大理石花釉的烧成工艺制造技术

技术编号:32518276 阅读:18 留言:0更新日期:2022-03-02 11:17
本发明专利技术涉及大理石领域,具体是涉及大理石花釉的烧成工艺,烧成工艺通过烧成设备执行,烧成设备包括滚筒输送机和依次沿着滚筒输送机的输送方向设置的底釉喷涂装置、印花装置、保护釉喷涂装置和烧制窑,烧成工艺包括以下步骤:在日用瓷表面喷涂底釉;在日用瓷表面的底釉层印花;在日用瓷表面喷涂保护釉;烧制日用瓷得到釉面瓷。本申请通过印花装置对日用瓷的印花工作,保证日用瓷在印花时不会发生偏差,提高了釉面瓷烧制后的质量。提高了釉面瓷烧制后的质量。提高了釉面瓷烧制后的质量。

【技术实现步骤摘要】
大理石花釉的烧成工艺


[0001]本专利技术涉及大理石领域,具体是涉及大理石花釉的烧成工艺。

技术介绍

[0002]目前的大理石花釉烧成工艺,其流程是先将日用瓷的表面喷涂上底釉,再将日用瓷的表面进行印花,接着将日用瓷的表面喷涂上一层保护釉,最终通过烧制窑的烧制得到釉面瓷,目前在日用瓷印花方面,通过印花纸的铺设将印花纸上的花釉印在日用瓷表面的方式,这种方式需要通过辅助机构将印花纸上的花釉平刮在日用瓷的表面,才能使日用瓷的表面得到花釉。
[0003]在日用瓷印花时,很容易使日用瓷发生移动导致印花不完全出现偏差的现象,为了日用瓷表面的印花能够印出完整,需要对日用瓷进行定位,保证其不会发生移动,才能对日用瓷进行印花操作。
[0004]目前,需要一种能够辅助日用瓷印花保证釉面瓷完整烧成的装置。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题,提供大理石花釉的烧成工艺,本申请通过印花装置对日用瓷的印花工作,保证日用瓷在印花时不会发生偏差,提高了釉面瓷烧制后的质量。
[0006]为达到以上目的,本专利技术采用的技术方案为:本专利技术提供大理石花釉的烧成工艺,包括以下步骤:在日用瓷表面喷涂底釉;在日用瓷表面的底釉层印花;在日用瓷表面喷涂保护釉;烧制日用瓷得到釉面瓷,烧成工艺通过烧成设备执行;烧成设备包括滚筒输送机和依次沿着滚筒输送机的输送方向设置的底釉喷涂装置、印花装置、保护釉喷涂装置和烧制窑,印花装置所处滚筒输送机的位置设有双条带输送机,印花装置用以实现日用瓷的定位和印花,该印花装置包括设置在双条带输送机下方的底架和设置在底架上的定位机构以及设置在双条带输送机上方的花釉平铺机构和印花平刮机构,双条带输送机上还留有供定位机构定位日用瓷的空间。
[0007]优选地,定位机构包括抵挡件和夹紧件,抵挡件和夹紧件均设置在底架上,抵挡件位于底架靠近保护釉喷涂装置的一侧,夹紧件位于底架靠近底釉喷涂装置的一侧,并且抵挡件和夹紧件之间还留有能够对日用瓷定位的空隙。
[0008]优选地,抵挡件包括有一个挡板,底架上固定设有一个固定座,挡板能够垂直于双条带输送机的输送方向竖直移动的设置在固定座上,并且底架上还设有一个用以带动挡板竖直移动的第一直线驱动器,挡板面向夹紧件的一侧顶端还设有一个触点开关。
[0009]优选地,夹紧件包括有一个推板,底架上设有一个能够沿着双条带输送机的输送方向水平移动的活动座,推板能够在活动座上竖直移动,推板竖直移动的方向平行于挡板竖直移动的方向,并且底架上还设有能够带动活动座水平移动的第二直线驱动器,活动座上还设有能够带动推板竖直移动的第三直线驱动器。
