【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括具有光衍射特征的光透射区域的光电设备
[0001]相关申请
[0002]本申请要求2019年6月26日提交的美国临时专利申请号62/867,143和2020年4月17日提交的美国临时专利申请号63/011,941的优先权的权益,这两份临时专利申请各自的内容均全文以引用方式并入本文。
[0003]本公开涉及光电设备,特别涉及具有延伸穿过其中的光透射区域的光电设备。
技术介绍
[0004]在诸如有机发光二极管(OLED)的光电设备中,至少一个半导体层设置在一对电极(诸如阳极和阴极)之间。阳极和阴极电耦合到电源,并且分别产生空穴和电子,这些空穴和电子通过至少一个半导体层朝向彼此迁移。当一对空穴和电子结合时,可以发射光子。
[0005]OLED显示面板可以包括多个(子)像素,所述(子)像素中的每一个均具有相关联的电极对。此类面板的各种层和涂层通常通过基于真空的沉积技术来形成。
[0006]在一些应用中,可能期望使设备透过其基本上透明,同时仍然能够从其发光。在一些应用中,该设备包括延伸穿过其中的多个光透射区域。
[0007]在一些应用中,光透射区域的边界的形状可以将衍射图案赋予透射穿过其中的光,这可能使包含在透射光中的信息失真或以其他方式引起对该信息的干扰。
[0008]提供一种改进的机构将是有益的,该机构用于提供透过设备的透明度,同时便于减轻衍射图案造成的干扰。
附图说明
[0009]现在将通过参考以下附图来描述本公开的示例,其中不同附图中的相同附图标记指示 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光电设备,包括:多个光透射区域,每个光透射区域沿着第一轴线延伸穿过所述设备以允许光从中通过,所述光透射区域以沿着多条配置轴线延伸的配置进行布置,所述多条配置轴线中的每一条配置轴线基本上横向于所述第一轴线;至少一个发射区域,其沿着多条所述配置轴线设置在相邻的光透射区域之间,用于从所述设备发射光;每个光透射区域由横向于所述第一轴线的侧向方位上的闭合边界限定,所述闭合边界具有的形状改变在光透射穿过所述光透射区域时呈现的衍射图案的至少一个特征,以便于减轻所述衍射图案造成的干扰。2.根据权利要求1所述的光电设备,其中所述边界包括至少一个非线性区段。3.根据权利要求2所述的光电设备,其中所述边界是大致椭圆形的。4.根据权利要求2所述的光电设备,其中所述边界是大致圆形的。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光电设备,其中所述衍射特征是所述衍射图案中的多个尖峰。6.根据权利要求5所述的光电设备,其中所述尖峰的数目超过4、6、8、10、12、14和/或16中的至少一者。7.根据权利要求1至6中任一项所述的光电设备,其中所述特征是所述衍射图案的图案边界的长度。8.根据权利要求7所述的光电设备,其中所述衍射图案的图案周长与所述衍射图案的所述图案边界的长度的比率超过0.4、0.5、0.6、0.7、0.75、0.8、0.9和/或0.95中的至少一者。9.根据权利要求1至8中任一项所述的光电设备,其中在所述至少一个光透射区域上的光透射率基本上相同。10.根据权利要求1至8中任一项所述的光电设备,其中在所述至少一个光透射区域上的光透射率的变化小于20%、15%、10%、5%、2.5%和/或1%中的至少一者。11.根据权利要求1至10中任一项所述的光电设备,其中在所述多个光透射区域上的光透射率基本上相同。12.根据权利要求1至10中任一项所述的光电设备,其中在所述多个光透射区域上的光透射率的变化小于20%、15%、10%、5%、2.5%和/或1%中的至少一者。13.根据权利要求1至12中任一项所述的光电设备,其中在所述光透射区域中的至少一个光透射区域中的光透射率超过50%、60%、70%、80%和/或90%中的至少一者。14.根据权利要求1至13中任一项所述的光电设备,其中在所述发射区域中的至少一个发射区域中的穿过其中的光透射率小于约50%、40%、30%、20%、10%和/或5%中的至少一者。15.根据权利要求1至14中任一项所述的光电设备,其中所述设备基本上阻止光透射穿过其中,而允许光透射穿过所述至少一个光透射区域。16.根据权利要求15所述的光电设备,还包括至少一个不透明涂层,所述不透明涂层用于基本上阻止光沿着所述第一轴线透射穿过其中,并且具有至少一个孔,所述孔限定对应的至少一个光透射区域的闭合边界。
