薄膜的间歇涂装方法技术

本发明专利技术提供一种薄膜的间歇涂装方法，其将向一个方向行走的带状基材（１）卷绕并保持在位置固定的基准辊（４）和可移动的作动辊（７）上，并在此状态下，使之与在外周面附载着涂布剂（１８）且沿与基材（１）的行走方向相反的方向旋转的涂布辊（１９）接触，使作动辊（７）在预定的时机于接触或离开基材（１）的方向移动，同时为了使施加到基材（１）上的张力经常保持恒定，张力辊（８）被控制为在相对于基材（１）接触或离开的方向上移动，以追踪作动辊（７）在相对于基材（１）接触或离开的方向上的移动，由此能够以高的生产效率间歇地涂覆形成膜厚为２０μｍ以下的极薄薄膜，而且能够使涂布终端形成为具有优良直线性的高精度的形状。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】薄膜的间歇涂装方法
本专利技术涉及一种能够适宜应用于如下用途的薄膜的间歇涂装方法，即在长尺寸薄片状基材的表面，以交替且间歇地存在着涂覆形成区间和非涂覆形成区间的预定图案来涂覆形成薄膜。
技术介绍
近年来，在制造半导体装置和电容器等电子部件时，在带状基材的表面布图并涂覆涂料等以形成薄膜的研究正方兴未艾。例如，对于电池用极板，人们提出了如下的方案，即在成为基材的集电体的表面形成活性物质层，之后以覆盖上述活性物质层的状态形成厚度为0.1μm～200μm的多孔性保护膜，或者由含有树脂粘结剂和氧化铝粉末等固体微粒的涂膜构成的多孔性保护膜(例如参照专利文献1)。上述多孔性保护膜被间歇地涂覆以使布图并涂覆过的活性物质层得以覆盖，而对于以这样的方式有效地进行在基材上间歇地涂覆涂料等的工序从而进行批量生产的情况，一般采用如下的工序，即一边以预定的速度使长尺寸薄片状基材行走，一边在该基材上间歇地涂覆涂料等(例如参照专利文献2)。该间歇涂装方法是：通过调节器使旋转的涂布辊附载预定量的料浆状的涂料，将长尺寸状的基材夹入该涂布辊和与之相向配置的承压滚筒之间并使其沿承压滚筒行走，同时将涂布辊上的涂料层转印并涂布在基材上，并且每隔预定的时间，让承压滚筒的旋转轴向垂直于其轴心的方向平行移动而使基材离开涂布辊预定的时间，由此使得基材上形成没有涂布涂料的非涂覆形成区间。另外，作为其它的间歇涂装手段，以前也采用模涂涂装方式。该模涂涂装方法以如下的方式进行控制：通过向涂料施加压力而将从模中喷出的涂料涂覆在基材上，而且在预定的时机中断向涂料施加的压-->力，同时稍稍地对涂料进行减压，由此切实地停止涂料从模中的喷出，从而以间歇的配置涂覆形成由涂料得到的薄膜。然而，上述各间歇涂装方法均适用于有效地涂覆形成20μm以上的具有较大膜厚的薄膜，但在其构造上，不能适用于像电池用极板那样需形成膜厚为20μm以下的多孔性保护膜的用途。对此，作为可以涂布20μm以下的薄膜的技术，存在照像凹版涂装方法，其能够在薄的基材上以极高的精度、且切实地以均匀的膜厚在整个面上涂布涂布剂(例如参照专利文献3)。上述照像凹版涂装方法如图9所示，将带状基材40张开架设并支持在平行且相向配置的一对旋转自如的姿势控制辊41、42之间，在此状态下使基材40向垂直于两姿势控制辊41、42的轴向的方向行走，而且一边进行涂布以便使涂布剂从涂布剂供给喷嘴机构44进入至上述照像凹版图案的沟内，一边以相对于基材40具有相对速度的圆周速度使在外周面形成有照像凹版图案(图中未示出)并配置在基材40下方的照像凹版辊43旋转，同时在实施涂布之前，通过刮刀47从该照像凹版辊43的表面擦掉剩余的涂布剂，从而在基材40的下侧表面涂布定量的涂布剂。在上述的照像凹版涂装方法中，过量地涂布于照像凹版辊43的照像凹版图案之沟内的涂布剂用刮刀47擦除，由此可以向照像凹版图案的沟内填充并供给适量的涂布剂，除此以外，基材40的行走方向和照像凹版辊43的旋转方向在相互的接触部互为反方向，所以照像凹版图案相对于基材40的下侧表面向相反方向滑动，从而能够在基材40的下侧表面薄薄地、均匀地且平滑地以在整个面上涂布的状态涂覆涂布剂，从而可以均匀地涂布形成膜厚为20μm以下的薄膜。然而，上述照像凹版涂装方法虽然适用于在整个面上涂布膜厚为20μm以下的较薄的薄膜，但有关在专利文献3中设置不涂布涂布剂的非涂覆形成区间、而且进行形成薄膜的间歇涂布的间歇涂装的技术，却没有任何的记载。