[0010]优选地,花釉平铺机构包括有花釉浸泡池、卷收件和拉伸件,花釉浸泡池设置在底
架的一侧,卷收件设置在花釉浸泡池上,拉伸件设置在底架远离卷收件的一侧,卷收件上还设有印花纸,拉伸件上还设有拉布,印花纸和拉布之间还通过一个连接件连接,并且拉伸件通过拉布拉动印花纸的方向垂直于双条带输送机的方向。
[0011]优选地,花釉浸泡池呈矩形池体状,花釉浸泡池的内侧设有一个导锟,该导锟能够转动的设置在花釉浸泡池的中部,导锟的转动方向平行于拉伸件的拉伸方向,并且花釉浸泡池的顶端靠近拉伸件的一侧还设有一个刮刀。
[0012]优选地,卷收件包括有一个卷收桶,该卷收桶的内部结构为能够使印花纸回弹的结构,印花纸的一端固定缠绕在卷收桶内,印花纸的另一端向着拉布的方向伸出,并且印花纸还围绕在导锟上。
[0013]优选地,拉伸件包括有一个收卷锟,该收卷锟能够转动的设置在一个支撑架上,支撑架上还设有一个用以带动收卷锟转动的收卷电机,拉布的一端固定缠绕在收卷锟上,并且拉布的另一端向着印花纸的方向伸出。
[0014]优选地,连接件包括有一个固定夹板,该固定夹板固定设置在印花纸面向拉布的一端上,固定夹板上沿着其长度方向设有多个挂钩,并且拉布面向印花纸的端部还设有多个与每个挂钩对应连接的拉钩。
[0015]优选地,印花平刮机构包括有一个转杆和一个丝杆滑台,丝杆滑台设置在双条带输送机的顶部,转杆能够转动的设置在丝杆滑台上,丝杆滑台带动转杆的移动方向平行于收卷锟的转动方向,转杆的转动方向还平行于丝杆滑台的移动方向,并且丝杆滑台上还设有一个用以带动转杆转动的旋转电机,转杆的杆壁上还向外延伸设有一个刮板。
[0016]本申请与现有技术相比具有的有益效果是:1.本申请通过印花装置对日用瓷的印花工作,实现了日用瓷印花过程中的定位和完成日用瓷表面的印花,保证日用瓷在印花时不会发生偏差。
[0017]2.本申请通过抵挡件和夹紧件的配合,实现了日用瓷的夹紧定位,使得日用瓷在进行印花时不会发生偏差。
[0018]3.本申请通过挡板对日用瓷的抵挡,实现了日用瓷处于双条带输送机上时停止移动,使得日用瓷能够进行印花,并且通过挡板上触点开关的设置,使得日用瓷在触碰到挡板后,能够立即停止双条带输送机的驱动以及夹紧件的驱动,保证夹紧件能够将日用瓷夹紧在挡板上。
[0019]4.本申请通过第二直线驱动器和第三直线驱动器带动推板的活动,实现了推板对日用瓷的夹紧,保证日用瓷定位在推板和挡板之间。
[0020]5.本申请通过拉伸件和卷收件之间的配合,实现了印花纸沾染着花釉平铺在日用瓷表面的操作,保证印花平刮机构能够顺利将印花纸上的花釉印在日用瓷上。
[0021]6.本申请通过卷收桶的回弹结构,实现了印花纸能够自动回卷入卷收桶内的操作。
[0022]7.本申请通过收卷锟对拉布的收卷操作,实现了印花纸随着拉布被拉出。
[0023]8.本申请通过挂钩和拉钩之间的连接,实现了印花纸能够随着拉布一同活动。
[0024]9.本申请通过刮板顺着印花纸向着卷收件方向的平刮,实现了印花纸上的花釉能够印在日用瓷表面的同时也避免印花纸发生褶皱的情况。
附图说明
[0025]图1是一种实现本专利技术的工艺流程图;图2是一种实现本专利技术的立体结构示意图;图3是一种实现本专利技术的主视图;图4是印花装置和双条带输送机的立体结构示意图;图5是图4的俯视图;图6是图5的A

