一种免抛釉料、陶瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种免抛釉料、陶瓷砖及其制备方法。所述免抛釉料以质量百分比，其化学组成包括：40％～49％的SiO2、14％～20％的Al2O3、3％～7％的MgO、4％～10％的CaO、1.2％～5.5％的Na2O、3％～5％的K2O、0.01％～0.3％的ZrO2、0.1％～1％的Fe2O3、2％～4％的ZnO、2.1％～4.3％的P2O，以及6％～10％的BaO。上述免抛釉料形成的釉面层平整，且莫氏硬度高、抗折强度大、吸水率低，具有优异的机械性能。同时，釉面层发色能力强，具有柔光光泽，无强烈反光，手感温和，给人柔和、安静、舒服的感受，还具有良好的防污、防滑性能，且生产成本低，易于制作。易于制作。

【技术实现步骤摘要】
一种免抛釉料、陶瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷
，尤其涉及一种免抛釉料、陶瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使陶瓷砖釉面层的粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。具体可以利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对陶瓷砖的釉面层进行修饰加工。基于陶瓷砖的抛光程度来定义，可以分为全抛釉和柔抛釉。其中，半抛釉是柔抛，表面哑光；全抛釉的抛光程度则更高，表面更光亮。
[0003]不论全抛釉还是柔抛釉，陶瓷砖经过抛光加工后，均不可避免地面临釉面层的减薄。与之相对的，免抛釉是指在釉面层形成后无需进行抛光加工。免抛釉可以保留较厚(技术指标为≥0.5mm)的釉面层，如此可以达到素静而不妖艳、光如蜡、微柔光的视觉效果，且手指触摸似羊脂，能够迎合了人们对于美观和舒适的追求。此外，全抛釉和柔抛釉由于经过了抛光处理，在拼装时难以达到好的花纹衔接效果，而免抛釉则可以避免这问题。
[0004]但是，免抛釉在当前的建筑陶瓷行业还是一种很难突破的课题。主要原因在于：(1)由于无抛光工序，釉面层通常不平整，有桔皮和细小针孔情况出现；(2)由于无传统全抛釉和柔抛釉中底釉和面釉的多层设置，机械性能不佳。

