【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括高和低发射率涂覆层的基本透明的基材
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]这一申请要求2019年7月1日提交的美国专利申请号16/458,881的优先权和所有权益,其公开内容专门通过引用全部并入本文。
[0003]专利技术背景
1.专利
[0004]本专利技术整体上涉及发射率涂覆层,其用于基本透明的基材,并且特别地用于用作被动辐射冷却系统的包括在其上设置的高和低发射率涂覆层的基本透明的基材。
[0005]2.现有技术描述
[0006]透明或基本透明的基材例如在汽车或建筑窗玻璃(或玻璃)中使用的那些本质上是高热发射的。为了改进这些未经处理的基材的热控制(隔绝和太阳光学性质),可典型地通过热解化学气相沉积或磁控溅射将低发射率涂料组合物的薄膜涂层施加至这样的基材的表面,以形成经处理的基材。当将这些经处理的基材安装在具有内部空间的结构的开口(所述内部空间位于这样的开口附近,例如交通工具的乘客舱或建筑的内部空间)内时,包括低发射率涂覆层通过阻隔(即反射和/或吸收)一定量的IR(红外)辐射和任选地还通过阻隔一定量的紫外(UV)辐射起到最小化这样的结构的内部空间内热累积的作用。
[0007]然而,低发射率涂覆层典型地是具有有限耐久性的软的涂覆层(即涂覆层具有如在肖氏硬度标度上测量的相对低的硬度)。因此,在安装过程中或在随后使用期间,容易损伤这样的低发射率涂覆层。因此,由于可能直接暴露于最终使用者,不能使用一些低发射率涂层材料(例如基于Ag的低发射率涂层材料)。或者,如果使用这样的低发射率涂层 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.经处理的基材,包含:基材;在所述基材上设置的低发射率涂覆层,所述低发射率涂覆层由低发射率涂料组合物形成;和在所述低发射率涂覆层上设置的高发射率涂覆层,使得所述低发射率涂覆层在所述高发射率涂覆层和所述基材之间,所述高发射率涂覆层由包含根据式Si
x
O
y
C
z
的碳掺杂的氧化硅的高发射率涂料组合物形成,其中x、y和z代表硅、氧和碳原子在所述高发射率涂料组合物中的重量百分比分数,其中x范围为10
‑
80重量%,y范围为20
‑
90重量%,且z范围为2
‑
50重量%,并且其中x+y+z之和为100重量%。2.根据权利要求1所述的经处理的基材,其中所述经处理的基材具有在小于6微米的波长下从大于0至0.3的发射率,和在范围为8微米
‑
13微米的波长下从0.7至小于1.0的发射率。3.根据权利要求1或权利要求2所述的经处理的基材,其中所述基材包含具有第一表面和相对的第二表面的玻璃板,并且其中所述低发射率涂覆层设置在所述第一表面和所述高发射率涂覆层之间。4.根据前述权利要求中任一项所述的经处理的基材,其中所述基材包含层叠的玻璃组件,所述玻璃组件包含:具有向内的表面和相对的向外的表面的第一透明片;具有向内的表面和相对的向外的表面的第二透明片;和在所述第一和第二透明片中每个的所述向内的表面之间设置的聚合物中间层,其中所述低发射率涂覆层设置在所述第一透明片的所述向内的表面或所述向外的表面之一上。5.根据权利要求4所述的经处理的基材,其中所述低发射率涂覆层设置在所述第一透明片的所述向内的表面上和所述高发射率涂覆层在所述低发射率涂覆层和所述中间层之间。6.根据权利要求4所述的经处理的基材,其中所述低发射率涂覆层设置在所述第一透明片的所述向外的表面上,使得所述低发射率涂覆层在所述高发射率涂覆层和所述第一透明片之间。7.根据前述权利要求中任一项所述的经处理的基材,具有按照ASTM D2486
‑
17测试的至少150次测试循环的视觉上可接受的耐机械刷耐久性。8.根据前述权利要求中任一项所述的经处理的基材,其中所述经处理的基材具有在范围为8微米
‑
13微米的波长下从0.8至小于1.0的发射率和在小于6微米的波长下在0和0.1之间的发射率。9.根据前述权利要求中任一项所述的经处理的基材,其中所述低发射率涂覆层具有范围为0.05
‑
0.5微米的厚度。10.根据前述权利要求中任一项所述的经处理的基材,其中所述高发射率涂覆层具有范围为3
‑
50微米的厚度。11.根据前述权利要求中任一项所述的经处理的基材,其中所述低发射率涂料组合物
包含透明的传导性涂料组合物,所述透明的传导性涂料组合物包括氧化银、氧化铟钨或氟掺杂的氧化锡。12.系统,包含:限定内部区域和开口的结构;和根据前述权利要求任一项所述的经处理的基材,设置在所述开口内用于当光在朝向所述内部区域的方向上透过所述经处理的基材时从所述结构的所述内部区域去除热。13.根据权利要求12所述的系统,其中所述基材包含所述玻璃板,并且其中所述经处理的基材定位在所述开口内使得所述高发射率层与所述内部区域相邻,并且使得所述高发射率层设置在所述内部区域和所述低发射率层之间。14.根据权利要求12所述的系统,其中所述基材包含所述玻璃板,并且其中所述经处理的基材定位在所述开口内使得第二表面与所述内部区域相邻,并且使得所述玻璃基材设置在所述内部区域和所述低发射率涂覆层之间。15.根据权利要求12所述的系统,其中所述基材包含所述层叠的玻璃组件,并且其中所述经处理的基材定位在所述开口内使得所述第一透明片在所述内部区域和所述第二透明片之间。16.根据权利要求12所述的系统,...
【专利技术属性】
技术研发人员:J,
申请(专利权)人:旭硝子北美平板玻璃公司,
类型:发明
国别省市:
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