本发明专利技术涉及化工技术领域，公开了一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，包括具有清洗作用的除垢机构和将污垢进行过滤的过滤机构，所述除垢机构包括转盘，转盘的外侧通过转轴活动连接有支撑板，支撑板的内壁固定连接有缓冲板，支撑板的外表面且位于转盘的下方固定连接有支撑槽板，支撑槽板的底端活动连接有过滤机构，除垢过程中使齿带自动的循环接触于反应釜壳体的内壁，可以减小除垢机构在除垢过程中对反应釜壳体内壁产生的刚性冲击，避免折损反应釜壳体的使用寿命，齿带贴合于反应釜壳体的内壁时以旋转的方式将反应釜壳体内壁的污垢进行剥离，加速了污垢的剥离速度，提高了反应釜壳体内壁化学反应沉淀物的去除效果。除效果。除效果。
【技术实现步骤摘要】
一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置
[0001]本专利技术涉及化工
，具体为一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置。
技术介绍
[0002]化工反应釜在经过长时间使用后，其内壁会结垢严重，导致设备传热效率低且传热不均匀，不仅浪费燃料，而且由于受热不均容易发生爆炸等情况，所以需要加入除垢清洗液进行除垢清洗。
[0003]现有的反应釜内壁机械处理污垢的方法是采用高压水流通过喷头冲刷，将反应釜内壁的坚硬污垢击碎剥离并清除掉，这种除垢方法过程较慢且可能会存在残留，还会浪费大量的水资源，然而，从反应釜内壁剥离下来的污垢体积大小不一，不易从反应釜的排液口顺利流出，甚至会出现堵塞排液口的现象，增加了反应釜的除垢难度。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，具备将反应釜内壁全方位机械清洗的效果，提高了反应釜内壁污垢的清洗效率，解决了使用大量高压水清洗而浪费水资源的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，包括具有清洗作用的除垢机构和将污垢进行过滤的过滤机构，所述除垢机构包括转盘，转盘的外侧通过转轴活动连接有支撑板，支撑板的内壁固定连接有缓冲板，支撑板的外表面且位于转盘的下方固定连接有支撑槽板，支撑槽板的底端活动连接有过滤机构，除垢机构的外表面且位于过滤机构的外侧活动连接有反应容器，支撑板的两端位置用以手持或者与升降机械连接，便于将反应釜壳体的内壁污垢进行剥离。
[0008]进一步的，所述支撑槽板的外表面且位于转盘的下方固定连接有限位板，限位板的外表面固定连接有支架，支架的外表面通过转轴活动连接有转轮，转轮的外表面转轴且位于转盘的外表面转轴上活动套接有第一皮带，转盘的直径大于转轮的直径，转盘的外表面转轴活动连接有驱动马达且外接电源，驱动马达带动转盘旋转并通过第一皮带带动转轮转动。
[0009]进一步的，所述转盘的外表面活动连接有第一连杆，第一连杆的一端活动连接有第二连杆，第二连杆的底端且贯穿于限位板的内部活动连接有第三连杆，第三连杆的两侧均活动连接有第四连杆，第四连杆的一端且位于限位板的外表面活动连接有第五连杆，第五连杆的一端且位于第四连杆的顶端位置通过转轴活动连接有转轴，转轴的外表面活动套接有齿带，转轴的外表面转轴且位于转轮的外表面转轴上活动套接有第二皮带，转轮通过第二皮带带动转轴和齿带发生旋转达到清洁反应釜壳体内壁的效果。
[0010]进一步的，所述过滤机构包括网槽板，支撑槽板的底端固定连接有支撑弹簧，支撑弹簧的底端固定连接有网槽板，网槽板的内壁且位于支撑槽板的两侧固定连接有第一滑槽，第一滑槽的外表面且位于支撑槽板的下方固定连接有卡块，卡块的一端且贯穿于第一滑槽的内部滑动连接有滑块，滑块的外表面活动连接有移动杆，第一滑槽的外表面一侧固定连接有与之垂直的第二滑槽，第二滑槽的内部滑动连接有清理杆，反应釜壳体内壁的污垢掉落至网槽板的内部进行收集，防止污垢直接排出而堵塞排液口。
[0011]进一步的，所述滑块的底端且位于第一滑槽的内壁固定连接有弹簧，清理杆为弧形结构，清理杆的外表面且位于第二滑槽的内部固定连接有弹簧，清理杆在网槽板的内部摆动可以将网槽板网孔内的污垢进行移动疏通，防止将网槽板的网孔堵塞。
[0012]进一步的，所述反应容器包括反应釜壳体，除垢机构和过滤机构的外表面活动放置有反应釜壳体，反应釜壳体的底端固定连接有底座，反应釜壳体的底端且位于底座的内侧开设有排液口，反应釜壳体的内壁通过清洗后污水沿排液口向外排出。
[0013](三)有益效果
[0014]与现有技术相比，本专利技术提供了一种饲料加工用磁选机防止磁块脱落的自动检测装置，具备以下有益效果：