17.根据权利要求16所述的光电设备,其中所述不透明涂层被配置为过滤透射穿过所述至少一个光透射区域的光。18.根据权利要求16或17所述的光电设备,还包括:至少一个第一电极,所述至少一个第一电极在基本上横向于所述第一轴线的层中延伸并且电耦合到至少一个薄膜晶体管(TFT);至少一个第二电极,所述至少一个第二电极在基本上平行于所述第一电极的层中延伸;以及至少一个半导体层,所述至少一个半导体层在所述至少一个第一电极与所述至少一个第二电极之间延伸,其中包括所述至少一个第一电极、所述至少一个第二电极和两者间的所述至少一个半导体层的叠层限定所述至少一个发射区域。19.根据权利要求18所述的光电设备,其中所述至少一个不透明涂层沉积在所述至少一个第二电极上,并且包括至少一个开口以准许由所述至少一个发射区域发射的光从中通过。20.根据权利要求18或19所述的光电设备,还包括布置在所述至少一个第二电极与所述至少一个不透明涂层之间的封装涂层。21.根据权利要求18所述的光电设备,其中所述不透明涂层沉积在与所述至少一个第二电极相同的层上,并且还包括至少一个开口以准许由所述至少一个发射区域发射的光从中通过。22.根据权利要求18所述的光电设备,还包括具有第一表面和第二相对表面的基板,在所述第一表面上已沉积所述至少一个第一电极。23.根据权利要求22所述的光电设备,其中所述不透明涂层沉积在所述基板的所述第一表面上。24.根据权利要求23所述的光电设备,其中所述至少一个TFT形成在所述不透明涂层与所述至少一个第一电极之间。25.根据权利要求18所述的光电设备,其中所述不透明涂层沉积在所述基板的所述第二相对表面上。26.根据权利要求18所述的光电设备,其中所述不透明涂层设置在所述至少一个发射区域与所述基板之间。27.根据权利要求18至26中任一项所述的光电设备,还包括至少一个像素限定层(PDL),所述至少一个像素限定层沉积在所述至少一个第一电极的周界上并且限定对应于所述至少一个发射区域的开口以准许由所述发射区域发射的光从中通过。28.根据权利要求27所述的光电设备,其中所述至少一个光透射区域基本上没有所述至少一个第二电极。29.根据权利要求28所述的光电设备,其中所述至少一个半导体层延伸跨过所述至少一个光透射区域,并且图案化涂层设置在所述至少一个光透射区域的所述边界内的所述半导体层的暴露表面上,以阻止导电涂层沉积在其上,从而在所述至少一个光透射区域内形成所述至少一个第二电极。30.根据权利要求27至29中任一项所述的光电设备,其中所述至少一个光透射区域的所述边界基本上没有所述PDL。31.根据权利要求1至30中任一项所述的光电设备,其中多个发射区域设置在相邻的光
透射区域之间。32.根据权利要求31所述的光电设备,其中所述多个发射区域对应于像素,并且所述多个发射区域中的每个发射区域对应于其子像素。33.根据权利要求31或32所述的光电设备,其中每个子像素具有相关联的颜色和/或波长谱。34.根据权利要求31至33中任一项所述的光电设备,其中每个子像素对应于红色、绿色、蓝色和白色中的至少一种颜色。35.根据权利要求31至34中任一项所述的光电设备,其中所述多个发射区域按像素阵列布置。36.一种电子设备,包括:分层光电显示器,所述分层光电显示器限定所述设备的正面;和收发器,所述收发器在所述设备内并且被定位成跨所述显示器交换至少一个电磁信号;其中所述显示器包括:多个光透射区域,每个光透射区域沿着基本上横向于所述正面的第一轴线延伸穿过所述设备,用于允许入射在所述正面上的光从中通过,所述光透射区域以沿着多条配置轴线延伸的配置进行布置,所述多条配置轴线中的每一条配置轴线基本上横向于所述第一轴线;至少一个发射区域,其沿着多条所述配置轴线设置在相邻的光透射区域之间,用于从所述显示器发射光;每个光透射区域由横向于所述第一轴线的侧向方位上的闭合边界限定,所述闭合边界具有的形状改变在光透射穿过所述光透射区域时呈现的衍射图案的至少一个特征,以便于减轻所述衍射图案造成的干扰;并且所述收发器定位在所述设备内以接受沿着至少一...
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