一种光学镜片反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种一种光学镜片反射膜，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF3膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF3膜层和第五层ZnS膜层，其中第一层Ag膜层的厚度(h1)为190

【技术实现步骤摘要】
一种光学镜片反射膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及镜片领域，具体涉及一种光学镜片反射膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]眼睛作为人体的视器，长期与外界环境接触，十分脆弱，容易受到外界因素的刺激，其中外界光线强度为主要影响因素。因为强光会刺激双眼，引起眼睛干涩，眼睛流泪等不适症状，从而进一步加重视疲劳，导致视力下降，严重情况下可致白内障。为此市场上出现了针对强光刺激眼睛的墨镜、半墨镜，如太阳眼镜等，但是这类眼镜大都是采用偏振光技术制成的镜片，只能减少漫反射光线的照射而无法真正降低入射光线的强度。

技术实现思路

[0003]为克服上述缺点，本专利技术的目的在于提供一种光学镜片反射膜及其制备方法。经研究发现通过本专利技术提供的制备方法制得的反射膜具有良好的反射率。
[0004]为了达到以上目的，本专利技术采用的技术方案是：一种光学镜片反射膜，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF3膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF3膜层和第五层ZnS膜层。
[0005]优选地，第一层Ag膜层的厚度(h1)为190
‑
210nm，第二层YF3膜层的厚度(h2)为685
‑
715nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为140
‑
160nm，第四层YF3膜层的厚度(h4)为580
‑
610nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为780
‑
815nm。
[0006]优选地，第一层Ag膜层的厚度(h1)为200nm，第二层YF3膜层的厚度(h2)为700nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为150nm，第四层YF3膜层的厚度(h4)为600nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为800nm。
[0007]优选地，所述镜片基材为热塑性聚酯、玻璃、石英或蓝宝石。
[0008]一种光学镜片反射膜的制备方法，包括以下步骤，
[0009]S1、通过薄膜光学的基本知识和分析方法，结合软件进行优化，使光学镜片的反射膜的平均反射率大于95％，模拟计算得到第一层Ag膜层的厚度(h1)、第二层YF3膜层的厚度(h2)、第三层ZnS膜层的厚度(h3)、第四层YF3膜层的厚度(h4)、第五层ZnS膜层的厚度(h5)；
[0010]S2、对镜片基材进行清洗、干燥；
[0011]S3、采用真空蒸镀的方法对镜片基材镀反射膜。
[0012]优选地，步骤S3镀反射膜的具体步骤如下：
[0013]S31、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
×
10
‑
3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为220
‑
240℃，采用霍尔离子源轰击银，银蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面形成第一膜层，第一膜层的厚度为190
‑
210nm；
[0014]S32、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
×
10
‑
3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50
‑
70℃，采用霍尔离子源轰击YF3，YF3蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面形成第二膜层，第二膜层的厚度为685
‑
715nm；
[0015]S33、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
×
10
‑
3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50
‑
70℃，采用霍尔离子源轰击ZnS，ZnS蒸发后以纳米级分子形式沉积于第二膜层的外表面形成第三膜层，第三膜层的厚度为140
‑
160nm；
[0016]S34、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
×
10
‑
3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50
‑
70℃，采用霍尔离子源轰击YF3，YF3蒸发后以纳米级分子形式沉积于第三膜层的外表面形成第四膜层，第四膜层的厚度为580
‑
610nm；
[0017]S35、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
×
10
‑
3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50
‑
70℃，采用霍尔离子源轰击ZnS，ZnS蒸发后以纳米级分子形式沉积于第四膜层的外表面形成第五膜层，第五膜层的厚度为780
‑
815nm。
[0018]优选地，所述步骤S2，对镜片基材的清洗具体步骤如下：
[0019]S21、将镜片基体先放入双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25
‑
30min；
[0020]S22、将镜片基体放入异丙醇溶剂中超声25
‑
30min；
[0021]S23、用去离子水和蒸馏水漂洗；
[0022]S24、清洗结束后将镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。
[0023]优选地，利用膜厚仪监控薄膜的厚度。
[0024]本专利技术的有益效果是：本专利技术在基片上真空蒸镀的反射膜，具有优异的高反射性能，能把大部分光波反射回去，从而防止强光对人眼造成伤害。
附图说明
[0025]图1为本专利技术反射镜整体曲线；
[0026]图2为市场上常见反射镜整体曲线。
具体实施方式
[0027]下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0028]实施例1
[0029]本专利技术的一种光学镜片反射膜，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF3膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF3膜层和第五层ZnS膜层，其中第一层Ag膜层的厚度(h1)为200nm，第二层YF3膜层的厚度(h2)为700nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为150nm，第四层YF3膜层的厚度(h4)为600nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为800nm。所述镜片基材为热塑性聚酯、玻璃、石英或蓝宝石。
[0030]本专利技术的一种光学镜片反射膜的制备方法，包括以下步骤，
[0031]S1、通过薄膜光学的基本知识和分析方法，结合软件进行优化，使光学镜片的反射膜的平均反射率大于95％，模拟计算得到第一层Ag膜层的厚度(h1)、第二层YF3膜层的厚度(h2)、第三层ZnS膜层的厚度(h3)、第四层YF3膜层的厚度(h4)、第五层ZnS膜层的厚度(h5)。
[0032]S2、对镜片基材进行清洗、干燥；
[0033]S21、将镜片基体先放入双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25
‑
30min；
[0034]S22、将镜片基体放入异丙醇溶剂中超声25
‑
30min；
[0035]S23、用去离子水和蒸馏水本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学镜片反射膜，其特征在于，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF3膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF3膜层和第五层ZnS膜层。2.根据权利要求1所述的一种光学镜片反射膜，其特征在于，第一层Ag膜层的厚度(h1)为190
‑
210nm，第二层YF3膜层的厚度(h2)为685
‑
715nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为140
‑
160nm，第四层YF3膜层的厚度(h4)为580
‑
610nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为780
‑
815nm。3.根据权利要求2所述的一种光学镜片反射膜，其特征在于，第一层Ag膜层的厚度(h1)为200nm，第二层YF3膜层的厚度(h2)为700nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为150nm，第四层YF3膜层的厚度(h4)为600nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为800nm。4.根据权利要求3所述的一种光学镜片反射膜，其特征在于，所述镜片基材为热塑性聚酯、玻璃、石英或蓝宝石。5.一种光学镜片反射膜的制备方法，包括以下步骤，S1、通过薄膜光学的基本知识和分析方法，结合软件进行优化，模拟计算得到第一层Ag膜层的厚度(h1)、第二层YF3膜层的厚度(h2)、第三层ZnS膜层的厚度(h3)、第四层YF3膜层的厚度(h4)、第五层ZnS膜层的厚度(h5)；S2、对镜片基材进行清洗、干燥；S3、采用真空蒸镀的方法对镜片基材镀反射膜。6.根据权利要求5所述的一种光学镜片反射膜的制备方法，其特征在于，步骤S3镀反射膜的具体步骤如下：S31、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
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3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为220
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240℃，采用霍尔离子源轰击银，银蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面形成第一膜层，第一膜层的厚度为190
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210nm；S32、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0
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【专利技术属性】
技术研发人员：丁磊，
申请(专利权)人：苏州镭云海创光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：