-->如果用图9的照像凹版涂布装置进行间歇涂装，则可以想到的是：通过各自旋转自如地安装的一对姿势控制辊41、42以及一对导向辊48、49而设置基材40的行走路线的辊装置50被设计为如下的结构：以旋转支轴51为支点使其转动，以便辊装置50择一地位于图中的实线图示位置和双点划线图示位置，从而使基材40相对于照像凹版辊43接触或离开；或者包括照像凹版辊43、涂布剂供给喷嘴机构44以及涂布剂的收容罐52的整个机构被设计为上下移动的结构，从而使照像凹版辊43相对于基材40接触或离开；或者使一方的姿势控制辊42固定设置并以此为基准辊，而且使另一方的姿势控制辊41的旋转轴上下移动，从而使基材40相对于照像凹版辊43接触或离开。然而，在该方法中，用于使基材40和照像凹版辊43相互接触或离开的结构变得过于庞大，从而导致响应性极差，故而不能以高的生产效率间歇涂装薄膜。而且如图10A～图10B所示，在基材40的表面间歇地涂布形成的薄膜53正如上面所叙述的那样，伴随着间歇涂装时的响应性较差，基材40和照像凹版辊43相互间接触或离开时的稳定性较差，所以涂装时基材40的行走方向P的涂布终端53a沿着带状基材40的宽度方向不会成为精确的直线状，而是成为波浪线状，同时膜厚也容易变得不均匀。这样，特别在采用如下方式的情况下，即在使基材40从背面侧后退的方向上以及向表面侧前进的方向上移动另一方的姿势控制辊42，从而使基材40接触或离开照像凹版辊43，而且当在使基材40从背面侧后退的方向上移动姿势控制辊42而解除基材40向照像凹版辊43的推压力时，因在基材40上产生松弛而使涂布终端53a呈波浪线状且膜厚变得不均匀的问题更加显著地发生。专利文献1：特开平7-220759号公报专利文献2：特开平8-131934号公报专利文献3：特开2001-179151号公报
技术实现思路
-->本专利技术是鉴于上述以前的问题而完成的，目的在于提供一种薄膜的间歇涂装方法，其能够以高的生产效率间歇地涂覆形成薄膜，而且可以使涂布终端形成为具有优良直线性的高精度的形状。为了实现上述的目的，本专利技术的薄膜的间歇涂装方法提供一种如下的控制：将带状基材的背面侧卷绕于在相互平行的位置上对置的固定基准辊和可移动的作动辊上，与所述基准辊和作动辊平行地保持涂布剂的涂装部位，并使其沿一个方向行走，同时使附载着涂布剂的涂布辊与所述基准辊和所述作动辊的中间部位的所述基材相接触，在所述基材的表面转印并涂覆涂布剂，由此涂覆形成薄膜；使所述作动辊在预定的时机在从所述基材的背面侧后退的方向上移动，从而使所述基材离开所述涂布辊，与其联动而使张力辊在向所述基材的表面侧前进的方向上移动，从而赋予所述基材以张力；此后，使所述作动辊在预定的时机在向所述基材的表面侧前进的方向上移动，从而使所述基材接触所述涂布辊，与其联动而使张力辊在从所述基材的背面侧后退的方向上移动，从而使赋予所述基材的张力得以减少，并且在所述基材的表面以间歇的配置形成所述薄膜；为了使施加到所述基材上的张力经常保持恒定，所述张力辊在从所述基材的背面侧后退的方向上和向表面侧前进的方向上移动，以追踪所述作动辊在从所述基材的背面侧后退的方向上的移动。根据本专利技术，当作动辊在使基材从背面侧后退的方向上移动时，控制张力辊追踪作动辊的移动而向基材移动，以便使施加到所述基材上的张力可以保持预定值，故而于作动辊在使基材从背面侧后退的方向上移动的过程中，在基材上几乎不会产生松弛，从而可以维持基材张开架设在基准辊和张力辊之间的状态。另外，移动作动辊使基材从背面侧后退、而且向表面侧前进，单凭这样简单的手段便可以相互切换薄膜的涂覆形成区间和非涂覆形成区间，因而能够以极其良好的响应性进行切换，同时在涂覆形成区间和非涂覆形成区间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜的间歇涂装方法，其包括：　　　　将带状基材（１，３５）的背面侧卷绕于在相互平行的位置上对置的固定基准辊（４）和可移动的作动辊（７）上，与所述基准辊和作动辊平行地保持涂布剂（１８）的涂装部位，并使其沿一个方向行走，同时使附载着涂布剂的涂布辊（１９）与所述基准辊和所述作动辊的中间部位的所述基材相接触，在所述基材的表面转印并涂覆涂布剂，由此涂覆形成薄膜；　　　　使所述作动辊在预定的时机在从所述基材的背面侧后退的方向上移动，从而使所述基材离开所述涂布辊，与其联动而使张力辊（８）在向所述基材的表面侧前进的方向上移动，从而赋予所述基材以张力；　　　　此后，使所述作动辊在预定的时机在向所述基材的表面侧前进的方向上移动，从而使所述基材接触所述涂布辊，与其联动而使张力辊在从所述基材的背面侧后退的方向上移动，从而使赋予所述基材的张力得以减少，并且在所述基材的表面以间歇的配置形成所述薄膜；　　　　而且进行如下的控制：为了使施加到所述基材上的张力经常保持恒定，使所述张力辊在从所述基材的背面侧后退的方向上和向表面侧前进的方向上移动，以追踪所述作动辊在从所述基材的背面侧后退的方向上的移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-11-26 341697/2004;JP 2005-9-28 281940/20051.