一种自密封陶瓷罐及其制备方法技术

本申请涉及一种自密封陶瓷罐，包括罐体和盖体；所述盖体的第一端面上设有限位台阶；所述限位台阶的第二端面上设有密封口沿；所述第一端面和所述第二端面均朝向所述罐体；所述罐体包括罐体颈部和主体部分；所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部内侧壁与所述密封口沿外侧壁相抵触，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面相抵触。本发明专利技术提供的陶瓷罐的罐体和盖体之间的间隙能够很好的做到尺寸统一精准，罐体和盖体能够很好的匹配。罐体和盖体能够很好的匹配。

【技术实现步骤摘要】
一种自密封陶瓷罐及其制备方法


[0001]本申请涉及一种自密封陶瓷罐及其制备方法，属于陶瓷


技术介绍

[0002]密封罐是日常生活中常使用的保鲜容器，如茶叶的保存是影响茶叶品质的一个重要因素，传统茶叶的陶瓷茶叶罐包括罐体和盖子，陶瓷细腻，不生锈，不吸水，易洗涤，美观典雅，没有异味。由于陶瓷在烧制的过程中，陶瓷胚体具有一定的收缩比例，因此无法做到完全密封，在烧制过程中，由于高温导致陶瓷罐盖与罐体配合精密度不高，且易发生偏移现象，密封不是很好。