[0015]1、该用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，除垢机构在运行的过程中可以灵活的改变体积，便于除垢之前除垢机构可以顺利的放置于反应釜壳体的内部，除垢过程中使齿带自动的循环接触于反应釜壳体的内壁，可以减小除垢机构在除垢过程中对反应釜壳体内壁产生的刚性冲击，避免折损反应釜壳体的使用寿命，齿带贴合于反应釜壳体的内壁时以旋转的方式将反应釜壳体内壁的污垢进行剥离，加速了污垢的剥离速度，提高了反应釜壳体内壁化学反应沉淀物的去除效果。
[0016]2、该用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，随着除垢机构的进行使得支撑槽板的高度会随着反应釜壳体内壁的除垢位置而进行上下移动，从而使过滤机构进行污垢的过滤和收集，过滤机构中的清理杆的底端在网槽板的内壁不断的推移，可以将网槽板网孔内部落下的污垢向一侧进行推移，不仅可以防止网槽板的网孔堵塞，而且可以增加网槽板内部的污垢收集量，集中收集的污垢方便后续的加工处理，并且避免因污垢将排液口堵塞而增大除垢难度。
附图说明
[0017]图1为本专利技术反应容器结构示意图。
[0018]图2为本专利技术除垢机构结构示意图。
[0019]图3为本专利技术转轮结构示意图。
[0020]图4为本专利技术过滤机构结构示意图。
[0021]图5为本专利技术清理杆结构示意图。
[0022]图中：1、除垢机构；2、过滤机构；3、支撑板；4、反应容器；5、缓冲板；6、转盘；7、第一连杆；8、第二连杆；9、第一皮带；10、支撑槽板；11、限位板；12、支架；13、转轮；14、第二皮带；15、第三连杆；16、第四连杆；17、第五连杆；18、转轴；19、齿带；20、支撑弹簧；21、网槽板；22、第一滑槽；23、滑块；24、弹簧；25、卡块；26、移动杆；27、第二滑槽；28、清理杆；29、反应釜壳体；30、底座；31、排液口。
具体实施方式
[0023]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0024]实施例一：
[0025]请参阅图1
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5，一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，包括具有清洗作用的除垢机构1和将污垢进行过滤的过滤机构2，除垢机构1包括转盘6，转盘6的外侧通过转轴活动连接有支撑板3，支撑板3的内壁固定连接有缓冲板5，支撑板3的外表面且位于转盘6的下方固定连接有支撑槽板10，支撑槽板10的底端活动连接有过滤机构2，除垢机构1的外表面且位于过滤机构2的外侧活动连接有反应容器4，支撑板3的两端位置用以手持或者与升降机械连接，便于将反应釜壳体29的内壁污垢进行剥离。
[0026]进一步的，支撑槽板10的外表面且位于转盘6的下方固定连接有限位板11，限位板11的外表面固定连接有支架12，支架12的外表面通过转轴活动连接有转轮13，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，包括具有清洗作用的除垢机构(1)和将污垢进行过滤的过滤机构(2)，其特征在于：所述除垢机构(1)包括转盘(6)，转盘(6)的外侧通过转轴活动连接有支撑板(3)，支撑板(3)的内壁固定连接有缓冲板(5)，支撑板(3)的外表面且位于转盘(6)的下方固定连接有支撑槽板(10)，支撑槽板(10)的底端活动连接有过滤机构(2)，除垢机构(1)的外表面且位于过滤机构(2)的外侧活动连接有反应容器(4)。2.根据权利要求1所述的一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，其特征在于：所述支撑槽板(10)的外表面且位于转盘(6)的下方固定连接有限位板(11)，限位板(11)的外表面固定连接有支架(12)，支架(12)的外表面通过转轴活动连接有转轮(13)，转轮(13)的外表面转轴且位于转盘(6)的外表面转轴上活动套接有第一皮带(9)，转盘(6)的直径大于转轮(13)的直径。3.根据权利要求1或2所述的一种用于反应釜内壁化学反应沉淀物的全方位去除装置，其特征在于：所述转盘(6)的外表面活动连接有第一连杆(7)，第一连杆(7)的一端活动连接有第二连杆(8)，第二连杆(8)的底端且贯穿于限位板(11)的内部活动连接有第三连杆(15)，第三连杆(15)的两侧均活动连接有第四连杆(16)，第四连杆(16)的一端且位于限位板(11)的外表面活动连接有第五连杆(17)，第五连杆(17)的一端且位于第四连杆(16)的顶端位置通过转轴活动连接有转轴(18)，转轴...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴海裕，
申请(专利权)人：宁波伟裕工贸有限公司，
类型：发明
国别省市：
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