一种薄膜的间歇涂装方法，其包括：将带状基材(1，35)的背面侧卷绕于在相互平行的位置上对置的固定基准辊(4)和可移动的作动辊(7)上，与所述基准辊和作动辊平行地保持涂布剂(18)的涂装部位，并使其沿一个方向行走，同时使附载着涂布剂的涂布辊(19)与所述基准辊和所述作动辊的中间部位的所述基材相接触，在所述基材的表面转印并涂覆涂布剂，由此涂覆形成薄膜；使所述作动辊在预定的时机在从所述基材的背面侧后退的方向上移动，从而使所述基材离开所述涂布辊，与其联动而使张力辊(8)在向所述基材的表面侧前进的方向上移动，从而赋予所述基材以张力；此后，使所述作动辊在预定的时机在向所述基材的表面侧前进的方向上移动，从而使所述基材接触所述涂布辊，与其联动而使张力辊在从所述基材的背面侧后退的方向上移动，从而使赋予所述基材的张力得以减少，并且在所述基材的表面以间歇的配置形成所述薄膜；而且进行如下的控制：为了使施加到所述基材上的张力经常保持恒定，使所述张力辊在从所述基材的背面侧后退的方向上和向表面侧前进的方向上移动，以追踪所述作动辊在从所述基材的背面侧后退的方向上的移动。2.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，作动辊(7)和张力辊(8)相对于涂布辊(19)配置在基材(1)的行走方向侧。3.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，使用直径为40mm～60mm的涂布辊(19)。4.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，基准辊(4)和作动辊(7)以它们的轴间距离被设定为涂布辊(19)的直径的1.2-->倍～2.5倍的配置进行设置。5.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，作为所使用的涂布辊(19)，大量的涂布剂积存沟(19b)相对于所述涂布辊的轴心倾斜预定的角度，而且以相互平行的配置刻设在整个外周面上，并且涂布辊沿与基材(1)的行走方向相反的方向旋转，同时以恒压将刮刀(24)推向设置在所述涂布辊中各相邻的所述涂布剂积存沟之间的平坦面部(19c)，从而使附载在所述涂布辊上的涂布剂(18)的剩余部分刮落下来。6.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，以作动连结杆(12)将旋转轴(10)和作动辊的支轴(7a)相互连结起来，追踪所述作动辊(7)沿以所述旋转轴为支点的转动轨迹的移动，而将张力辊(8)设置为能够沿以经由连结杆(14)与自身的支轴(8a)连结的旋转支轴(13)为支点的转动轨迹移动，由此在基材(1)上从其背面侧施加恒定的压力，从而使赋予所述基材的张力保持恒定。7.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，在基材(35)的表面以间歇的配置涂覆形成涂覆层(36)之后，用传感器(38)检测出所述涂覆层的涂布始端和涂布终端(36a)，以与所述涂覆层相对应的间歇配置涂覆形成覆盖整个该涂覆层的薄膜(39)。8.根据权利要求7所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，将铜箔或铝箔用作基材(35)，在所述基材的表面涂覆形成电池用活性物质层作为涂覆层(36)，并在所述涂覆层的整个表面以及所述基材的一部分上涂覆形成多孔性保护膜作为薄膜(39)。9.根据权利要求1所述的薄膜的间歇涂装方法，其中，将薄膜(39)中相对于基材(35)的行走方向的终端部(39a)形成为沿所述基材的宽度方向呈直线状、且以比预定膜厚稍大的膜厚而突出的形状。-->10.一种薄膜的间歇涂装方法，其包括：将带状基材(1，35)的背面侧分...

【专利技术属性】
技术研发人员：寺元数孝，林彻也，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]