单元像素及显示装置制造方法及图纸

提供了一种单元像素及显示装置。根据一实施例的单元像素包括：透明基板；第一光阻断层，布置于所述透明基板上，并具有使光透射的窗；粘合层，覆盖所述第一光阻断层；多个发光元件，以整齐排列于所述窗的方式布置于所述粘合层上；以及第二光阻断层，覆盖所述发光元件的侧表面。表面。表面。

【技术实现步骤摘要】
单元像素及显示装置


[0001]示例性的实施例涉及一种具有发光元件的单元像素、该单元像素的制造方法及具有该单元像素的显示装置。

技术介绍

[0002]发光元件是利用作为无机光源的发光二极管的半导体元件，正广泛应用于诸如显示装置、车辆用灯具、一般照明之类的多种领域。发光二极管具有寿命长、耗电低、响应速度快的优点，因此正迅速代替现有光源。
[0003]另外，现有的发光二极管在显示装置中主要用作背光光源，最近正在开发利用发光二极管来直接实现图像的显示装置。这种显示器也被称为微型LED显示器。
[0004]显示装置通常利用蓝色、绿色及红色的混合色来实现多样的颜色。显示装置包括多个像素以实现多样的图像，各个像素配备蓝色子像素、绿色子像素及红色子像素。通过这些子像素的颜色来确定特定像素的颜色，并且借由这些像素的组合来实现图像。
[0005]在微型LED显示器的情况下，微型LED与各个子像素对应地排列在二维平面上，据此，需要在一个基板上布置大量的微型LED。然而，微型LED的尺寸非常小，例如200um以下，进而100um以下，非常小，因这种较小尺寸而发生多样的问题。尤其，难以处理较小尺寸的发光二极管，因此不容易在显示器用面板上直接贴装发光二极管。
[0006]另外，相邻的子像素之间的光干涉使得难以实现高颜色再现性及高对比度。