技术实现思路

[0005]基于此，本专利技术提供一种形成的釉面层平整，且机械性能好的免抛釉料，以及包含其的陶瓷砖及其制备方法。
[0006]本专利技术的第一方面，提供一种免抛釉料，以质量百分比计，其化学组成包括：
[0007]40％～49％的SiO2、14％～20％的Al2O3、3％～7％的MgO、4％～10％的CaO、1.2％～5.5％的Na2O、3％～5％的K2O、0.01％～0.3％的ZrO2、0.1％～1％的Fe2O3、2％～4％的ZnO、2.1％～4.3％的P2O，以及6％～10％的BaO。
[0008]在其中一个实施例中，以质量百分比计，所述免抛釉料的化学组成包括：
[0009]42％～48％的SiO2、15％～20％的Al2O3、4％～7％的MgO、5％～8％的CaO、1.4％～2.5％的Na2O、3.5％～4％的K2O、0.02％～0.1％的ZrO2、0.1％～0.2％的Fe2O3、2％～4％的ZnO、2.1％～3.5％的P2O，以及7％～9％的BaO。
[0010]在其中一个实施例中，以质量百分比计，所述免抛釉料的原料组分包括：
[0011]17％～28％的钾长石、20％～23％的钠长石、9％～14％的高岭土、6％～11％的滑石、12％～25％的方解石、3％～7％的硅灰石、2％～5％的氧化锌，以及6％～10％的碳酸钡。
[0012]在其中一个实施例中，以质量百分比计，所述免抛釉料的原料组分包括：
[0013]20％～26％的钾长石、20％～21％的钠长石、11％～13％的高岭土、9％～11％的滑石、15％～20％的方解石、5％～7％的硅灰石、2％～5％的氧化锌，以及6％～10％的碳酸钡。
[0014]本专利技术的第二方面，提供一种陶瓷砖，包括基体以及形成于所述基体表面的釉面层；所述釉面层的材料为第一方面所述的免抛釉料。
[0015]本专利技术的第三方面，提供一种陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
[0016]按照第一方面所述的免抛釉料的化学组成称取原料组分，与水混合，对所得混合物进行球磨处理，制备釉浆；
[0017]将所述釉浆进行陈腐处理；
[0018]将陈腐处理后的釉浆施加到坯体表面，烧成，制备所述陶瓷砖。
[0019]在其中一个实施例中，所述水的用量为所述原料组分总重量的40％～60％。
[0020]在其中一个实施例中，所述釉浆的细度满足325目筛余率为0.2％～0.6％。
[0021]在其中一个实施例中，陈腐处理的时间≥24h。
[0022]在其中一个实施例中，烧成的条件包括：温度为1150℃～1250℃，时间为40min～60min。
[0023]上述免抛釉料，通过合理配置化学组成，能够使制备得到的釉面层在无需抛光的情况下，保持表面的平整，无桔皮和细小针孔情况出现，且莫氏硬度高、抗折强度大、吸水率低，具有优异的机械性能。同时，釉面层还具有柔光光泽，无强烈反光，手感温和，给人柔和、安静、舒服的感受，还具有良好的防污、防滑性能，且生产成本低，易于制作，无需进行抛光处理，在拼装时能够达到好的花纹衔接效果。
[0024]另外，在研究过程中还发现，上述免抛釉料还具有优异的发色能力。
附图说明
[0025]图1为实施例1制备得到的免抛釉陶瓷砖；
[0026]图2为对比例1制备得到的柔抛釉陶瓷砖。
具体实施方式
[0027]以下结合具体实施例对本专利技术的免抛釉料、陶瓷砖及其制备方法作进一步详细的说明。本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术公开内容理解更加透彻全面。
[0028]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。
[0029]本文所使用的术语“及/或”的可选范围包括两个或两个以上相关所列项目中任一个项目，也包括相关所列项目的任意的和所有的组合，所述任意的和所有的组合包括任意的两个相关所列项目、任意的更多个相关所列项目、或者全部相关所列项目的组合。
[0030]本专利技术中，“第一方面”、“第二方面”、“第三方面”等仅用于描述目的，不能理解为指示或暗示相对重要性或数量，也不能理解为隐含指明所指示的技术特征的重要性或数量。而且“第一”、“第二”、“第三”等仅起到非穷举式的列举描述目的，应当理解并不构成对数量的封闭式限定。
[0031]本专利技术中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
[0032]本专利技术中，涉及到数值区间，如无特别说明，上述数值区间内视为连续，且包括该范围的最小值及最大值，以及这种最小值与最大值之间的每一个值。进一步地，当范围是指整数时，包括该范围的最小值与最大值之间的每一个整数。此外，当提供多个范围描述特征或特性时，可以合并该范围。换言之，除非另有指明，否则本文中所公开之所有范围应理解为包括其中所归入的任何及所有的子范围。
[0033]本专利技术中涉及的百分比含量，如无特别说明，对于固液混合和固相
‑
固相混合均指质量百分比，对于液相
‑
液相混合指体积百分比。
[0034]本专利技术中涉及的百分比浓度，如无特别说明，均指终浓度。所述终浓度，指添加成分在添加该成分后的体系中的占比。
[0035]本专利技术中的温度参数，如无特别限定，既允许为恒温处理，也允许在一定温度区间内进行处理。所述的恒温处理允许温度在仪器控制的精度范围内进行波动。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种免抛釉料，其特征在于，以质量百分比计，其化学组成包括：40％～49％的SiO2、14％～20％的Al2O3、3％～7％的MgO、4％～10％的CaO、1.2％～5.5％的Na2O、3％～5％的K2O、0.01％～0.3％的ZrO2、0.1％～1％的Fe2O3、2％～4％的ZnO、2.1％～4.3％的P2O，以及6％～10％的BaO。2.根据权利要求1所述的免抛釉料，其特征在于，以质量百分比计，其化学组成包括：42％～48％的SiO2、15％～20％的Al2O3、4％～7％的MgO、5％～8％的CaO、1.4％～2.5％的Na2O、3.5％～4％的K2O、0.02％～0.1％的ZrO2、0.1％～0.2％的Fe2O3、2％～4％的ZnO、2.1％～3.5％的P2O，以及7％～9％的BaO。3.根据权利要求1或2所述的免抛釉料，其特征在于，以质量百分比计，其原料组分包括：17％～28％的钾长石、20％～23％的钠长石、9％～14％的高岭土、6％～11％的滑石、12％～25％的方解石、3％～7％的硅灰石、2％～5％的氧化锌，以及6％～10％的碳酸钡。4.根据权利要求3所述的免抛釉料，其特征在于，以质...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐童，王秀芬，方禅旭，苏启港，田冲，单红丽，郭向召，洪涛，李仁敏，朱少强，梁平英，戴志梅，谢石长，黄诗程，李辉，黄春林，简润桐，叶德林，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司广东萨米特陶瓷有限公司江西新明珠建材有限公司湖北新明珠绿色建材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：