【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种在制造半导体产品等的清洁室中所使用的清洁室用抹布,具体涉及一种在擦拭部边缘的缝合部形成有由文字、数字及其他符号等构成的识别突起的清洁室用抹布。
技术介绍
一般,需要保持清洁和无菌状态的清洁室广泛应用于电子产业、及食品、医药产业等的多个领域,尤其是在进行半导体及TFT LCD等制造工序的清洁室中,用于清洁晶片(wafer)、设备及仪器等的清洁室用抹布,通常采用对灰尘或水分的吸附能力强且在使用过程中能够抑制灰尘等的纤维材料来制成。上述清洁室用抹布主要分为将一定宽度的抹布卷成圆形的卷筒(roll)形抹布,和长方形的擦式抹布,而本专利技术所涉及的是长方形擦式抹布。在制作上述擦式抹布时,通常,将宽度较宽且长度较长的抹布面料以一定宽度进行切割,然后再以一定长度将以一定宽度进行加工的抹布面料切割成长方形。在向宽度方向和长度方向进行切割的过程中,在边缘形成缝合部,以防止因线条儿被解开而产生异物。但是,由于公知的清洁室用抹布在其外轮廓或其内侧的擦拭部上都没有标明型号或制造商的商号,因此不能进行产品宣传,而且不能表现其他必要的产品信息。
技术实现思路
本专利技术是为了解决在公知技术中所存在的问题之而提出的,其目的在于,提供一种清洁室用抹布,它不仅能够利用型号或制造商的商号等产品信息来进行宣传,而且也能够给使用者带来方便。为了实现上述目的,本专利技术具有如下特征,在擦拭部的边缘的缝合部形成识别突起。进一步,该识别突起可以由文字、数字或图形以及其他符号组成。附图说明图1为本专利技术的一个实施例的主视图;图2为上述实施例的主要部分纵剖面图;图3为制作上述实施例的缝合模具的 ...
【技术保护点】
一种清洁室用抹布,其特征在于,在长方形的擦拭部(11)的边缘设有具有一宽度的缝合部(12),而且在上述缝合部(12)上形成有识别突起(13)。
【技术特征摘要】
1.一种清洁室用抹布,其特征在于,在长方形的擦拭部(11)的边缘设有具有一宽度的缝合部(12),而且在上述缝合部(1...
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