技术实现思路

[0007]示例性的实施例的目的在于提供一种适合贴装于电路基板的单元像素及具有该单元像素的显示装置。
[0008]示例性的实施例的目的在于提供一种可通过防止光干涉来实现高颜色再现性的单元像素及具有该单元像素的显示装置。
[0009]示例性的实施例提供一种单元像素，该单元像素包括：透明基板；第一光阻断层，布置于所述透明基板上，并具有使光透射的窗；粘合层，覆盖所述第一光阻断层；多个发光元件，以整齐排列于所述窗的方式布置于所述粘合层上；以及第二光阻断层，覆盖所述发光元件的侧表面。
[0010]所述第一光阻断层及所述第二光阻断层可以分别由光吸收物质构成。
[0011]所述发光元件的宽度可以具有小于各自所对应的窗的宽度的大小，所述第二光阻断层可以覆盖在所述发光元件与对应的窗周围的第一光阻断层之间形成的间隙。
[0012]在一实施例中，所述第二光阻断层可以被彼此分离而覆盖对应的发光元件。
[0013]在另一实施例中，所述第二光阻断层可以连续地覆盖所述发光元件。
[0014]所述第二光阻断层可以在所述发光元件周围覆盖所述粘合层。
[0015]所述单元像素还可以包括：阶梯差调节层，覆盖所述第二光阻断层，其中，所述第二光阻断层及所述阶梯差调节层可以具有暴露所述发光元件的开口部。
[0016]在一实施例中，所述阶梯差调节层可以由聚酰亚胺形成。
[0017]在一实施例中，所述阶梯差调节层可以在所述第二光阻断层周围与所述粘合层接触。
[0018]在另一实施例中，所述阶梯差调节层可以借由所述第二光阻断层而与所述粘合层隔开。
[0019]所述单元像素还可以包括：连接层，通过所述第二光阻断层及所述阶梯差调节层的开口部而电连接于所述发光元件；以及绝缘物质层，覆盖所述连接层，其中，所述绝缘物质层可以具有暴露所述连接层的开口部。
[0020]所述阶梯差调节层及所述绝缘物质层可以具有以相对于粘合层的上表面具有小于90度的倾斜角的方式倾斜的侧表面。
[0021]示例性的实施例提供一种单元像素的制造方法，该方法包括如下步骤：准备透明基板；在所述透明基板上形成具有多个窗的第一光阻断层；形成覆盖所述第一光阻断层的粘合层；在所述粘合层上以对应于所述窗的方式安装发光元件；形成覆盖所述发光元件的侧表面的第二光阻断层。
[0022]示例性的实施例提供一种显示装置，该显示装置包括：电路基板；以及多个单元像素，安装于所述电路基板上，其中，所述多个单元像素中的每一个包括：透明基板；第一光阻断层，布置于所述透明基板上，并具有使光透射的窗；粘合层，覆盖所述第一光阻断层；多个发光元件，以整齐排列于所述窗的方式布置于所述粘合层上；以及第二光阻断层，覆盖所述发光元件的侧表面。
[0023]所述第一光阻断层及所述第二光阻断层可以由光吸收物质构成。
[0024]根据本技术的示例性的实施例，能够提供一种适合贴装于电路基板的单元像素及具有该单元像素的显示装置。
[0025]根据本技术的示例性的实施例，能够提供一种通过防止光干涉来实现高颜色再现性的单元像素及具有该单元像素的显示装置。
附图说明
[0026]图1是用于说明根据一实施例的显示装置的示意性的平面图。
[0027]图2A是用于说明根据一实施例的发光元件的示意性的平面图。
[0028]图2B是沿图2A的剖切线A
‑
A'剖切的示意性的剖面图。
[0029]图3A是用于说明根据一实施例的单元像素的示意性的平面图。
[0030]图3B是沿图3A的剖切线B
‑
B'剖切的示意性的剖面图。
[0031]图3C是图3B的局部剖面图。
[0032]图4A是用于说明根据一实施例的像素模块的示意性的平面图。
[0033]图4B是沿图4A的剖切线C
‑
C'剖切的示意性的剖面图。
[0034]图5是用于说明根据一实施例的单元像素的示意性的剖面图。
[0035]图6是用于说明根据一实施例的单元像素的示意性的剖面图。
[0036]图7A至图7F是用于说明根据一实施例的单元像素的制造方法的示意性的剖面图。
[0037]图8是用于说明根据又一实施例的单元像素的示意性的剖面图。
具体实施方式
[0038]以下，参照附图详细说明本技术的实施例。以下介绍的实施例是为了将本技术的思想充分传递给本技术所属
的普通技术人员而作为示例提供的。因此，本技术并不限于以下说明的实施例，其也可以具体化为其他形态。并且，在附图中，为了方便起见，构成要素的宽度、长度、厚度等可能被夸大表示。并且，在记载为一个构成要素位于另一构成要素的“上部”或“之上”的情况下，不仅包括各个部分位于另一部分的“紧邻的上部”或“之上”的情况，还包括在各个结构要素与另一结构要素之间夹设有其他构成要素的情况。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的构成要素。
[0039]根据示例性的实施例的单元像素包括：透明基板；第一光阻断层，布置于所述透明基板上，并具有使光透射的窗；粘合层，覆盖所述第一光阻断层；多个发光元件，以整齐排列于所述窗的方式布置于所述粘合层上；以及第二光阻断层，覆盖所述发光元件的侧表面。
[0040]所述第二光阻断层可以通过覆盖所述发光元件的侧表面来防止发光元件之间的光干涉。
[0041]所述第一光阻断层及所述第二光阻断层可以分别由光吸收物质构成。
[0042]所述发光元件的宽度具有小于各自所对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单元像素，其特征在于，包括：透明基板；第一光阻断层，布置于所述透明基板上，并具有使光透射的窗；粘合层，覆盖所述第一光阻断层；多个发光元件，以整齐排列于所述窗的方式布置于所述粘合层上；以及第二光阻断层，覆盖所述发光元件的侧表面。2.根据权利要求1所述的单元像素，其特征在于，所述第一光阻断层及所述第二光阻断层分别由光吸收物质构成。3.根据权利要求1所述的单元像素，其特征在于，所述发光元件的宽度具有小于各自所对应的窗的宽度的大小，所述第二光阻断层覆盖在所述发光元件与对应的窗周围的第一光阻断层之间形成的间隙。4.根据权利要求3所述的单元像素，其特征在于，所述第二光阻断层被彼此分离而覆盖对应的发光元件。5.根据权利要求3所述的单元像素，其特征在于，所述第二光阻断层连续地覆盖所述发光元件。6.根据权利要求3所述的单元像素，其特征在于，所述第二光阻断层在所述发光元件周围覆盖所述粘合层。7.根据权利要求1所述的单元像素，其特征在于，还包括：阶梯差调节层，覆盖所述第二光阻断层，其中，所述第二光阻断层及所述阶梯差调节层具有暴露所述发光元件的开口部。8.根据权利要求7所述的单元像素，其特征在于，所述阶梯差调节层由聚酰亚胺形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：车南煹，
申请(专利权)人：首尔伟傲世有限公司，
类型：新型
国别省市：