化合物、组合物、膜、层叠体及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术为式(1)表示的化合物。式中，Ar1、Ar2及Ar3表示1,4

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物、组合物、膜、层叠体及显示装置


[0001]本专利技术涉及化合物、组合物、膜、层叠体及显示装置。

技术介绍

[0002]对于图像显示面板等显示器，存在薄型化的持续性要求，对于作为其构成要素之一的偏光板、偏光片等，也要求进一步的薄型化。针对这样的要求，例如提出了一种薄型的宾主型偏光片，其具备包含聚合性液晶化合物和显示二向色性的色素化合物的偏光膜(例如，参见专利文献1及2)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特表2007
‑
510946号公报
[0006]专利文献2：日本特开2013
‑
37353号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的课题
[0008]然而，若在制造偏光片所具备的偏光膜的工序中采用紫外线(UV)曝光，则色素化合物有时发生变性，因此存在加工工艺受到限制的情况。
[0009]本专利技术的目的在于提供紫外线(UV)耐久性高的色素化合物。
[0010]用于解决课题的手段
[0011]本专利技术提供下述[1]至[9]。
[0012][1]下述式(1)表示的化合物。
[0013]R4‑
R3‑
Ar1‑
(
‑
R1‑
Ar2‑
)
n
‑
N＝N
‑
Ar3‑
R2ꢀꢀꢀ
(1)
[0014][式(1)中，Ar1、Ar2及Ar3各自独立地表示可具有取代基的1,4
‑
亚苯基或可具有取代基的2价的含硫芳香族杂环基，Ar1及Ar2中的至少一者具有氟原子作为取代基。n表示整数1或2。R1表示单键、或选自由
‑
OC(＝O)
‑
、
‑
C(＝O)O
‑
、
‑
C≡C
‑
、
‑
CH＝CH
‑
、
‑
CH＝N
‑
及
‑
N＝CH
‑
组成的组中的至少1个基团。R2表示可具有聚合性基团的烷基氨基、或可具有聚合性基团的烷氧基。R3表示选自由碳原子数为4至20的烷烃二基、碳原子数为2至20的烷烃二基氧基、碳原子数为2至20的烷烃二基氧基羰基及碳原子数为2至20的烷烃二基羰基氧基组成的组中的至少1个基团。R4表示聚合性基团或氢原子。n为2的情况下，存在有2个的R1可以相同也可以不同，存在有2个的Ar2可以相同也可以不同。][0015][2]如[1]所述的化合物，其中，前述式(1)中，Ar1及Ar2中的任意一者具有1个或2个氟原子作为取代基。
[0016][3]如[1]或[2]所述的化合物，其中，前述式(1)中，R1为单键。
[0017][4]如[1]至[3]中任一项所述的化合物，其中，前述式(1)中，n为整数1。
[0018][5]如[1]至[4]中任一项所述的化合物，其中，前述聚合性基团为自由基聚合性基团。
[0019][6]组合物，其包含[1]至[5]中任一项所述的化合物。
[0020][7]膜，其将[1]至[5]中任一项所述的化合物作为形成材料。
[0021][8]层叠体，其包含[7]所述的膜。
[0022][9]显示装置，其具备[7]所述的膜。
[0023]专利技术效果
[0024]根据本专利技术，可以提供紫外线耐久性高的色素化合物。
具体实施方式
[0025]本说明书中，术语“工序”不仅包括独立的工序，在无法与其他工序明确区分的情况下，只要能达成该工序的所期望的目的，则也包括在本术语中。另外，对于组合物中的各成分的含量而言，在组合物中存在多种属于各成分的物质的情况下，只要没有特别说明，则是指存在于组合物中的该多种物质的总量。以下，对本专利技术的实施方式进行详细说明。需要说明的是，本专利技术的范围并不限于此处说明的实施方式，可以在不损害本专利技术的主旨的范围内进行各种变更。
[0026]＜化合物＞
[0027]本实施方式涉及的化合物是可用作色素的化合物，具有下述式(1)表示的结构。
[0028]R4‑
R3‑
Ar1‑
(
‑
R1‑
Ar2‑
)
n
‑
N＝N
‑
Ar3‑
R2ꢀꢀꢀ
(1)
[0029]式(1)中，n表示整数1或2，n优选为1。式(1)中的偶氮基的几何异构可以为顺式及反式中的任何，优选为反式。
[0030]式(1)中的Ar1、Ar2及Ar3相互独立地表示可具有取代基的1,4
‑
亚苯基或可具有取代基的2价的含硫芳香族杂环基。
[0031]作为Ar1、Ar2及Ar3中的取代基，可举出甲基、乙基及丁基等碳原子数为1至10的烷基；甲氧基、乙氧基及丁氧基等碳原子数为1至10的烷氧基；三氟甲基等碳原子数为1至10的氟代烷基；氰基；硝基；氯原子、氟原子等卤素原子；氨基、二乙基氨基及吡咯烷基等取代或未取代氨基。此处，所谓取代氨基，是指在氮原子上具有1个或2个碳原子数为1至10的烷基的氨基、或氮原子上的2个烷基彼此键合而形成了碳原子数为2至8的烷烃二基的氨基。另外，未取代氨基为
‑
NH2。需要说明的是，作为碳原子数为1至10的烷基，可举出甲基、乙基、己基等。作为碳原子数为2至8的烷烃二基，可举出亚乙基、丙烷
‑
1,3
‑
二基、丁烷
‑
1,3
‑
二基、丁烷
‑
1,4
‑
二基、戊烷
‑
1,5
‑
二基、己烷
‑
1,6
‑
二基、庚烷
‑
1,7
‑
二基、辛烷
‑
1,8
‑
二基等。
[0032]本实施方式涉及的化合物中，Ar1及Ar2中的至少一者具有氟原子作为取代基。Ar1及Ar2所具有的氟原子的总数优选为1个以上4个以下，更优选为1个或2个，进一步优选为1个。优选Ar1及Ar2中的任意一者具有氟原子作为取代基。Ar1及Ar2中的任意一者优选具有1个以上4个以下的氟原子，更优选具有1个或2个氟原子，进一步优选具有1个氟原子。
[0033]式(1)表示的化合物由于Ar1及Ar2中的至少一者具有氟原子作为取代基，因此能够显示出优异的紫外线耐久性。由此，在具备将式(1)表示的化合物作为形成材料而构成的膜的偏光板的制造工序中，即使采用紫外线曝光，也可抑制所制造的偏光板的特性降低，能够扩展制造工艺的选项。此处，色素化合物的紫外线耐久性可以利用例如由色素化合物形成的膜的紫外线照射前后的吸光度的维持率来进行评价。例如，3000mJ/cm2的UV照本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.下述式(1)表示的化合物，R4‑
R3‑
Ar1‑
(
‑
R1‑
Ar2‑
)
n
‑
N＝N
‑
Ar3‑
R2ꢀꢀ
(1)式(1)中，Ar1、Ar2及Ar3各自独立地表示可具有取代基的1,4
‑
亚苯基或可具有取代基的2价的含硫芳香族杂环基，Ar1及Ar2中的至少一者具有氟原子作为取代基；n表示整数1或2；R1表示单键、或选自由
‑
OC(＝O)
‑
、
‑
C(＝O)O
‑
、
‑
C≡C
‑
、
‑
CH＝CH
‑
、
‑
CH＝N
‑
及
‑
N＝CH
...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥京佑，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：