技术实现思路

[0003]根据本申请的一个方面，提供了一种自密封陶瓷罐，该陶瓷罐的罐体和盖体之间的间隙能够很好的做到尺寸统一精准，罐体和盖体能够很好的匹配。
[0004]根据本申请的第一方面，提供了一种自密封陶瓷罐，包括罐体和盖体；所述盖体的第一端面上设有限位台阶；所述限位台阶的第二端面上设有密封口沿；所述第一端面和所述第二端面均朝向所述罐体；所述罐体包括罐体颈部和主体部分；所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部内侧壁与所述密封口沿外侧壁相抵触，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面相抵触。
[0005]可选地，所述限位台阶的形状为环形；
[0006]所述密封口沿的形状为环形。
[0007]可选地，所述限位台阶的第二端面沿竖直方向上设有所述密封口沿。
[0008]具体地，本申请中限位台阶的第二端面沿竖直方向上设有密封口沿，罐体颈部也沿竖直方向上设置，可实现在盖合时，盖体自动下滑罐体内，直至密封，无需任何外力和配件。
[0009]可选地，所述密封口沿的高度为1～4cm。
[0010]优选地，所述密封口沿的高度为2～3cm。
[0011]可选地，所述密封口沿外侧壁和所述罐体颈部内侧壁均为抛光过的无釉的光滑陶瓷面。
[0012]可选地，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述密封口沿外侧壁与所述罐体颈部内侧壁的间隙为0.01～0.4mm。
[0013]优选地，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述密封口沿外侧壁与所述罐体颈部内侧壁的间隙为0.01～0.3mm。
[0014]进一步优选地，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述密封口沿外侧壁与所述罐体颈部内侧壁的间隙为0.01～0.25mm。
[0015]可选地，所述罐体颈部的上端面和所述限位台阶的第二端面均为抛光过的无釉的光滑陶瓷面。
[0016]可选地，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面的间隙为0.01～0.4mm。
[0017]优选地，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面的间隙为0.01～0.3mm。
[0018]进一步优选地，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面的间隙为0.01～0.25mm。
[0019]可选地，所述盖体上还设置有手持部；所述手持部设于所述盖体的上端面。
[0020]根据本申请的第二方面，提供了一种上述自密封陶瓷罐的制备方法，所述方法至少包括：
[0021](1)分别制备罐体坯体和盖体坯体，制备时，盖体密封口沿的厚度大于烧制成型时盖体密封口沿的厚度；罐体颈部的厚度大于烧制成型时罐体颈部的厚度，留出加工量；
[0022](2)在罐体内和罐体外施釉，在盖体内和盖体外施釉；
[0023](3)将施釉后的盖体和罐体置于窑炉中烧制成型；
[0024](4)取出盖体和罐体，将盖体进行磨研，形成密封口沿和限位台阶；
[0025](5)对罐体颈部内侧壁进行内圆磨研，然后抛光；对盖体密封口沿外侧壁进行外圆磨研，然后抛光；对限位台阶的第二端面和罐体颈部的上端面均进行平面磨研，然后抛光；
[0026](6)抛去釉面层，至满足工艺要求。
[0027]本申请中制备坯体时，盖体密封口沿的厚度要稍厚，大于烧制成型时盖体密封口沿的厚度，罐体颈部的厚度也要稍厚，大于烧制成型时罐体颈部的厚度，因为在后续制备密封口沿、限位台阶和磨研时，都会磨去一部分厚度。
[0028]可选地，在所述步骤(4)中，所述磨研在磨床上进行；
[0029]在所述步骤(5)中，所述内圆磨研、所述外圆磨研和所述平面磨研均在磨床上进行。
[0030]可选地，本申请中的磨研都在磨床上进行，利用磨床的刻度，可实现本申请中密封口沿外侧壁与所述罐体颈部内侧壁的间隙控制和罐体颈部的上端面与限位台阶的第二端面的间隙控制。
[0031]可选地，所述磨床使用的磨轮选自树脂金刚石砂轮。
[0032]本申请能产生的有益效果至少包括：
[0033](1)使用本专利技术的制备方法，可以使罐体和盖体之间的间隙能够做到尺寸统一精准，可实现大量生产，并且生产成本低；
[0034](2)本专利技术提供的陶瓷罐的罐体和盖体能够很好的匹配，且结构简单，无需任何密封组件，外观美观，容易制备；
[0035](3)本专利技术的陶瓷罐密封性能好，盖体盖设于罐体上时盖体密封口沿外侧壁与罐体颈部内侧壁的间隙小，盖体限位台阶第二端面与罐体颈部上端面间隙小，且平整，水平一致，可达到上下左右全方位密封；
[0036](4)本专利技术的盖体和罐体可分开制备，标准化程度高，可以任意匹配，大大降低生产损耗，使用方便，直接将盖体和罐体盖合即可自动实现对罐体的全方面密封。
附图说明
[0037]图1为本专利技术自密封陶瓷罐盖合时的立体结构示意图；
[0038]图2为本专利技术自密封陶瓷罐盖合时的正视图；
[0039]图3为本专利技术自密封陶瓷罐的盖体立体结构示意图；
[0040]图4为本专利技术自密封陶瓷罐的罐体立体结构示意图；
[0041]图5为本专利技术自密封陶瓷罐盖合时的局部放大示意图；
[0042]图6为本专利技术自密封陶瓷罐盖体和罐体分离时的正视图。
[0043]附图中的附图标记说明如下：
[0044]1、盖体；2、罐体；3、手持部；4、第一端面；5、限位台阶；6、密封口沿；7、罐体颈部；8、主体部分；9、罐体颈部内侧壁；10、密封口沿外侧壁；11、第二端面；12、罐体颈部的上端面。
具体实施方式
[0045]下面结合实施例详述本申请，但本申请并不局限于下述实施例。
[0046]下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
[0047]在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“竖直方向”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0048]此外，术语“第一”、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自密封陶瓷罐，其特征在于，包括罐体和盖体；所述盖体的第一端面上设有限位台阶；所述限位台阶的第二端面上设有密封口沿；所述第一端面和所述第二端面均朝向所述罐体；所述罐体包括罐体颈部和主体部分；所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部内侧壁与所述密封口沿外侧壁相抵触，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面相抵触。2.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述限位台阶的形状为环形；所述密封口沿的形状为环形。3.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述限位台阶的第二端面沿竖直方向上设有所述密封口沿。4.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述密封口沿的高度为1～4cm。5.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述密封口沿外侧壁和所述罐体颈部内侧壁均为抛光过的无釉的光滑陶瓷面。6.根据权利要求5所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述密封口沿外侧壁与所述罐体颈部内侧壁的间隙为0.01～0.4mm。7.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述罐体颈部的上端面和所述限位台阶的第二端面均为抛光过...

【专利技术属性】
技术研发人员：金晖，
申请(专利权)人：金晖，
类型：发明
国别省市：