一种电控多缝衍射光栅设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种电控多缝衍射光栅设备，包括液晶盒，液晶盒内设置有偏光组件、玻璃基板、设置在玻璃基板上的ITO薄膜、以及液晶层；偏光组件包括上偏光片和下偏光片；玻璃基板包括上玻璃基板和下玻璃基板，上玻璃基板和下玻璃基板分别设置在上偏光片和下偏光片的内侧；液晶层设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间，液晶层的两侧分别设置有上PI导向膜和下PI导向膜。本实用新型专利技术能够通过液晶盒实现光栅的单缝衍射、双缝衍射和多缝衍射，并广泛应用于需要调整光栅参数的领域；根据液晶盒结构特征，当加电时，将液晶盒可以作为衍射光栅使用；通过控制ITO薄膜的电极加电或不加电、加电电极数量及相邻加电电极的间距，实现光栅参数的有限控制。有限控制。有限控制。

【技术实现步骤摘要】
一种电控多缝衍射光栅设备


[0001]本技术涉及光栅
，具体地说是一种电控多缝衍射光栅设备。

技术介绍

[0002]光栅(grating)是由大量等宽等间距的平行狭缝构成的光学器件。一般常用的光栅是在涂黑的玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕为不透光部分，两刻痕之间的光滑部分可以透光，相当于一狭缝。精制的光栅，在1cm宽度内刻有几千条乃至上万条刻痕。这种利用透射光衍射的光栅称为透射光栅，还有利用两刻痕间的反射光衍射的光栅，如在镀有金属层的表面上刻出许多平行刻痕，两刻痕间的光滑金属面可以反射光，这种光栅称为反射光栅。
[0003]光栅最早应用于光谱仪器，随着科学技术的发展，其在计量学、天文学、集成光学、光通信、原子能等方面已被广泛应用，在科研和技术等诸多领域成为无可替代的及其重要的工具，光栅推动了科学技术的发展，对光栅的需求也越来越大。因此，提供一种电控多缝衍射光栅设备，对其推广应用具有重要意义。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请的目的在于提供一种电控多缝衍射光栅设备，以实现光栅的单缝衍射、双缝衍射和多缝衍射，并广泛应用于需要调整光栅参数的领域。
[0005]为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。
[0006]一种电控多缝衍射光栅设备，包括液晶盒，所述液晶盒内设置有偏光组件、玻璃基板、设置在玻璃基板上的ITO薄膜、以及液晶层；
[0007]所述偏光组件包括上偏光片和下偏光片；所述玻璃基板包括上玻璃基板和下玻璃基板，所述上玻璃基板和下玻璃基板分别设置在上偏光片和下偏光片的内侧；
[0008]所述上玻璃基板和下玻璃基板的内侧分别设置有上ITO薄膜、下ITO薄膜；
[0009]所述液晶层设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间，所述液晶层的两侧分别设置有上PI导向膜和下PI导向膜。
[0010]优选地，所述ITO薄膜为线条结构，相邻ITO薄膜之间设置有刻蚀间隙，ITO薄膜在玻璃基板上等间距阵列分布。
[0011]优选地，所述ITO薄膜的宽度为1～10μm，所述刻蚀间隙的宽度与所述ITO薄膜的宽度相等。
[0012]优选地，所述液晶层采用负性液晶，液晶层的厚度为D，D＝1.8～2.2μm；所述液晶层的光学双折射差值为Δn，Δn＝0.13～0.142μm。
[0013]优选地，所述上PI导向膜和下PI导向膜均采用预倾角大于等于89.5
°
的聚酰亚胺材料。
[0014]优选地，所述上PI导向膜和下PI导向膜的摩擦方向水平投影垂直于ITO薄膜的长边；所述上PI导向膜和下PI导向膜的摩擦方向在玻璃基板平面上反平行。
[0015]优选地，所述下偏光片的透过轴与下PI导向膜的摩擦方向成45
°
夹角，所述上偏光片的透过轴与下偏光片的透过轴在水平方向上的投影垂直。
[0016]本技术所获得的有益技术效果：
[0017]本技术能够通过液晶盒实现光栅的单缝衍射、双缝衍射和多缝衍射，并广泛应用于需要调整光栅参数的领域；根据液晶盒结构特征，当加电时，将液晶盒可以作为衍射光栅使用；通过控制ITO薄膜电极加电或不加电、加电电极数量及相邻加电电极的间距，实现光栅参数的有限控制，大大提高光栅参数的可调性。
[0018]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
[0019]根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
[0021]图1是本公开一种实施例中电控多缝衍射光栅设备中液晶盒的结构示意图；
[0022]图2是本公开一种实施例中液晶盒不加电时的结构示意图；
[0023]图3是本公开一种实施例中液晶盒中ITO薄膜电极加电时的结构示意图。
[0024]在以上附图中：110、上偏光片；120、下偏光片；210、上玻璃基板；220、下玻璃基板；310、上ITO薄膜；320、下ITO薄膜；410、液晶层；420、上PI导向膜；430、下PI导向膜。
具体实施方式
[0025]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本申请的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本申请的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。
[0026]应该理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“本实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“一个实施例”或“本实施例”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。
[0027]此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。
[0028]本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关
系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，单独存在B，同时存在A和B三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，A/和B，可以表示：单独存在A，单独存在A和B两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。
[0029]本文中术语“至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和B的至少一种，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。
[0030]还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。
[0031]如附图1所示，一种电控多缝衍射光栅设备，包括液晶盒，所述液晶盒内设置有偏光组件、玻璃基板、设置在玻璃基板上的ITO薄膜、以及液晶层410本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电控多缝衍射光栅设备，其特征在于，包括液晶盒，所述液晶盒内设置有偏光组件、玻璃基板、设置在玻璃基板上的ITO薄膜、以及液晶层(410)；所述偏光组件包括上偏光片(110)和下偏光片(120)；所述玻璃基板包括上玻璃基板(210)和下玻璃基板(220)，所述上玻璃基板(210)和下玻璃基板(220)分别设置在上偏光片(110)和下偏光片(120)的内侧；所述液晶层设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间，所述液晶层的两侧分别设置有上PI导向膜(420)和下PI导向膜(430)。2.根据权利要求1所述的电控多缝衍射光栅设备，其特征在于，所述ITO薄膜为线条结构，相邻ITO薄膜之间设置有刻蚀间隙，ITO薄膜在玻璃基板上等间距阵列分布。3.根据权利要求2所述的电控多缝衍射光栅设备，其特征在于，所述ITO薄膜的宽度为1～10μm，所述刻蚀间隙的宽度与所述ITO薄膜的宽度相等。4.根据权利要求1所述的电控多缝衍射光栅设备，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐志栋，
申请(专利权)人：苏州润博希电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：