A处剖视图;图7是定位机构和双条带输送机的立体结构示意图;图8是定位机构的立体结构示意图;图9是定位机构的主视图;图10是花釉平铺机构的立体结构示意图;图11是图10的B处放大示意图。
[0026]图中标号为:1

滚筒输送机;1a

双条带输送机;2

底釉喷涂装置;3

印花装置;3a

底架;3b

定位机构;3b1

抵挡件;3b11

挡板;3b12

固定座;3b13

第一直线驱动器;3b14

触点开关;3b2

夹紧件;3b21

推板;3b22

活动座;3b23
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.大理石花釉的烧成工艺,包括以下步骤:在日用瓷(6)表面喷涂底釉;在日用瓷(6)表面的底釉层印花;在日用瓷(6)表面喷涂保护釉;烧制日用瓷(6)得到釉面瓷,烧成工艺通过烧成设备执行,其特征在于,烧成设备包括滚筒输送机(1)和依次沿着滚筒输送机(1)的输送方向设置的底釉喷涂装置(2)、印花装置(3)、保护釉喷涂装置(4)和烧制窑(5),印花装置(3)所处滚筒输送机(1)的位置设有双条带输送机(1a),印花装置(3)用以实现日用瓷(6)的定位和印花,该印花装置(3)包括设置在双条带输送机(1a)下方的底架(3a)和设置在底架(3a)上的定位机构(3b)以及设置在双条带输送机(1a)上方的花釉平铺机构(3c)和印花平刮机构(3d),双条带输送机(1a)上还留有供定位机构(3b)定位日用瓷(6)的空间。2.根据权利要求1所述的大理石花釉的烧成工艺,其特征在于,定位机构(3b)包括抵挡件(3b1)和夹紧件(3b2),抵挡件(3b1)和夹紧件(3b2)均设置在底架(3a)上,抵挡件(3b1)位于底架(3a)靠近保护釉喷涂装置(4)的一侧,夹紧件(3b2)位于底架(3a)靠近底釉喷涂装置(2)的一侧,并且抵挡件(3b1)和夹紧件(3b2)之间还留有能够对日用瓷(6)定位的空隙。3.根据权利要求2所述的大理石花釉的烧成工艺,其特征在于,抵挡件(3b1)包括有一个挡板(3b11),底架(3a)上固定设有一个固定座(3b12),挡板(3b11)能够垂直于双条带输送机(1a)的输送方向竖直移动的设置在固定座(3b12)上,并且底架(3a)上还设有一个用以带动挡板(3b11)竖直移动的第一直线驱动器(3b13),挡板(3b11)面向夹紧件(3b2)的一侧顶端还设有一个触点开关(3b14)。4.根据权利要求2所述的大理石花釉的烧成工艺,其特征在于,夹紧件(3b2)包括有一个推板(3b21),底架(3a)上设有一个能够沿着双条带输送机(1a)的输送方向水平移动的活动座(3b22),推板(3b21)能够在活动座(3b22)上竖直移动,推板(3b21)竖直移动的方向平行于挡板(3b11)竖直移动的方向,并且底架(3a)上还设有能够带动活动座(3b22)水平移动的第二直线驱动器(3b23),活动座(3b22)上还设有能够带动推板(3b21)竖直移动的第三直线驱动器(3b24)。5.根据权利要求1所述的大理石花釉的烧成工艺,其特征在于,花釉平铺机构(3c)包括有花釉浸泡池(3c1)、卷收件(3c2)和拉伸件(3c3),花釉浸泡池(3c1)设置在底架(3a)的一侧,卷收件(3c2)设置在花釉浸泡池(3c1)上,拉伸件(3c3)设置在底架(3...

【专利技术属性】
技术研发人员:危连进
申请(专利权)人:福建省德化县邦威陶瓷有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1