呈倒锥形设置，其与插槽I内侧壁的引导斜面或弧面配合，便于实现对放料盘向下的导向定位；插柱呈倒锥形设置，其与插槽II内侧壁的引导斜面或弧面配合，便于实现对承载盘向下的导向定位。
[0022]本技术的进一步设置：所述放置架的两侧装设有滚轮I，滚轮I平置，支撑盘架的两外侧壁沿横向设有滚轮路面I，两侧滚轮I的侧面分别与对应的滚轮路面I贴合。
[0023]采用上述再进一步设置，滚轮I与对应滚轮路面I配合，便于支撑盘架滑移，同时两侧具有滚轮I分别抵触支撑盘架两侧，实现对支撑盘架滑移的导向。
[0024]本技术的再进一步设置：所述支撑盘架底部装设有滚轮II，滚轮II竖置，所述
放置架的上端面沿横向设有滚轮路面II，所述滚轮II底面与滚轮路面II贴合。
[0025]采用上述再进一步设置，滚轮II设置在支撑盘架底面上，即可以与滚轮路面II配合导向滑移，又可以充当配重块作用使得支撑盘架随放置架同步下降。
附图说明
[0026]图1为本技术具体实施例的结构图；
[0027]图2为本技术具体实施例的内部结构图；
[0028]图3为本技术具体实施例的内部结构图；
[0029]图4为图3中I部分的局部放大图；
[0030]图5为本技术具体实施例中承载盘的结构图；
[0031]图6为本技术具体实施例中支撑盘架的结构图；
[0032]图7为本技术具体实施例中公转盘的结构图。
[0033]机架100，盘座200，放料盘300，支撑盘架本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光机的放料盘组件，包括机架，其特征在于:所述机架上具有可转动的盘座以及可相对所述盘座升降的放料盘，所述放料盘上具有工件放置区，所述盘座位于放料盘下方并由设置在机架上的盘座驱动件驱动转动；还包括用于支撑所述放料盘的支撑盘架以及支撑所述支撑盘架的放置架，所述放置架可在机架上做升降运动，所述支撑盘架与放置架同步升降并且可相对所述放置架横向滑移，放料盘与支撑盘架横向同步滑移，所述放料盘经支撑盘架带动下移并可与盘座配合构成同步转动，支撑盘架还可相对所述放料盘下降。2.根据权利要求1所述的一种抛光机的放料盘组件，其特征在于：所述支撑盘架内部具有支撑台，该支撑台呈环形设置形成一可供盘座进出的避让空间，所述环形支撑台可间接或直接支撑在所述放料盘底面上。3.根据权利要求2所述的一种抛光机的放料盘组件，其特征在于：该抛光机的放料盘组件还包括，公转盘、连接所述公转盘的公转轴以及套设在所述公转轴外的齿盘，所述盘座驱动件与公转轴直接或间接连接，所述的齿盘固定设置在机架上且与公转轴转动配合，所述盘座设置有多组且转动装设在公转盘上，各盘座分布于所述公转轴的外周，各盘座底部连接有自转轴，各盘座的自转轴上均套设有齿轮，各齿轮与齿盘外周啮合；承载盘，所述放料盘对应盘座设有多组并装设在所述承载盘上，所述的支撑台支撑在所述承载盘的底面上，承载盘可与公转盘配合并由公转轴驱动同步转动，所述放料盘可...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚癸州，曹高月，肖龙，
申请(专利权)人：浙江永耀机械科技有限公司，
类型：新型
国别省市：